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								      本發明涉及原子層沉積技術領域，尤其涉及一種實現粉體連續原子級包覆的裝置及方法，所述實現粉體連續原子級包覆的裝置包括機架及依流水線設于機架上的反應腔室、橫向穿設過反應腔室的反應管段、設于機架上用于驅動反應管段繞軸轉動的轉動驅動裝置，所述反應管...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請涉及一種熱鍍鋅鐵絲高效冷卻裝置，其包括冷卻箱和水池，冷卻箱的上端設有冷卻槽，冷卻箱的一端設有進料口，冷卻箱的另一端設有出料口，進料口和出料口均連通于冷卻槽，熱鍍鋅鐵絲依次穿過進料口和出料口，冷卻箱的下端設有供水口，冷卻箱的上端設有溢水...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及C23C22/34，具體涉及一種鋁材模具的表面防氧化工藝及制得的鋁材模具。包括以下步驟：1)鋁材模具進行除脂除油處理，然后放于清水中進行清洗后，氮氣吹干；2)將鋁材模具浸泡于鈍化液的水溶液進行鈍化處理；3)使用清水將浸泡后的模具清...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明提供了一種氯化物氣相沉積裝置，屬于氣相沉積技術領域；氯化物氣相沉積裝置包括：工作臺、反應室機構、供氣機構、噴淋盒組件、供氣管道、高頻電源、電感線圈、升降機構、安裝座、石墨支撐筒組件、樣品托組件和真空機構；通過使升降機構帶動安裝座上下移...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種具有優良脫脂性能的鋅鎂鋁鍍層鋼板及其制造方法，所述鋅鎂鋁鍍層鋼板包括鋼板基板，所述鋼板基板的至少一面上由基板至外依次包括鋅鎂鋁鍍層、氧化錫膜層、防銹油層，所述鋅鎂鋁鍍層鋼板能夠改善鋅鎂鋁鍍層脫脂性、膠粘性能，且工藝過程不需要...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種熱鍍鋅酸洗封閉裝置，涉及熱鍍鋅酸洗技術領域，包括清洗臺，所述清洗臺的頂部靠近四個角分別固定連接有立柱，四個所述立柱的頂部固定連接有頂板，所述頂板的頂部設置有升降機構，所述清洗臺的頂部固定連接有酸洗池，所述升降機構的外壁底...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及一種WTe2電極單分子測試芯片及其制備方法，包括以下步驟：對所述電極圖案進行磁控濺射鍍金屬鎢，使金屬鎢覆蓋所述電極圖案形成金屬鎢薄膜，洗去光刻膠，得到與所述電極圖案相對應的金屬鎢電極；將所述金屬鎢電極進行高溫...
								
        
							
        
							
						
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								      一種金屬陶瓷高溫抗氧化復合涂層，包括面涂層和底涂層；所述面涂層為二氧化硅溶膠型涂層或二氧化硅溶膠與金屬氧化物結合的涂層；所述底涂層為二氧化硅溶膠和金屬?鉻鋁釔合金粉末結合涂層。制備方法，包括制備硅烷水解液、制備二氧化硅溶膠型涂料、將二氧化硅...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種不銹鋼黑化劑及其制備與應用方法，屬于化工材料技術領域。以1*103份不銹鋼黑化劑計，包括以下重量份原料：強堿350～450份、硫氰酸鈉75～85份、硫代硫酸鈉35～45份、穩定劑3～6份及緩蝕劑0.1～...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及一種銅包覆鉬結構涂層的鋁基體表面改性方法，包括依次對鋁基體試樣表面進行打磨、拋光、清洗的步驟、分別以銅靶材和鉬靶材的濺射磁控驅動靶對鋁基體試樣表面進行濺射，實現在鋁基體試樣表面形成銅包覆鉬涂層的步驟及取出步驟。同時，本發明還提供了...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明屬于等離子噴涂技術領域，具體涉及一種用于在復材基體上制備碳化鉭涂層的制備方法及噴涂保護裝置，通過將復材基體置于具有焰流保護組件、氣氛填充組件以及切向焰流加速組件的反應罩體中，使得通過焰流保護組件通入保護氣體以在等離子起弧后對反應腔內的...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及一種超高純碳化硅化學氣相沉積設備，屬于碳化硅加工技術領域，包括支撐板，所述支撐板的頂部可拆卸連接有反應室，所述支撐板上設置有放置結構；所述放置結構包括反應室外壁設置的連接板，所述連接板的底部固定連接有電動伸縮桿，所述電動伸縮桿...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了鍍膜設備技術領域內的一種用于高真空鍍膜設備的擋片同步升降結構，包括：基片臺升降組件，安裝在真空腔上，用以驅動基片臺升降，包括伸入真空腔設置的基片臺以及控制基片臺升降的基片臺驅動組件；擋片升降組件，安裝在真空腔上，用于驅動擋片...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及真空鍍膜機技術領域，且公開了一種可對活塞環均勻鍍膜的真空鍍膜機，底板的底部設置有固定塊，底板的頂部設置有真空鍍膜機構，真空鍍膜機構的內部設置有均勻轉動固定機構，固定塊的底部設置有支撐底板，均勻轉動固定機構包括均勻轉動組件與固定...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型提供一種用于優化大尺寸晶圓薄膜均勻性的裝置，涉及超導量子計算技術領域。一種用于優化大尺寸晶圓薄膜均勻性的裝置，包括真空腔室、控制電腦、遙控手柄和樣品臺，所述真空腔室的內部固定連接有電子束蒸發設備、速率晶振和膜厚晶振，所述樣品臺和真...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種新型離子注入功能的鍍膜機，涉及鍍膜機技術領域。本實用新型包括鍍膜機主體，所述鍍膜機主體左側和右側均固定連接有噴射座，所述噴射座遠離鍍膜機主體的一側固定連接有進料管，所述噴射座上方設置有固定塊，所述固定塊頂部固定連接有電動...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型提供了一種氣相沉積設備及半導體加工系統，屬于半導體制造技術領域，氣相沉積設備包括基座、中心遮擋部、至少一遮蔽環和驅動結構，基座用于承載襯底，中心遮擋部設置于基座的上方，用于遮擋襯底的中部，遮蔽環用于嵌套于中心遮擋部的邊緣，與中心遮...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請公開了一種外置磁場調節機構及磁控濺射設備，外置磁場調節機構包括固定組件、轉動組件和磁性件，固定組件用于連接磁控濺射設備的陰極，并設置在陰極的外部，轉動組件與固定組件連接，可相對于固定組件轉動，磁性件設置在轉動組件上，與轉動組件共同相對...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明提供一種在將鎢膜作為微細結晶膜的同時，還能根據膜厚調整膜應力的硬掩模的制造方法。其包括：以鎢材質的靶材作為靶，在真空氣氛的處理室內導入稀有氣體和氮氣，通過反應性濺射法在被處理基板Sw表面形成氮化鎢膜Ly1的第一工序；以及，以鎢材質的靶...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種用于熱鍍鋅機組沉沒輥的位置調整裝置，本裝置的支撐底座跨設于熱鍍鋅機組的氣刀底座上，升降驅動機構包括由電機驅動的升降機，升降驅動機構設于支撐底座，升降導柱設于升降機，橫移底座設于升降導柱，橫移底座內設有套筒，橫移導柱設于套...
								
        
							
        
							
						
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