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      五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
      • 本發(fā)明提供了一種氯化物氣相沉積裝置,屬于氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域;氯化物氣相沉積裝置包括:工作臺(tái)、反應(yīng)室機(jī)構(gòu)、供氣機(jī)構(gòu)、噴淋盒組件、供氣管道、高頻電源、電感線圈、升降機(jī)構(gòu)、安裝座、石墨支撐筒組件、樣品托組件和真空機(jī)構(gòu);通過使升降機(jī)構(gòu)帶動(dòng)安裝座上下移...
      • 本發(fā)明公開了一種具有優(yōu)良脫脂性能的鋅鎂鋁鍍層鋼板及其制造方法,所述鋅鎂鋁鍍層鋼板包括鋼板基板,所述鋼板基板的至少一面上由基板至外依次包括鋅鎂鋁鍍層、氧化錫膜層、防銹油層,所述鋅鎂鋁鍍層鋼板能夠改善鋅鎂鋁鍍層脫脂性、膠粘性能,且工藝過程不需要...
      • 本實(shí)用新型公開了一種熱鍍鋅酸洗封閉裝置,涉及熱鍍鋅酸洗技術(shù)領(lǐng)域,包括清洗臺(tái),所述清洗臺(tái)的頂部靠近四個(gè)角分別固定連接有立柱,四個(gè)所述立柱的頂部固定連接有頂板,所述頂板的頂部設(shè)置有升降機(jī)構(gòu),所述清洗臺(tái)的頂部固定連接有酸洗池,所述升降機(jī)構(gòu)的外壁底...
      • 本發(fā)明涉及一種WTe2電極單分子測(cè)試芯片及其制備方法,包括以下步驟:對(duì)所述電極圖案進(jìn)行磁控濺射鍍金屬鎢,使金屬鎢覆蓋所述電極圖案形成金屬鎢薄膜,洗去光刻膠,得到與所述電極圖案相對(duì)應(yīng)的金屬鎢電極;將所述金屬鎢電極進(jìn)行高溫...
      • 一種金屬陶瓷高溫抗氧化復(fù)合涂層,包括面涂層和底涂層;所述面涂層為二氧化硅溶膠型涂層或二氧化硅溶膠與金屬氧化物結(jié)合的涂層;所述底涂層為二氧化硅溶膠和金屬?鉻鋁釔合金粉末結(jié)合涂層。制備方法,包括制備硅烷水解液、制備二氧化硅溶膠型涂料、將二氧化硅...
      • 本發(fā)明公開了一種不銹鋼黑化劑及其制備與應(yīng)用方法,屬于化工材料技術(shù)領(lǐng)域。以1*103份不銹鋼黑化劑計(jì),包括以下重量份原料:強(qiáng)堿350~450份、硫氰酸鈉75~85份、硫代硫酸鈉35~45份、穩(wěn)定劑3~6份及緩蝕劑0.1~...
      • 本發(fā)明涉及一種銅包覆鉬結(jié)構(gòu)涂層的鋁基體表面改性方法,包括依次對(duì)鋁基體試樣表面進(jìn)行打磨、拋光、清洗的步驟、分別以銅靶材和鉬靶材的濺射磁控驅(qū)動(dòng)靶對(duì)鋁基體試樣表面進(jìn)行濺射,實(shí)現(xiàn)在鋁基體試樣表面形成銅包覆鉬涂層的步驟及取出步驟。同時(shí),本發(fā)明還提供了...
      • 本發(fā)明屬于等離子噴涂技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種用于在復(fù)材基體上制備碳化鉭涂層的制備方法及噴涂保護(hù)裝置,通過將復(fù)材基體置于具有焰流保護(hù)組件、氣氛填充組件以及切向焰流加速組件的反應(yīng)罩體中,使得通過焰流保護(hù)組件通入保護(hù)氣體以在等離子起弧后對(duì)反應(yīng)腔內(nèi)的...
      • 本實(shí)用新型涉及一種超高純碳化硅化學(xué)氣相沉積設(shè)備,屬于碳化硅加工技術(shù)領(lǐng)域,包括支撐板,所述支撐板的頂部可拆卸連接有反應(yīng)室,所述支撐板上設(shè)置有放置結(jié)構(gòu);所述放置結(jié)構(gòu)包括反應(yīng)室外壁設(shè)置的連接板,所述連接板的底部固定連接有電動(dòng)伸縮桿,所述電動(dòng)伸縮桿...
      • 本實(shí)用新型公開了鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的一種用于高真空鍍膜設(shè)備的擋片同步升降結(jié)構(gòu),包括:基片臺(tái)升降組件,安裝在真空腔上,用以驅(qū)動(dòng)基片臺(tái)升降,包括伸入真空腔設(shè)置的基片臺(tái)以及控制基片臺(tái)升降的基片臺(tái)驅(qū)動(dòng)組件;擋片升降組件,安裝在真空腔上,用于驅(qū)動(dòng)擋片...
