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五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)

一種具有優(yōu)良脫脂性能的鋅鎂鋁鍍層鋼板及其制造方法

本發(fā)明公開了一種具有優(yōu)良脫脂性能的鋅鎂鋁鍍層鋼板及其制造方法，所述鋅鎂鋁鍍層鋼板包括鋼板基板，所述鋼板基板的至少一面上由基板至外依次包括鋅鎂鋁鍍層、氧化錫膜層、防銹油層，所述鋅鎂鋁鍍層鋼板能夠改善鋅鎂鋁鍍層脫脂性、膠粘性能，且工藝過程不需要...

2025-08-28
一種氯化物氣相沉積裝置

本發(fā)明提供了一種氯化物氣相沉積裝置，屬于氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域；氯化物氣相沉積裝置包括：工作臺、反應(yīng)室機(jī)構(gòu)、供氣機(jī)構(gòu)、噴淋盒組件、供氣管道、高頻電源、電感線圈、升降機(jī)構(gòu)、安裝座、石墨支撐筒組件、樣品托組件和真空機(jī)構(gòu)；通過使升降機(jī)構(gòu)帶動安裝座上下移...

2025-08-28
一種熱鍍鋅酸洗封閉裝置

本實(shí)用新型公開了一種熱鍍鋅酸洗封閉裝置，涉及熱鍍鋅酸洗技術(shù)領(lǐng)域，包括清洗臺，所述清洗臺的頂部靠近四個角分別固定連接有立柱，四個所述立柱的頂部固定連接有頂板，所述頂板的頂部設(shè)置有升降機(jī)構(gòu)，所述清洗臺的頂部固定連接有酸洗池，所述升降機(jī)構(gòu)的外壁底...

2025-08-28
一種WTe₂電極單分子測試芯片及其制備方法

本發(fā)明涉及一種WTe₂電極單分子測試芯片及其制備方法，包括以下步驟：對所述電極圖案進(jìn)行磁控濺射鍍金屬鎢，使金屬鎢覆蓋所述電極圖案形成金屬鎢薄膜，洗去光刻膠，得到與所述電極圖案相對應(yīng)的金屬鎢電極；將所述金屬鎢電極進(jìn)行高溫...

2025-08-28
金屬陶瓷高溫抗氧化復(fù)合涂層

一種金屬陶瓷高溫抗氧化復(fù)合涂層，包括面涂層和底涂層；所述面涂層為二氧化硅溶膠型涂層或二氧化硅溶膠與金屬氧化物結(jié)合的涂層；所述底涂層為二氧化硅溶膠和金屬?鉻鋁釔合金粉末結(jié)合涂層。制備方法，包括制備硅烷水解液、制備二氧化硅溶膠型涂料、將二氧化硅...

2025-08-28
一種不銹鋼黑化劑及其制備與應(yīng)用方法

本發(fā)明公開了一種不銹鋼黑化劑及其制備與應(yīng)用方法，屬于化工材料技術(shù)領(lǐng)域。以1*10³份不銹鋼黑化劑計(jì)，包括以下重量份原料：強(qiáng)堿350～450份、硫氰酸鈉75～85份、硫代硫酸鈉35～45份、穩(wěn)定劑3～6份及緩蝕劑0.1～...

2025-08-28
用于在復(fù)材基體上制備碳化鉭涂層的制備方法及噴涂保護(hù)裝置

本發(fā)明屬于等離子噴涂技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種用于在復(fù)材基體上制備碳化鉭涂層的制備方法及噴涂保護(hù)裝置，通過將復(fù)材基體置于具有焰流保護(hù)組件、氣氛填充組件以及切向焰流加速組件的反應(yīng)罩體中，使得通過焰流保護(hù)組件通入保護(hù)氣體以在等離子起弧后對反應(yīng)腔內(nèi)的...

2025-08-28
銅包覆鉬結(jié)構(gòu)涂層的鋁基體表面改性方法及鋁基復(fù)合材料

本發(fā)明涉及一種銅包覆鉬結(jié)構(gòu)涂層的鋁基體表面改性方法，包括依次對鋁基體試樣表面進(jìn)行打磨、拋光、清洗的步驟、分別以銅靶材和鉬靶材的濺射磁控驅(qū)動靶對鋁基體試樣表面進(jìn)行濺射，實(shí)現(xiàn)在鋁基體試樣表面形成銅包覆鉬涂層的步驟及取出步驟。同時，本發(fā)明還提供了...

2025-08-28
一種用于高真空鍍膜設(shè)備的擋片同步升降結(jié)構(gòu)

本實(shí)用新型公開了鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的一種用于高真空鍍膜設(shè)備的擋片同步升降結(jié)構(gòu)，包括：基片臺升降組件，安裝在真空腔上，用以驅(qū)動基片臺升降，包括伸入真空腔設(shè)置的基片臺以及控制基片臺升降的基片臺驅(qū)動組件；擋片升降組件，安裝在真空腔上，用于驅(qū)動擋片...

2025-08-28
一種超高純碳化硅化學(xué)氣相沉積設(shè)備

本實(shí)用新型涉及一種超高純碳化硅化學(xué)氣相沉積設(shè)備，屬于碳化硅加工技術(shù)領(lǐng)域，包括支撐板，所述支撐板的頂部可拆卸連接有反應(yīng)室，所述支撐板上設(shè)置有放置結(jié)構(gòu)；所述放置結(jié)構(gòu)包括反應(yīng)室外壁設(shè)置的連接板，所述連接板的底部固定連接有電動伸縮桿，所述電動伸縮桿...

