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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種多功能寬密度等離子體放電方法，涉及等離子體技術(shù)領(lǐng)域，包括步驟：S1、系統(tǒng)設(shè)計(jì)與構(gòu)建；S2、等離子體放電模式切換；S3、等離子體輔助化學(xué)氣相沉積；S4、等離子體輔助原子層沉積；S5、系統(tǒng)性能優(yōu)化與驗(yàn)證。該多功能寬密度等離子體放...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種氧化物固態(tài)電解質(zhì)薄膜的磁控濺射制備工藝，涉及電解質(zhì)制備領(lǐng)域，包括以下步驟：襯底預(yù)處理、動(dòng)態(tài)溫度控制濺射、梯度多層結(jié)構(gòu)沉積、原位退火處理與后處理。本發(fā)明通過(guò)多步驟優(yōu)化提升氧化物固態(tài)電解質(zhì)薄膜性能：襯底預(yù)處理提升清潔度與結(jié)合強(qiáng)度...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種高硬度模具鋼洗銑刀具用涂層及其制備，屬于銑刀涂層技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明提供一種高硬度模具鋼洗銑刀具用涂層的制備方法，其步驟包括，將銑刀超聲清洗清洗后，去離子水漂洗并干燥，預(yù)熱，得到處理后的基材，接著采用多弧離子鍍對(duì)處理后的基材進(jìn)行底...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種熱鍍鋅帶鋼邊部粘渣處理裝置，涉及熱鍍鋅氣刀系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域，包括：氣刀邊部擋板和粘渣處理裝置，氣刀邊部擋板設(shè)置有陶瓷輪，陶瓷輪用于與帶鋼接觸并保證帶鋼與氣刀邊部擋板的標(biāo)定距離，陶瓷輪的下方設(shè)置有粘渣處理裝置安裝工位；粘渣處理...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及微納米粉末表面沉積包覆設(shè)備領(lǐng)域，提供了一種微納米粉末表面沉積包覆回轉(zhuǎn)窯爐，包括爐體及爐體回轉(zhuǎn)管和多孔分散板及擋板組成的隔倉(cāng)、工作氣體系統(tǒng)和加料裝置，工作氣體系統(tǒng)包括若干流化包覆材料或氣態(tài)包覆前驅(qū)體材料進(jìn)氣管、比例閥組，比例閥組...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及氧化硅高阻隔膜真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體公開(kāi)了一種氧化硅高阻隔膜用真空鍍膜設(shè)備，包括基座，所述基座的頂部固定安裝有真空鍍膜箱，所述真空鍍膜箱的頂部固定安裝有加熱裝置，本發(fā)明通過(guò)疏導(dǎo)機(jī)構(gòu)與定位機(jī)構(gòu)的聯(lián)動(dòng)設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)了氣流調(diào)控與動(dòng)力傳導(dǎo)的協(xié)...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N陶瓷基低頻吸波涂層及其制備方法和應(yīng)用，其中，陶瓷基低頻吸波涂層的制備方法包括：對(duì)金屬基底進(jìn)行倒角、去油、噴砂處理后，采用等離子噴涂工藝在所述金屬基底上制備粘結(jié)層；采用等離子噴涂工藝在所述粘結(jié)層上制備陶瓷層，再將鋁膜膠帶貼在所...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及微波等離子體技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種樣品臺(tái)組件及MPCVD裝置，所述樣品臺(tái)組件包括底座和鉬臺(tái)，還包括銅板，所述鉬臺(tái)套設(shè)在銅板上，所述銅板套設(shè)在底座上，所述銅板設(shè)置有凹槽，所述凹槽與底座形成通道，所述底座設(shè)置有冷卻介質(zhì)入口和...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種鍍膜設(shè)備，包括：等離子體組件，包括：第一電極組件；第二電極組件，與第一電極組件的間隙形成沉積空間，物料位于沉積空間；熱絲組件，用于利用溫度場(chǎng)使反應(yīng)物分解。本發(fā)明的技術(shù)方案中，同時(shí)采用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積和熱絲化學(xué)...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及一種用于安裝卡盤(pán)和玻璃基板的裝配設(shè)備，包括殼體、輸送組件、第一除塵組件、第二除塵組件和裝配組件。殼體內(nèi)形成有裝配腔室，輸送組件包括多個(gè)滾輪。第一除塵組件包括吸塵罩和磁鐵，吸塵罩罩設(shè)于滾輪的外圍，磁鐵設(shè)置于吸塵罩上，磁鐵和/或吸...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種高熵稀土鈮酸鹽涂層的制備方法，屬于陶瓷涂層材料技術(shù)領(lǐng)域。所述方法采用大氣等離子噴涂，先將NiCrCoAlY粉體噴涂到基體上制得粘結(jié)層，再將噴涂用的(La0.2Nd0.2Sm...
								
