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五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)

一種高阻隔氧化鋁薄膜制備的抽真空裝置

本實(shí)用新型涉及抽真空裝置技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種高阻隔氧化鋁薄膜制備的抽真空裝置。該一種高阻隔氧化鋁薄膜制備的抽真空裝置包括：真空室主體，所述真空室主體的頂部活動連接有安裝管，所述安裝管的頂部固定安裝有抽氣泵，所述抽氣泵的頂部固定安裝有過濾箱...

2025-08-19
一種鉭摻雜二氧化鉿鐵電薄膜、其制備方法及應(yīng)用

本發(fā)明公開了一種鉭摻雜二氧化鉿鐵電薄膜、其制備方法及應(yīng)用，將Ta金屬靶材與HfO₂陶瓷靶材，利用多靶材共磁控濺射設(shè)備，通過控制濺射功率，獲得具有不同Ta摻雜比例的Ta:HfO₂薄膜。另外，通過調(diào)節(jié)...

2025-08-19
一種耐腐蝕稀土鎂合金復(fù)合材料及其制備方法

本發(fā)明涉及金屬材料領(lǐng)域，特別涉及一種耐腐蝕稀土鎂合金復(fù)合材料及其制備方法。該復(fù)合材料依次包括鎂合金基體、過渡層、功能層，所述功能層按重量份數(shù)包括改性氧化釔穩(wěn)定氧化鋯粉末100份，碳納米管0.5～2.0份。本發(fā)明的耐腐蝕稀土鎂合金復(fù)合材料，通...

2025-08-19
一種線性微波與線性離子源組合式化學(xué)氣相沉積裝置

本發(fā)明屬于微波等離子體化學(xué)氣相沉積領(lǐng)域，具體涉及一種線性微波與線性離子源組合式化學(xué)氣相沉積裝置。包括：微波電源、矩形波導(dǎo)、三銷釘調(diào)配器、短路活塞、銅天線、石英管、不銹鋼沉積腔室、線性離子源、觀察測溫窗口、可水平轉(zhuǎn)動式襯底臺結(jié)構(gòu)、襯底加熱系統(tǒng)...

2025-08-19
一種復(fù)合型多功能卷繞鍍膜機(jī)

本發(fā)明涉及卷繞鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種復(fù)合型多功能卷繞鍍膜機(jī)，包括固定在支撐腿底部的安裝板，所述支撐腿的頂部固定連接有濺射倉，所述濺射倉的兩側(cè)均固定連接有卷料倉，所述卷料倉的內(nèi)部通過轉(zhuǎn)軸連接有卷料筒，其中一個所述卷料筒的表面設(shè)置有連接繩，...

2025-08-19
一種高純金屬銻的化學(xué)氣相沉積裝置及制備方法

本發(fā)明涉及一種高純金屬銻的化學(xué)氣相沉積裝置及制備方法，屬于高純銻制備技術(shù)領(lǐng)域，所述氣相沉積裝置的封頭和反應(yīng)器密封連接構(gòu)成反應(yīng)腔室，封頭和反應(yīng)器均采用不銹鋼材質(zhì)，反應(yīng)器外部設(shè)有加熱器，內(nèi)部設(shè)有坩堝，坩堝內(nèi)壁設(shè)有耐高溫耐腐蝕涂層，該裝置強(qiáng)度高、...

2025-08-19
一種互穿網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)碳化鉭復(fù)合涂層、制備方法及應(yīng)用

本發(fā)明公開一種互穿網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)碳化鉭復(fù)合涂層、制備方法及應(yīng)用，涉及石墨材料技術(shù)領(lǐng)域。包括如下步驟：步驟一：在石墨基底上制備互穿網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)碳化物涂層；步驟二：將互穿網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)碳化物涂層清洗、干燥后，在惰性氣氛中，以氬氣為載氣，將無機(jī)鉭鹽、烷烴和氫氣按...

2025-08-19
兼容原子層沉積和物理氣相沉積的設(shè)備

本實(shí)用新型公開了一種兼容原子層沉積和物理氣相沉積的設(shè)備，其包括：沉積室以及與沉積室配合的第一環(huán)境調(diào)節(jié)單元、第一前驅(qū)物供應(yīng)單元和第二前驅(qū)物供應(yīng)單元、原子層沉積激發(fā)單元和物理氣相沉積激發(fā)單元、第一傳送裝置，第一環(huán)境調(diào)節(jié)單元用于調(diào)節(jié)沉積室內(nèi)的溫度...

2025-08-19
高紅外反射涂層

本發(fā)明涉及涂層技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種高紅外反射涂層；包括依次向基底層上沉積的過渡層、反射輔助層、反射層以及保護(hù)層；本發(fā)明具有下述有益技術(shù)效果：提供一種反射涂層，采用無機(jī)材料沉積成復(fù)合結(jié)構(gòu)，所得涂層在近紅外和遠(yuǎn)紅外同時具備高反射率，且涂層堅固...

2025-08-19
超滑類金剛石碳基涂層、復(fù)合涂層及其制備方法

本申請涉及一種超滑類金剛石碳基涂層、復(fù)合涂層及其制備方法，所述類金剛石碳基涂層包括碳、氫和摻雜元素，所述摻雜元素包括弱碳化物形成金屬元素、強(qiáng)碳化物形成金屬元素和非金屬元素；其中，所述類金剛石碳基涂層中，以碳和摻雜元素的原子總量計，碳的原子百...