2025-08-28
一種擋板開口調(diào)節(jié)裝置

本實(shí)用新型涉及真空鍍膜領(lǐng)域技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種擋板開口調(diào)節(jié)裝置，包括擋板上開設(shè)有鍍膜口，移動擋條上通過設(shè)置滑動組件與擋板連接，使驅(qū)動組件可帶動移動擋條沿滑動組件移動，遮擋或打開鍍膜口，可根據(jù)生產(chǎn)產(chǎn)品的寬幅需求，在真空狀態(tài)下直接調(diào)節(jié)擋板開口，...

2025-08-28
一種切削刀片轉(zhuǎn)移工裝

本申請?zhí)峁┮环N切削刀片轉(zhuǎn)移工裝，包括：桿體，其一端設(shè)有掛環(huán)，桿體的側(cè)面沿軸向陣列設(shè)有多個與桿體垂直的第一支撐片；轉(zhuǎn)筒，其側(cè)面沿軸向陣列開設(shè)有多個與第一支撐片厚度匹配的第一弧形槽，轉(zhuǎn)筒套設(shè)與桿體外，多個第一支撐片分別處于多個第一弧形槽內(nèi)，轉(zhuǎn)筒...

2025-08-28
一種電弧離子鍍膜裝置

本實(shí)用新型涉及一種電弧離子鍍膜裝置，屬于電弧離子鍍膜領(lǐng)域，包括底座以及固定連接于底座上表面的鍍膜室，所述底座的上表面設(shè)有用于輔助鍍膜的輔助結(jié)構(gòu)，所述輔助結(jié)構(gòu)包括開設(shè)于底座上表面的安裝槽、固定連接于安裝槽內(nèi)底壁的伺服電機(jī)、固定連接于伺服電機(jī)輸...

2025-08-28
一種鎢硅合金靶材的鍍鎳方法

本發(fā)明涉及一種鎢硅合金靶材的鍍鎳方法，所述鍍鎳方法包括以下步驟：(1)將鎢硅合金靶材依次進(jìn)行第一清洗處理、活化處理、第一浸泡熱處理和第二浸泡熱處理，得到預(yù)處理后的靶材；(2)將步驟(1)得到的所述預(yù)處理后的靶材浸泡在鍍鎳液中進(jìn)行鍍鎳處理，然...

2025-08-28
用于使鐵基表面磷化的組合物及其使用方法

本發(fā)明涉及一種酸性水性組合物，其不含或基本上不含氟陰離子和鎳陽離子兩者，并且至少包含彼此不同的組分a1)至a5)，即作為a1)的磷酸根陰離子、作為a2)的硝酸根陰離子、作為a3)的鋅陽離子、作為a4)的銅陽離子以及作為a5)的鎂陽離子；一種...

2025-08-28
一種高磷化學(xué)鎳制備裝置

本實(shí)用新型涉及化工生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種高磷化學(xué)鎳制備裝置，包括：混合桶以及攪拌機(jī)構(gòu)，所述混合桶上端設(shè)置有進(jìn)料口且下端設(shè)置有下料管，所述攪拌機(jī)構(gòu)包括攪拌電機(jī)以及攪拌軸組件，所述攪拌軸組件包括攪拌軸以及攪拌葉片和清潔刮板，所述清潔刮板遠(yuǎn)離...

2025-08-28
硬掩模的制造方法

本發(fā)明提供一種在將鎢膜作為微細(xì)結(jié)晶膜的同時，還能根據(jù)膜厚調(diào)整膜應(yīng)力的硬掩模的制造方法。其包括：以鎢材質(zhì)的靶材作為靶，在真空氣氛的處理室內(nèi)導(dǎo)入稀有氣體和氮?dú)?，通過反應(yīng)性濺射法在被處理基板Sw表面形成氮化鎢膜Ly1的第一工序；以及，以鎢材質(zhì)的靶...

2025-08-28
用于熱鍍鋅機(jī)組沉沒輥的位置調(diào)整裝置

本實(shí)用新型公開了一種用于熱鍍鋅機(jī)組沉沒輥的位置調(diào)整裝置，本裝置的支撐底座跨設(shè)于熱鍍鋅機(jī)組的氣刀底座上，升降驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括由電機(jī)驅(qū)動的升降機(jī)，升降驅(qū)動機(jī)構(gòu)設(shè)于支撐底座，升降導(dǎo)柱設(shè)于升降機(jī)，橫移底座設(shè)于升降導(dǎo)柱，橫移底座內(nèi)設(shè)有套筒，橫移導(dǎo)柱設(shè)于套...

2025-08-28
一種外置磁場調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)及磁控濺射設(shè)備

本申請公開了一種外置磁場調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)及磁控濺射設(shè)備，外置磁場調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括固定組件、轉(zhuǎn)動組件和磁性件，固定組件用于連接磁控濺射設(shè)備的陰極，并設(shè)置在陰極的外部，轉(zhuǎn)動組件與固定組件連接，可相對于固定組件轉(zhuǎn)動，磁性件設(shè)置在轉(zhuǎn)動組件上，與轉(zhuǎn)動組件共同相對...

2025-08-28
一種可對活塞環(huán)均勻鍍膜的真空鍍膜機(jī)

本實(shí)用新型涉及真空鍍膜機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種可對活塞環(huán)均勻鍍膜的真空鍍膜機(jī)，底板的底部設(shè)置有固定塊，底板的頂部設(shè)置有真空鍍膜機(jī)構(gòu)，真空鍍膜機(jī)構(gòu)的內(nèi)部設(shè)置有均勻轉(zhuǎn)動固定機(jī)構(gòu)，固定塊的底部設(shè)置有支撐底板，均勻轉(zhuǎn)動固定機(jī)構(gòu)包括均勻轉(zhuǎn)動組件與固定...

2025-08-28

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