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            拖動滑塊完成拼圖
        
      
        
      
    
      
    
      
        
      
        
      
    
      

      














      
    
    
      
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                  		五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
                  	
                  
      
                
      
                
      
                    
        
					
						
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								      本發(fā)明涉及一種環(huán)境自適應(yīng)潤滑同型異質(zhì)結(jié)構(gòu)薄膜的可控制備方法，包括以下步驟：⑴將硅片基底用不同類型的溶劑超聲清洗、烘干后即得干燥硅片；⑵采用由MoS2靶材、WS2靶材和Ti靶材三個磁控濺射源組成的多...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種PGTVD真空鍍膜用供氣裝置，涉及供氣裝置技術(shù)領(lǐng)域，其技術(shù)方案是：包括殼體，殼體上設(shè)有圓槽和方槽，殼體內(nèi)部設(shè)有過濾機(jī)構(gòu)和吸附機(jī)構(gòu)，殼體一側(cè)設(shè)有控制組件；過濾機(jī)構(gòu)包括圓板，圓板設(shè)于殼體一側(cè)，圓板兩側(cè)均固定設(shè)有滑板，圓板頂部和底...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及硬質(zhì)合金刀具技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了高性能高精度涂層硬質(zhì)合金數(shù)控刀具，包括P類硬質(zhì)合金基體和沉積在硬質(zhì)合金基體表面的涂層，硬質(zhì)合金基體上脫β層厚度為20～25μm，涂層包括內(nèi)層、中層和外層，內(nèi)層材料為MT?TiCN，中層材料為TiAl...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明的類金剛石碳膜的表面加工方法包括：在類金剛石碳膜上形成微孔結(jié)構(gòu)；在所述類金剛石碳膜上涂覆有機(jī)硅聚合物從而形成附著層；以及利用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積在所述有機(jī)硅聚合物上形成無機(jī)化合物層。該方法簡單高效，能夠有效改變類金剛石碳膜的表面延...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型提供了一種絕緣陶瓷套及石墨舟，屬于石墨舟技術(shù)領(lǐng)域，包括第一絕緣件以及第二絕緣件，第一絕緣件具有外絕緣套以及一體成型于的第一絕緣端蓋；第二絕緣件具有內(nèi)絕緣套以及一體成型的第二絕緣端蓋；內(nèi)絕緣套的外徑小于外絕緣套的內(nèi)徑，內(nèi)絕緣套同軸套...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種用于光學(xué)鍍膜的夾具，包括鍍膜盤，鍍膜盤內(nèi)開設(shè)有安裝腔，鍍膜盤上安裝有多個夾持組件，夾持組件包括滑動安裝在鍍膜盤頂部的夾塊，夾塊上斜向插設(shè)有斜頂塊，斜頂塊貫穿伸入安裝腔內(nèi)，安裝腔內(nèi)設(shè)有安裝座，安裝座上安裝有與斜頂塊數(shù)量相對...
								
        
							
        
							
