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      五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
      • 本發(fā)明提供了一種酸洗鈍化一體液及其工藝與應(yīng)用,其中酸洗鈍化一體液由硫酸和硝酸的混合溶液組成,混合溶液中硫酸根離子的濃度為a g/L,硝酸根離子的濃度為b g/L,滿足:a=(8~15)×b,且60 g/L≤a+b≤500 g/L。酸洗鈍化一...
      • 本實(shí)用新型涉及一種拆卸式雙側(cè)面金屬化濺射夾具,包括底座、下蓋板、兩個(gè)側(cè)板、上蓋板和壓塊,底座為水平設(shè)置的長(zhǎng)方體型構(gòu)件,其上表面沿其長(zhǎng)度方向開有用于裝置衰減片的通槽,底座的下端開有與通槽貫通的第一濺射通孔,下蓋板可拆卸的設(shè)置于底座下端,其上端...
      • 本發(fā)明涉及紅外折射率可變光學(xué)薄膜的制備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種MgF2?ZnS復(fù)合薄膜及其制備方法。本發(fā)明以MgF2和ZnS作為靶材,分別安裝在兩個(gè)不同的陰極上,在真空條件下,同時(shí)分別對(duì)MgF
      • 本實(shí)用新型公開了一種碳化硅基板碳沉積固定裝置,包括底座和夾持組件,至少一套夾持組件安裝在底座上,夾持組件包括兩個(gè)夾持座,夾持座包括支撐件以及安裝在支撐件上的伸出件,每套夾持組件上的兩個(gè)伸出件相對(duì)設(shè)置,兩個(gè)所述伸出件之間用于夾持碳化硅基板。通...
      • 本發(fā)明實(shí)施例公開了一種應(yīng)用于等離子噴涂的含鋁的金屬粉末,涉及高溫等離子體應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域,該金屬粉末包括含鋁元素的基礎(chǔ)合金和以不同形式存在于所述含鋁元素的基礎(chǔ)合金中的碳源,當(dāng)所述金屬粉末在大氣氛圍下被高溫等離子射流加熱至≤2000℃時(shí),所述含鋁...
      • 本發(fā)明涉及一種高強(qiáng)高韌強(qiáng)結(jié)合陶瓷絕緣涂層及其制備與應(yīng)用。針對(duì)現(xiàn)有陶瓷涂層界面結(jié)合差、高溫工藝復(fù)雜及性能不足的問題,創(chuàng)新性地采用氧化碲、氧化銻、氧化釩、透輝石等作為超低熔點(diǎn)輔相材料,與高熔點(diǎn)氧化物陶瓷主相(如Al2O
      • 本發(fā)明屬于熱鍍鋅技術(shù)領(lǐng)域,具體公開了一種熱鍍鋅用冷卻裝置,包括冷卻池,冷卻池的兩相對(duì)側(cè)壁的上壁對(duì)稱設(shè)有固定擋板,冷卻池的另外兩個(gè)相對(duì)側(cè)壁的上壁轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)有活動(dòng)擋板,活動(dòng)擋板與冷卻池的側(cè)壁之間通過自重傳動(dòng)組件連接在一起,自重傳動(dòng)組件兩兩對(duì)稱設(shè)于兩...
      • 本實(shí)用新型涉及一種可調(diào)節(jié)的物料架的滑軌裝置,包括底板、固定滑軌和移動(dòng)滑軌;底板設(shè)置在鍍膜腔室底部,底板中央設(shè)置磁流體槽,磁流體槽左右兩邊設(shè)置滑軌槽,滑軌槽內(nèi)滑動(dòng)設(shè)置滑動(dòng)底座,滑動(dòng)底座上設(shè)置移動(dòng)滑軌,移動(dòng)滑軌前后兩端設(shè)置固定滑軌;本實(shí)用新型通...
      • 本發(fā)明提供了一種航空發(fā)動(dòng)機(jī)用耐蝕耐磨自潤(rùn)滑涂層制備工藝,采用超音速火焰噴涂工藝制備了高熵合金/含氟化物碳化鉻耐磨自潤(rùn)滑涂層,涂層組織均勻,具有良好的耐磨潤(rùn)滑性能及抗腐蝕性能,還具有優(yōu)異的結(jié)合強(qiáng)度和抗剝落能力;即在金屬基體表面采用超音速噴涂N...
      • 一種改善過渡金屬硅硼化物涂層高溫化學(xué)穩(wěn)定性及機(jī)械兼容性的實(shí)現(xiàn)方法,通過在過渡金屬表面采用化學(xué)氣相沉積得到硼化物層后;再通過化學(xué)氣相沉積得到硼摻雜的過渡金屬硅化物層;最后經(jīng)預(yù)氧化處理得到硼摻雜的二氧化硅層、三層硼摻雜的過渡金屬硅化物層、兩層過...
