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                  		五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
                  	
                  
      
                
      
                
      
                    
        
					
						
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								      本發(fā)明公開了一種多功能寬密度等離子體放電方法，涉及等離子體技術(shù)領(lǐng)域，包括步驟：S1、系統(tǒng)設(shè)計(jì)與構(gòu)建；S2、等離子體放電模式切換；S3、等離子體輔助化學(xué)氣相沉積；S4、等離子體輔助原子層沉積；S5、系統(tǒng)性能優(yōu)化與驗(yàn)證。該多功能寬密度等離子體放...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種氧化物固態(tài)電解質(zhì)薄膜的磁控濺射制備工藝，涉及電解質(zhì)制備領(lǐng)域，包括以下步驟：襯底預(yù)處理、動(dòng)態(tài)溫度控制濺射、梯度多層結(jié)構(gòu)沉積、原位退火處理與后處理。本發(fā)明通過多步驟優(yōu)化提升氧化物固態(tài)電解質(zhì)薄膜性能：襯底預(yù)處理提升清潔度與結(jié)合強(qiáng)度...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N陶瓷基低頻吸波涂層及其制備方法和應(yīng)用，其中，陶瓷基低頻吸波涂層的制備方法包括：對(duì)金屬基底進(jìn)行倒角、去油、噴砂處理后，采用等離子噴涂工藝在所述金屬基底上制備粘結(jié)層；采用等離子噴涂工藝在所述粘結(jié)層上制備陶瓷層，再將鋁膜膠帶貼在所...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及氧化硅高阻隔膜真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種氧化硅高阻隔膜用真空鍍膜設(shè)備，包括基座，所述基座的頂部固定安裝有真空鍍膜箱，所述真空鍍膜箱的頂部固定安裝有加熱裝置，本發(fā)明通過疏導(dǎo)機(jī)構(gòu)與定位機(jī)構(gòu)的聯(lián)動(dòng)設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)了氣流調(diào)控與動(dòng)力傳導(dǎo)的協(xié)...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開了一種熱鍍鋅帶鋼邊部粘渣處理裝置，涉及熱鍍鋅氣刀系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域，包括：氣刀邊部擋板和粘渣處理裝置，氣刀邊部擋板設(shè)置有陶瓷輪，陶瓷輪用于與帶鋼接觸并保證帶鋼與氣刀邊部擋板的標(biāo)定距離，陶瓷輪的下方設(shè)置有粘渣處理裝置安裝工位；粘渣處理...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及微納米粉末表面沉積包覆設(shè)備領(lǐng)域，提供了一種微納米粉末表面沉積包覆回轉(zhuǎn)窯爐，包括爐體及爐體回轉(zhuǎn)管和多孔分散板及擋板組成的隔倉、工作氣體系統(tǒng)和加料裝置，工作氣體系統(tǒng)包括若干流化包覆材料或氣態(tài)包覆前驅(qū)體材料進(jìn)氣管、比例閥組，比例閥組...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種鍍膜設(shè)備，包括：等離子體組件，包括：第一電極組件；第二電極組件，與第一電極組件的間隙形成沉積空間，物料位于沉積空間；熱絲組件，用于利用溫度場(chǎng)使反應(yīng)物分解。本發(fā)明的技術(shù)方案中，同時(shí)采用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積和熱絲化學(xué)...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及微波等離子體技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種樣品臺(tái)組件及MPCVD裝置，所述樣品臺(tái)組件包括底座和鉬臺(tái)，還包括銅板，所述鉬臺(tái)套設(shè)在銅板上，所述銅板套設(shè)在底座上，所述銅板設(shè)置有凹槽，所述凹槽與底座形成通道，所述底座設(shè)置有冷卻介質(zhì)入口和...
								
        
							
        
							