						
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								      提供了一種用于熱蒸鍍的方法和設(shè)備。所述熱蒸鍍器包括蒸鍍器主體，所述蒸鍍器主體可操作用于存放和蒸鍍待沉積的涂覆材料兩者。所述蒸鍍器主體包括：圓柱形壁，所述圓柱形壁具有第一端部和與所述第一端部相反的第二端部；第一側(cè)壁，所述第一側(cè)壁與所述圓柱形壁...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種降低塑料夾具表面應(yīng)力的真空處理方法，首先對塑料夾具基材進(jìn)行清潔處理，再對所述塑料夾具基材進(jìn)行等離子刻蝕，并以石墨作為靶材，采用物理氣相沉積法在所述塑料夾具基材沉積DLC薄膜，其中，石墨靶材的電流為1.5?3.0A，控制所述塑...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種抗氧化低磨損耐熱汽輪機(jī)葉片涂層及其制備方法，涉及材料表面處理技術(shù)領(lǐng)域，包括以下質(zhì)量比成分：鎳鈷鉻鋁釔合金20?30份、氧化鋯?氧化釔?氧化鋁復(fù)合陶瓷30?40份、鉿粉與錸粉混合物10?15份、三氧化二鉻5?10份、稀土氧化物...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種超薄銅箔二層型撓性覆銅板及其制造方法，涉及覆銅板技術(shù)領(lǐng)域，制造方法包括以下步驟：膜材烘干后進(jìn)行卷接，然后對膜材進(jìn)行刻蝕與活化；在膜材表面從下至上依次沉積底層合金銅膜、中層銅膜、面層合金銅膜；底層合金銅膜和面層合金銅膜均采用磁...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種超厚模塊化類金剛石涂層及其制備方法。本發(fā)明的超厚模塊化類金剛石涂層從下到上依次包括基材、第一金屬層、過渡層、第二金屬層、支撐層和類金剛石涂層；所述過渡層為金屬氮化物多層結(jié)構(gòu)，由交替的第一金屬氮化物分層和第二金屬氮化物分層循環(huán)構(gòu)...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)申請涉及鉭鎢合金的表面處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種帶有碳化鉭滲層的鉭鎢合金材料及其制備方法。本申請通過脈沖滲碳法制備了帶有碳化鉭滲層的鉭鎢合金材料，產(chǎn)品的碳化鉭滲層結(jié)合于鉭鎢合金基體表面，包括TaC相和Ta2C相，基...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及類金剛石薄膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種高硬度類金剛石薄膜鍍膜方法。上述高硬度類金剛石薄膜鍍膜方法，將金屬基材拋光，清洗，烘干，熱處理，降至室溫；送入真空鍍膜裝置中，通過離子源通入氬氣，開啟離子源刻蝕基材；分別以鈦、碳化鈦為靶材進(jìn)行濺射...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明屬于金屬蝕刻技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種金屬散熱片的蝕刻工藝，所述該工藝包括：金屬板材預(yù)處理、涂覆光刻膠、曝光和顯影、初步蝕刻、二次精細(xì)蝕刻、去除光刻膠和后處理；具體包括以下步驟：步驟一：金屬板材預(yù)處理清洗：將待蝕刻的金屬板材放入含有表面活...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請涉及模板加工領(lǐng)域，公開了一種耐刮擦金屬膜防護(hù)的模板離型處理方法，包括以下步驟：S1.模板表面預(yù)處理：準(zhǔn)備好待處理的模板，將其放入射頻等離子體清洗機(jī)內(nèi)；S2.涂覆襯底層：通過磁控濺射技術(shù)在活化后的模板表面涂覆一層襯底層；S3.使用化學(xué)氣...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種濺射沉積絕緣涂層及其制備方法，屬于絕緣涂層技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明通過對金屬基體進(jìn)行電化學(xué)拋光，獲得光滑平整且具有一定粗糙度的預(yù)處理金屬基體，然后通過在預(yù)處理金屬基體表面濺射沉積Cr?Ce合金涂層，并控制Cr?Ce合金涂層中Ce元素的...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種鐵基鑄件的熱鍍鋅裝置及工藝，涉及鐵基鑄件技術(shù)領(lǐng)域；而本發(fā)明包括安裝外架，安裝外架的內(nèi)側(cè)底端固定安裝有盛料底箱，且盛料底箱上連通設(shè)有對稱設(shè)置的側(cè)接框體，盛料底箱的內(nèi)腔中設(shè)有配合使用的分隔機(jī)構(gòu)，且安裝外架的頂端設(shè)有與盛料底箱配合...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請公開了一種用于常壓爐管系統(tǒng)的制備薄膜的方法以及常壓爐管系統(tǒng)，所述方法包括：獲得常壓爐管內(nèi)部的工作氣壓，以作為第一氣壓；獲得常壓爐管的尾管的氣壓，以作為第二氣壓；基于所述第一氣壓和所述第二氣壓，調(diào)整所述第一氣壓和所述第二氣壓的壓力差，使...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了PECVD工藝腔室多晶圓沉積用的加熱基座，涉及PECVD設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域；包括：熱盤頂殼，其上面與晶圓直接接觸，底部開有容置槽；電阻加熱結(jié)構(gòu)，所述電阻加熱結(jié)構(gòu)包括一根加熱管體盤繞而成的加熱盤和引線管，在加熱盤中內(nèi)置有電阻絲，在引...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型提供了一種濺射鍍膜生產(chǎn)用定位裝置，包括：樣品盤，所述樣品盤上表面的開設(shè)置物槽，置物槽底部開設(shè)移動槽，移動槽內(nèi)通過軸承活動連接主絲桿，且置物槽底部固定連接底板，底部表面相對移動槽的位置對應(yīng)開設(shè)主滑槽，而移動板通過螺接的主絲桿滑動連接...
								
        
							
        
							
						
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