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								      本發明公開了一種氧化物固態電解質薄膜的磁控濺射制備工藝，涉及電解質制備領域，包括以下步驟：襯底預處理、動態溫度控制濺射、梯度多層結構沉積、原位退火處理與后處理。本發明通過多步驟優化提升氧化物固態電解質薄膜性能：襯底預處理提升清潔度與結合強度...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請提供了一種陶瓷基低頻吸波涂層及其制備方法和應用，其中，陶瓷基低頻吸波涂層的制備方法包括：對金屬基底進行倒角、去油、噴砂處理后，采用等離子噴涂工藝在所述金屬基底上制備粘結層；采用等離子噴涂工藝在所述粘結層上制備陶瓷層，再將鋁膜膠帶貼在所...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及氧化硅高阻隔膜真空鍍膜技術領域，具體公開了一種氧化硅高阻隔膜用真空鍍膜設備，包括基座，所述基座的頂部固定安裝有真空鍍膜箱，所述真空鍍膜箱的頂部固定安裝有加熱裝置，本發明通過疏導機構與定位機構的聯動設計，實現了氣流調控與動力傳導的協...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種熱鍍鋅帶鋼邊部粘渣處理裝置，涉及熱鍍鋅氣刀系統技術領域，包括：氣刀邊部擋板和粘渣處理裝置，氣刀邊部擋板設置有陶瓷輪，陶瓷輪用于與帶鋼接觸并保證帶鋼與氣刀邊部擋板的標定距離，陶瓷輪的下方設置有粘渣處理裝置安裝工位；粘渣處理...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及微納米粉末表面沉積包覆設備領域，提供了一種微納米粉末表面沉積包覆回轉窯爐，包括爐體及爐體回轉管和多孔分散板及擋板組成的隔倉、工作氣體系統和加料裝置，工作氣體系統包括若干流化包覆材料或氣態包覆前驅體材料進氣管、比例閥組，比例閥組...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明的實施例提供了一種鍍膜設備，包括：等離子體組件，包括：第一電極組件；第二電極組件，與第一電極組件的間隙形成沉積空間，物料位于沉積空間；熱絲組件，用于利用溫度場使反應物分解。本發明的技術方案中，同時采用等離子體增強化學氣相沉積和熱絲化學...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及微波等離子體技術領域，具體而言，涉及一種樣品臺組件及MPCVD裝置，所述樣品臺組件包括底座和鉬臺，還包括銅板，所述鉬臺套設在銅板上，所述銅板套設在底座上，所述銅板設置有凹槽，所述凹槽與底座形成通道，所述底座設置有冷卻介質入口和...
								
        
							
        
							
						
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								      一種鍍膜設備，包括爐管和一對舟腳電極。爐管包括鍍膜腔體，鍍膜腔體用以容置用于承載鍍膜工件的石墨舟。該對舟腳電極設置在鍍膜腔體中。每一個舟腳電極包括用于與石墨舟接觸的結合面。密封圈固定設置在結合面上且延伸成封閉的圈狀。當石墨舟的舟腳抵持在結合...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及一種高熵稀土鈮酸鹽涂層的制備方法，屬于陶瓷涂層材料技術領域。所述方法采用大氣等離子噴涂，先將NiCrCoAlY粉體噴涂到基體上制得粘結層，再將噴涂用的(La0.2Nd0.2Sm...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種圓鋼鍍鋅生產防腐蝕裝置，包括機架和移動架，所述機架上安裝有用于驅動移動架上下移動的驅動機構，移動架轉動安裝有兩對稱設置的安裝盤，移動架上安裝有旋轉驅動裝置一，旋轉驅動裝置一的輸出端與安裝盤傳動連接，安裝盤上設有若干限位槽...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種提純型蒸發鍍鋁裝置，其安裝在真空腔體上，包括：預熱機構，用于熱熔鋁材料以得到鋁液；引流管，其設置在所述預熱機構的出料口；升降機構，其與所述引流管傳動連接以帶動所述引流管上下移動，以關閉或開啟所述預熱機構的出料口；蒸發舟機...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種應用在塑膠上的黑色裝飾性膜層的制備方法，包括電鍍，清洗，烘烤，輝光清洗和物理氣相沉積過程步驟，其中，所述物理氣相沉積過程通過使用中頻磁控濺射方式在塑膠基材上沉積鉻鎢合金層，之后再通入乙炔反應氣體，并使用中頻磁控濺射方式使得乙...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明主要涉及金屬表面處理技術領域，具體是一種鍍錫銅絲的表面處理工藝，包括以下步驟，酸洗活化，采用磷酸?硫酸混合液，對銅絲進行酸洗活化，得到銅絲預制體；將銅絲預制體浸入硅烷偶聯劑溶液中，得到銅絲中間體；將銅絲中間體加熱后放入含有稀土La顆粒...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種CrAlTiWCoN高熵合金氮化物涂層及其制備方法，所述復合涂層包括依次形成于基體表面的過渡層底層CrAlTiW合金層、過渡層上層CrAlTiWN氮化物層、工作層CrAlTiWCoN，所述工作層CrAlTiWCoN包括如下元...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明提供能降低磁搬運中的磁性對磁式的位置檢測造成的影響的搬運裝置及載架。搬運裝置具備：搭載基板的載架；利用磁力搬運所述載架的搬運機構；以及對所述載架的搬運方向的位置進行檢測的磁式的檢測機構，所述載架具備：對所述基板進行支承的基板支承部；經...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及光學器件技術領域，具體涉及一種調制器及制備方法，一種調制器包括襯底層和在襯底層上交叉設置的n層SiO2層和n層GST層，其中襯底層上至底向上第一層為GST層；調制器中還包括設置n個GST層上對應布設的a個電極...
								
        
							
        
							
						
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								      本公開涉及氣相沉積系統和方法。在一個實施方式中，提供了用于氣相沉積的滾筒。所述滾筒包含具有氣體狹縫的外殼和冷卻滾筒。所述冷卻滾筒包括外部區域、內部區域、部分由所述外部區域和所述內部區域定義的第一流體通道，以及第一進口。所述第一流體通道在所述...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明屬于高溫防護涂層技術領域，具體涉及一種基于相結構調控的熱障涂層用界面穩定型金屬粘結層及其制備方法。該金屬粘結層主要成分為Ni、Cr、Al，鋁含量為8~12wt.%，鉻含量為5~15wt.%，相組成為γ′單相或γ′/γ雙相，無α?Cr或...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及于熱鍍鋅鋼板技術領域，具體涉及一種提高熱鍍鋅耐指紋鋼板鈍化膜附著性的方法，在酸連軋工序中控制軋硬鋼卷的平均粗糙度Ra為0.6～1.0μm、表面反射率≥72%；軋硬鋼卷經堿液清洗后，得到鋼板基板；鋼板基板鍍鋅后進行光整處理得到平整的...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及涂層刀具技術領域，提供了一種晶界強化α?Al2O3涂層切削工具及其制備方法，所述切削工具包括基體和基體表面的涂層；所述涂層至少包含一個通過CVD方法沉積的α?Al2...
								
        
							
        
							
						
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