      • 本發(fā)明公開了一種射頻功率分配調(diào)節(jié)裝置及其在PECVD薄膜沉積中的應(yīng)用,涉及芯片制造產(chǎn)線上的PECVD設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域;其裝置包括設(shè)置在射頻電源RF與接地GND之間的多個(gè)并聯(lián)調(diào)節(jié)支路,每個(gè)調(diào)節(jié)支路均包括支路濾波器以及并聯(lián)設(shè)置的支路負(fù)載、支路阻抗調(diào)...
      • 本發(fā)明涉及一種鍍膜工藝的溫控系統(tǒng)。本發(fā)明包括爐管,其外纏繞有外層加熱絲,其內(nèi)設(shè)置有與其平行設(shè)置且纏繞有內(nèi)層加熱絲的耐高溫固定桿;溫控裝置,包括第一溫控模塊、第二溫控模塊、觸發(fā)板模塊、變壓器模塊、可控硅模塊,所述外層加熱絲和所述內(nèi)層加熱絲分別...
      • 本實(shí)用新型涉及銅排鍍錫技術(shù)領(lǐng)域,尤其是指一種銅排連續(xù)走動(dòng)鍍錫設(shè)備,包括主體,主體的表面安裝有上料組件,上料組件包括固定架,固定架的側(cè)表面與主體的側(cè)表面固定連接,固定架的上表面固定連接有固定板,固定板的上表面開設(shè)有滑槽,固定板的上表面開設(shè)有方...
      • 本實(shí)用新型提供一種蒸鍍裝置及應(yīng)用其的鍍膜設(shè)備,包括裝置殼體;蒸發(fā)坩堝,設(shè)于裝置殼體內(nèi)腔中,用于容納蒸鍍物料;導(dǎo)熱噴口板,設(shè)于內(nèi)腔上部,導(dǎo)熱噴口板間隔設(shè)置多個(gè)蒸汽噴口,蒸汽噴口正對(duì)蒸發(fā)坩堝頂部開口;上加熱器,設(shè)于內(nèi)腔中并貼合導(dǎo)熱噴口板;下加熱...
      • 本申請(qǐng)涉及鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種異質(zhì)結(jié)PVD載板冷卻方法,異質(zhì)結(jié)PVD載板冷卻方法包括:供氣準(zhǔn)備;對(duì)載板出料腔安裝供氣設(shè)備,以向載板出料腔內(nèi)輸送冷卻氣體;檢測(cè)載板溫度;檢測(cè)經(jīng)載板出料腔輸出的載板的溫度;每連續(xù)N個(gè)載板為一組檢測(cè)組;...
      • 本發(fā)明涉及化學(xué)氣相沉積設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種勻流結(jié)構(gòu)及具有其的化學(xué)氣相沉積設(shè)備,勻流結(jié)構(gòu)包括至少兩個(gè)間隔且平行設(shè)置的第一勻流板,第一勻流板設(shè)置于反應(yīng)腔室中靠近襯底的氣體輸送入口側(cè);第一勻流板上設(shè)置有多個(gè)第一通孔和多個(gè)第二通孔,多個(gè)第一通孔...
      • 本實(shí)用新型涉及鍵合銅絲加工技術(shù)領(lǐng)域,具體為鍵合銅絲涂錫設(shè)備,包括底板和頂板,所述頂板和底板相互靠近一側(cè)四角處均固定安裝有導(dǎo)向桿,所述導(dǎo)向桿外周滑動(dòng)安裝有活動(dòng)板,所述活動(dòng)板底端中部固定安裝有多個(gè)均勻分布的連接架,所述連接架下部均設(shè)有銅絲限位機(jī)...
      • 本發(fā)明公開了太陽能分頻補(bǔ)熱及余波光伏發(fā)電的循環(huán)流化床鍋爐系統(tǒng),爐膛稀相區(qū)的出口與分離器連通,分離器的循環(huán)物料出口與換向三通閥的第一口連通,換向三通閥的第二口與返料器連通,返料器與爐膛的密相區(qū)連通;換向三通閥的第三口與光熱吸收器連通,光熱吸收...
      • 本發(fā)明公開了一種室內(nèi)機(jī)電安裝吊裝機(jī)具,屬于吊裝設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域;目前,吊裝機(jī)具在施工過程中存在較大的安全隱患;本發(fā)明通過在移動(dòng)車架兩側(cè)轉(zhuǎn)動(dòng)安裝伸縮支撐腿,伸縮支撐腿間安裝控制其伸長(zhǎng)和向兩側(cè)轉(zhuǎn)動(dòng)的雙向伸縮件,移動(dòng)車架上安裝第一吊臂,第一吊臂頂端鉸...
      • 本發(fā)明公開了一種鋁合金清洗劑及其制備方法和應(yīng)用,屬于清洗劑技術(shù)領(lǐng)域。按重量份計(jì),上述鋁合金清洗劑包括以下制備原料:離子表面活性劑A:7~12份,非離子表面活性劑B:3.5~6份,分散助溶劑:0.2~3份,滲透劑:0.8~1.5份,螯合劑:3...
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