        
							
        
							
						
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								      一種鍍膜設(shè)備，包括爐管和一對(duì)舟腳電極。爐管包括鍍膜腔體，鍍膜腔體用以容置用于承載鍍膜工件的石墨舟。該對(duì)舟腳電極設(shè)置在鍍膜腔體中。每一個(gè)舟腳電極包括用于與石墨舟接觸的結(jié)合面。密封圈固定設(shè)置在結(jié)合面上且延伸成封閉的圈狀。當(dāng)石墨舟的舟腳抵持在結(jié)合...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種圓鋼鍍鋅生產(chǎn)防腐蝕裝置，包括機(jī)架和移動(dòng)架，所述機(jī)架上安裝有用于驅(qū)動(dòng)移動(dòng)架上下移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，移動(dòng)架轉(zhuǎn)動(dòng)安裝有兩對(duì)稱(chēng)設(shè)置的安裝盤(pán)，移動(dòng)架上安裝有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置一，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置一的輸出端與安裝盤(pán)傳動(dòng)連接，安裝盤(pán)上設(shè)有若干限位槽...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種提純型蒸發(fā)鍍鋁裝置，其安裝在真空腔體上，包括：預(yù)熱機(jī)構(gòu)，用于熱熔鋁材料以得到鋁液；引流管，其設(shè)置在所述預(yù)熱機(jī)構(gòu)的出料口；升降機(jī)構(gòu)，其與所述引流管傳動(dòng)連接以帶動(dòng)所述引流管上下移動(dòng)，以關(guān)閉或開(kāi)啟所述預(yù)熱機(jī)構(gòu)的出料口；蒸發(fā)舟機(jī)...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種應(yīng)用在塑膠上的黑色裝飾性膜層的制備方法，包括電鍍，清洗，烘烤，輝光清洗和物理氣相沉積過(guò)程步驟，其中，所述物理氣相沉積過(guò)程通過(guò)使用中頻磁控濺射方式在塑膠基材上沉積鉻鎢合金層，之后再通入乙炔反應(yīng)氣體，并使用中頻磁控濺射方式使得乙...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明主要涉及金屬表面處理技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種鍍錫銅絲的表面處理工藝，包括以下步驟，酸洗活化，采用磷酸?硫酸混合液，對(duì)銅絲進(jìn)行酸洗活化，得到銅絲預(yù)制體；將銅絲預(yù)制體浸入硅烷偶聯(lián)劑溶液中，得到銅絲中間體；將銅絲中間體加熱后放入含有稀土La顆粒...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及光學(xué)器件技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種調(diào)制器及制備方法，一種調(diào)制器包括襯底層和在襯底層上交叉設(shè)置的n層SiO2層和n層GST層，其中襯底層上至底向上第一層為GST層；調(diào)制器中還包括設(shè)置n個(gè)GST層上對(duì)應(yīng)布設(shè)的a個(gè)電極...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種CrAlTiWCoN高熵合金氮化物涂層及其制備方法，所述復(fù)合涂層包括依次形成于基體表面的過(guò)渡層底層CrAlTiW合金層、過(guò)渡層上層CrAlTiWN氮化物層、工作層CrAlTiWCoN，所述工作層CrAlTiWCoN包括如下元...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供能降低磁搬運(yùn)中的磁性對(duì)磁式的位置檢測(cè)造成的影響的搬運(yùn)裝置及載架。搬運(yùn)裝置具備：搭載基板的載架；利用磁力搬運(yùn)所述載架的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)；以及對(duì)所述載架的搬運(yùn)方向的位置進(jìn)行檢測(cè)的磁式的檢測(cè)機(jī)構(gòu)，所述載架具備：對(duì)所述基板進(jìn)行支承的基板支承部；經(jīng)...
								
        
							
        
							
						
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								      本公開(kāi)涉及氣相沉積系統(tǒng)和方法。在一個(gè)實(shí)施方式中，提供了用于氣相沉積的滾筒。所述滾筒包含具有氣體狹縫的外殼和冷卻滾筒。所述冷卻滾筒包括外部區(qū)域、內(nèi)部區(qū)域、部分由所述外部區(qū)域和所述內(nèi)部區(qū)域定義的第一流體通道，以及第一進(jìn)口。所述第一流體通道在所述...
								
        
							
        
							
						
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