      • 本實(shí)用新型涉及真空鍍膜機(jī)技術(shù)領(lǐng)域,且公開了一種可對(duì)活塞環(huán)均勻鍍膜的真空鍍膜機(jī),底板的底部設(shè)置有固定塊,底板的頂部設(shè)置有真空鍍膜機(jī)構(gòu),真空鍍膜機(jī)構(gòu)的內(nèi)部設(shè)置有均勻轉(zhuǎn)動(dòng)固定機(jī)構(gòu),固定塊的底部設(shè)置有支撐底板,均勻轉(zhuǎn)動(dòng)固定機(jī)構(gòu)包括均勻轉(zhuǎn)動(dòng)組件與固定...
      • 本實(shí)用新型提供一種用于優(yōu)化大尺寸晶圓薄膜均勻性的裝置,涉及超導(dǎo)量子計(jì)算技術(shù)領(lǐng)域。一種用于優(yōu)化大尺寸晶圓薄膜均勻性的裝置,包括真空腔室、控制電腦、遙控手柄和樣品臺(tái),所述真空腔室的內(nèi)部固定連接有電子束蒸發(fā)設(shè)備、速率晶振和膜厚晶振,所述樣品臺(tái)和真...
      • 本實(shí)用新型公開了一種新型離子注入功能的鍍膜機(jī),涉及鍍膜機(jī)技術(shù)領(lǐng)域。本實(shí)用新型包括鍍膜機(jī)主體,所述鍍膜機(jī)主體左側(cè)和右側(cè)均固定連接有噴射座,所述噴射座遠(yuǎn)離鍍膜機(jī)主體的一側(cè)固定連接有進(jìn)料管,所述噴射座上方設(shè)置有固定塊,所述固定塊頂部固定連接有電動(dòng)...
      • 本實(shí)用新型提供了一種氣相沉積設(shè)備及半導(dǎo)體加工系統(tǒng),屬于半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域,氣相沉積設(shè)備包括基座、中心遮擋部、至少一遮蔽環(huán)和驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu),基座用于承載襯底,中心遮擋部設(shè)置于基座的上方,用于遮擋襯底的中部,遮蔽環(huán)用于嵌套于中心遮擋部的邊緣,與中心遮...
      • 本申請(qǐng)公開了一種外置磁場(chǎng)調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)及磁控濺射設(shè)備,外置磁場(chǎng)調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括固定組件、轉(zhuǎn)動(dòng)組件和磁性件,固定組件用于連接磁控濺射設(shè)備的陰極,并設(shè)置在陰極的外部,轉(zhuǎn)動(dòng)組件與固定組件連接,可相對(duì)于固定組件轉(zhuǎn)動(dòng),磁性件設(shè)置在轉(zhuǎn)動(dòng)組件上,與轉(zhuǎn)動(dòng)組件共同相對(duì)...
      • 本發(fā)明提供一種在將鎢膜作為微細(xì)結(jié)晶膜的同時(shí),還能根據(jù)膜厚調(diào)整膜應(yīng)力的硬掩模的制造方法。其包括:以鎢材質(zhì)的靶材作為靶,在真空氣氛的處理室內(nèi)導(dǎo)入稀有氣體和氮?dú)猓ㄟ^反應(yīng)性濺射法在被處理基板Sw表面形成氮化鎢膜Ly1的第一工序;以及,以鎢材質(zhì)的靶...
      • 本實(shí)用新型公開了一種用于熱鍍鋅機(jī)組沉沒輥的位置調(diào)整裝置,本裝置的支撐底座跨設(shè)于熱鍍鋅機(jī)組的氣刀底座上,升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括由電機(jī)驅(qū)動(dòng)的升降機(jī),升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)于支撐底座,升降導(dǎo)柱設(shè)于升降機(jī),橫移底座設(shè)于升降導(dǎo)柱,橫移底座內(nèi)設(shè)有套筒,橫移導(dǎo)柱設(shè)于套...
      • 本實(shí)用新型涉及化工生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種高磷化學(xué)鎳制備裝置,包括:混合桶以及攪拌機(jī)構(gòu),所述混合桶上端設(shè)置有進(jìn)料口且下端設(shè)置有下料管,所述攪拌機(jī)構(gòu)包括攪拌電機(jī)以及攪拌軸組件,所述攪拌軸組件包括攪拌軸以及攪拌葉片和清潔刮板,所述清潔刮板遠(yuǎn)離...
      • 本發(fā)明涉及一種鎢硅合金靶材的鍍鎳方法,所述鍍鎳方法包括以下步驟:(1)將鎢硅合金靶材依次進(jìn)行第一清洗處理、活化處理、第一浸泡熱處理和第二浸泡熱處理,得到預(yù)處理后的靶材;(2)將步驟(1)得到的所述預(yù)處理后的靶材浸泡在鍍鎳液中進(jìn)行鍍鎳處理,然...
      • 本發(fā)明涉及一種酸性水性組合物,其不含或基本上不含氟陰離子和鎳陽離子兩者,并且至少包含彼此不同的組分a1)至a5),即作為a1)的磷酸根陰離子、作為a2)的硝酸根陰離子、作為a3)的鋅陽離子、作為a4)的銅陽離子以及作為a5)的鎂陽離子;一種...
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