2025-08-19
一種具有自修復(fù)性能的銅基氧化釔涂層的制備方法

一種具有自修復(fù)性能的銅基氧化釔涂層的制備方法，包括以下步驟：將采用脈沖直流磁控濺射方式在無氧銅基體表面濺射沉積形成氧化釔涂層；將含有氧化釔涂層的無氧銅基體傳輸至冷卻室內(nèi)，進(jìn)行靜置冷形成涂層基體；將涂層基體送入管式爐內(nèi)，并向管式爐內(nèi)通入氬氫混...

2025-08-19
基板處理裝置、基板處理方法和化學(xué)溶液

[課題]提供：可以抑制蝕刻后的金屬膜的表面粗糙的基板處理裝置、基板處理方法和化學(xué)溶液。[解決方案]基板處理裝置具備：基板旋轉(zhuǎn)部，其保持在表面形成有金屬的膜的基板并使其旋轉(zhuǎn)；第1供給部，其向前述基板供給包含螯合劑和溶劑的第1處理液；第2供給部...

2025-08-19
一種聚丙烯腈基碳纖維輥熱噴涂Cr₂O₃層的方法和應(yīng)用

本發(fā)明屬于材料熱噴涂技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種聚丙烯腈基碳纖維輥熱噴涂Cr₂O₃層的方法和應(yīng)用。該方法是先在聚丙烯腈基輥件基體表面進(jìn)行噴砂預(yù)處理；采用火焰噴涂法以乙炔為主氣，氧氣為輔氣，在輥基體的表面噴...

2025-08-19
一種耐高溫ITO導(dǎo)電玻璃及其制備方法

本發(fā)明提供了一種耐高溫ITO導(dǎo)電玻璃及其制備方法，涉及透明導(dǎo)電材料領(lǐng)域，該ITO導(dǎo)電玻璃的制備方法為：先清洗玻璃基板，將干凈的玻璃基板放入磁控濺射的制備臺上，同時將ITO陶瓷靶材、SnO₂陶瓷靶材和Si₃

2025-08-19
一種高溫耐磨自潤滑摻硼類金剛石涂層及其制備方法與應(yīng)用

本發(fā)明公開了一種高溫耐磨自潤滑摻硼類金剛石涂層及其制備方法與應(yīng)用，屬于涂層材料技術(shù)領(lǐng)域。該摻硼類金剛石涂層包括在基底表面沉積的Cr打底層、Cr_xB_yC_z梯度過渡層和B?DLC...

2025-08-19
一種用于涂層石墨坩堝復(fù)用的涂層修復(fù)方法

本發(fā)明屬于復(fù)合涂層制備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種用于涂層石墨坩堝復(fù)用的涂層修復(fù)方法。本發(fā)明將等離子體噴涂后的片層結(jié)構(gòu)進(jìn)行激光重熔，降低涂層表面的孔隙率，激光熔覆后的涂層面再經(jīng)過真空熱壓，熱壓后的涂層內(nèi)部的孔隙大大減少，同時涂層與基體、涂層與涂層...

2025-08-19
一種具有高遷移率的透明導(dǎo)電薄膜及其制備方法

本發(fā)明提供一種具有高遷移率的透明導(dǎo)電薄膜及其制備方法，涉及透明導(dǎo)電薄膜的技術(shù)領(lǐng)域，透明導(dǎo)電薄膜以高純度ITO陶瓷材料作為靶材，以氬氣作為工作氣體，采用磁控濺射的方法在MgO基底上進(jìn)行薄膜沉積得到，其中高純度ITO陶瓷材料由質(zhì)量比為9:1的I...

2025-08-19
一種傳送系統(tǒng)及空間原子層沉積設(shè)備

本實(shí)用新型涉及空間原子層沉積技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種傳送系統(tǒng)及空間原子層沉積設(shè)備，其中傳送系統(tǒng)包括驅(qū)動單元和載臺，驅(qū)動單元的驅(qū)動端設(shè)置有齒輪，載臺上設(shè)置有與齒輪嚙合的齒條，載臺用于在空間原子層沉積設(shè)備的反應(yīng)腔室內(nèi)運(yùn)載待鍍工件，驅(qū)動單元用于驅(qū)使載...

2025-08-19
一種介電常數(shù)穩(wěn)定型高導(dǎo)熱金剛石基微波衰減材料及其制備方法

本申請?zhí)峁┮环N介電常數(shù)穩(wěn)定型高導(dǎo)熱金剛石基微波衰減材料及其制備方法，涉及微波衰減材料制備技術(shù)領(lǐng)域。該制備方法包括：在精拋處理的石墨基片表面鍍覆合金襯底，用化學(xué)氣相沉積法在所述合金襯底上沉積摻硼金剛石膜，得到復(fù)合片；采用慢速伺服磨削技術(shù)去除所...

2025-08-19
一種兼顧硬度與韌性的鉻-氧納米復(fù)合涂層及其制備方法

本發(fā)明為一種兼顧硬度與韌性的鉻?氧納米復(fù)合涂層及其制備方法，具體涉及防護(hù)涂層技術(shù)領(lǐng)域。所述復(fù)合涂層為單層納米復(fù)合結(jié)構(gòu)或Cr層與氧化物層交替堆疊形成的多層結(jié)構(gòu)。復(fù)合涂層結(jié)構(gòu)有以下三種形式：①Cr相與Cr₂O_3<...

2025-08-19

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