						
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								      一種鍍膜設(shè)備，包括爐管和一對(duì)舟腳電極。爐管包括鍍膜腔體，鍍膜腔體用以容置用于承載鍍膜工件的石墨舟。該對(duì)舟腳電極設(shè)置在鍍膜腔體中。每一個(gè)舟腳電極包括用于與石墨舟接觸的結(jié)合面。密封圈固定設(shè)置在結(jié)合面上且延伸成封閉的圈狀。當(dāng)石墨舟的舟腳抵持在結(jié)合...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種高熵稀土鈮酸鹽涂層的制備方法，屬于陶瓷涂層材料技術(shù)領(lǐng)域。所述方法采用大氣等離子噴涂，先將NiCrCoAlY粉體噴涂到基體上制得粘結(jié)層，再將噴涂用的(La0.2Nd0.2Sm...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開了一種圓鋼鍍鋅生產(chǎn)防腐蝕裝置，包括機(jī)架和移動(dòng)架，所述機(jī)架上安裝有用于驅(qū)動(dòng)移動(dòng)架上下移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，移動(dòng)架轉(zhuǎn)動(dòng)安裝有兩對(duì)稱設(shè)置的安裝盤，移動(dòng)架上安裝有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置一，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置一的輸出端與安裝盤傳動(dòng)連接，安裝盤上設(shè)有若干限位槽...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開了一種提純型蒸發(fā)鍍鋁裝置，其安裝在真空腔體上，包括：預(yù)熱機(jī)構(gòu)，用于熱熔鋁材料以得到鋁液；引流管，其設(shè)置在所述預(yù)熱機(jī)構(gòu)的出料口；升降機(jī)構(gòu)，其與所述引流管傳動(dòng)連接以帶動(dòng)所述引流管上下移動(dòng)，以關(guān)閉或開啟所述預(yù)熱機(jī)構(gòu)的出料口；蒸發(fā)舟機(jī)...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種應(yīng)用在塑膠上的黑色裝飾性膜層的制備方法，包括電鍍，清洗，烘烤，輝光清洗和物理氣相沉積過程步驟，其中，所述物理氣相沉積過程通過使用中頻磁控濺射方式在塑膠基材上沉積鉻鎢合金層，之后再通入乙炔反應(yīng)氣體，并使用中頻磁控濺射方式使得乙...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明主要涉及金屬表面處理技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種鍍錫銅絲的表面處理工藝，包括以下步驟，酸洗活化，采用磷酸?硫酸混合液，對(duì)銅絲進(jìn)行酸洗活化，得到銅絲預(yù)制體；將銅絲預(yù)制體浸入硅烷偶聯(lián)劑溶液中，得到銅絲中間體；將銅絲中間體加熱后放入含有稀土La顆粒...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種CrAlTiWCoN高熵合金氮化物涂層及其制備方法，所述復(fù)合涂層包括依次形成于基體表面的過渡層底層CrAlTiW合金層、過渡層上層CrAlTiWN氮化物層、工作層CrAlTiWCoN，所述工作層CrAlTiWCoN包括如下元...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供能降低磁搬運(yùn)中的磁性對(duì)磁式的位置檢測(cè)造成的影響的搬運(yùn)裝置及載架。搬運(yùn)裝置具備：搭載基板的載架；利用磁力搬運(yùn)所述載架的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)；以及對(duì)所述載架的搬運(yùn)方向的位置進(jìn)行檢測(cè)的磁式的檢測(cè)機(jī)構(gòu)，所述載架具備：對(duì)所述基板進(jìn)行支承的基板支承部；經(jīng)...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及光學(xué)器件技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種調(diào)制器及制備方法，一種調(diào)制器包括襯底層和在襯底層上交叉設(shè)置的n層SiO2層和n層GST層，其中襯底層上至底向上第一層為GST層；調(diào)制器中還包括設(shè)置n個(gè)GST層上對(duì)應(yīng)布設(shè)的a個(gè)電極...
								
        
							
        
							
						
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								      本公開涉及氣相沉積系統(tǒng)和方法。在一個(gè)實(shí)施方式中，提供了用于氣相沉積的滾筒。所述滾筒包含具有氣體狹縫的外殼和冷卻滾筒。所述冷卻滾筒包括外部區(qū)域、內(nèi)部區(qū)域、部分由所述外部區(qū)域和所述內(nèi)部區(qū)域定義的第一流體通道，以及第一進(jìn)口。所述第一流體通道在所述...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明屬于高溫防護(hù)涂層技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種基于相結(jié)構(gòu)調(diào)控的熱障涂層用界面穩(wěn)定型金屬粘結(jié)層及其制備方法。該金屬粘結(jié)層主要成分為Ni、Cr、Al，鋁含量為8~12wt.%，鉻含量為5~15wt.%，相組成為γ′單相或γ′/γ雙相，無α?Cr或...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及于熱鍍鋅鋼板技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種提高熱鍍鋅耐指紋鋼板鈍化膜附著性的方法，在酸連軋工序中控制軋硬鋼卷的平均粗糙度Ra為0.6～1.0μm、表面反射率≥72%；軋硬鋼卷經(jīng)堿液清洗后，得到鋼板基板；鋼板基板鍍鋅后進(jìn)行光整處理得到平整的...
								
        
							
        
							
						
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