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								      本實用新型公開了適用于半球諧振子的頻裂修調裝置，包括石英錐筒、夾持機構、光柵網和光闌片，夾持機構設于石英錐筒的小徑端的一側，用于安裝待修調的半球諧振子，石英錐筒兩端開口，光柵網固定在石英錐筒的大徑端，用于分散進入石英錐筒內的離子束流，以使離...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種抗高溫水氧腐蝕的可磨耗涂層及其制備方法和應用，屬于涂層技術領域。本發(fā)明的抗高溫水氧腐蝕的可磨耗涂層，包括多孔陶瓷面層、中間層和金屬基底層；其中，多孔陶瓷面層的材料包括稀土氧化物摻雜改性的YSZ；中間層的材料包括YSZ；金屬基...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及高溫防護涂層技術領域，尤其是涉及一種用于航空發(fā)動機渦輪葉片表面的抗高溫氧化涂層的制備方法，其通過對N5合金葉片進行清洗、多弧離子鍍沉積摻雜氧的涂層及真空退火處理實現(xiàn)。通過氧摻雜降低涂層與氧化膜間的熱膨脹系數(shù)差異，減少應力積累，同時...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請公開了一種高溫傳輸網帶防銹層及其制備方法，涉及金屬鍍覆技術領域。首先將金屬網帶表面進行清理和羥基化處理后噴涂硅烷偶聯(lián)劑的乙醇溶液，干燥后通過霧化噴頭將三聚磷酸鈉溶液均勻噴涂到金屬網帶表面，然后將金屬網帶在400～640℃的溫度下進行烘...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及涂層技術領域，尤其是涉及一種石墨烯/滲鋁復合涂層及其制備方法，其包括基材處理、磁控濺射沉積石墨烯層、料漿配制、滲鋁處理及后處理步驟。通過在不銹鋼基材表面沉積石墨烯層作為底層防護膜，并利用低溫料漿滲鋁工藝形成Al4
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種CVD金剛石膜生長裝置及方法，該裝置包括：反應腔，其為圓柱形空腔且沿空腔周向均勻設置多個獨立控制的氣體入口；該氣體入口通入氫氣和含碳氣體的混合氣，或，純氫氣；襯底，其作為金剛石膜生長基體，該基體呈扇形且為多個并環(huán)形布置；熱絲...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及硬質合金材料領域，具體為一種刀具用硬質合金及其制備方法，由硬質合金基體和金剛石涂層組成；所述硬質合金基體表面經過硅?稀土共滲處理，本發(fā)明中液體滲劑在加熱分解時生成高活性的活性硅和活性稀土原子，活性硅和活性稀土原子能夠與硬質合金基體...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種銅鋼復合板及其制備方法，屬于復合材料制備技術領域，其中所述復合板包括鋼基體和黃銅覆層；制備方法主要為以下2步：(1)在經過表面處理的鋼基體表面通過電弧噴涂沉積上一定厚度的純銅涂層；(2)對得到的樣品進行熱處理，在熱處理爐中加...
								
        
							
        
							
						
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								      一種手術器械，包括可圍繞樞軸銷旋轉的皮帶輪和聯(lián)接至樞軸銷的末端執(zhí)行器。該器械還包括線纜，該線纜至少部分地纏繞在皮帶輪上并且被配置為致動末端執(zhí)行器。線纜和/或任何皮帶輪部件(例如，皮帶輪、樞軸銷等)包括具有二硫化鎢的第一涂層。
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種TiAlN涂層及其制備方法，屬于材料技術領域。其中，在氮氣氛圍下制備TiAlN涂層，包括以下步驟：S1：對基體進行表面預處理；S2：將基體放入HiPIMS真空室，并進行升溫和保溫處理；S3：在HiPIMS真空室內對基體進行偏...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種基于磁控濺射的鈦鋁氧化物薄膜的制備方法，包括：將基板依次用酒精、丙酮和去離子水超聲清洗并干燥，將干燥后的基板裝入磁控濺射腔室；在磁控濺射腔室中，將鈦鋁靶材固定安裝在距離基板8cm的位置，并在氬氣氛圍中進行預濺射；向磁控濺射室...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明屬于半導體存儲器件技術領域，具體公開了一種具有突觸特性的摻雜型鐵酸鉍憶阻器及其制備方法，該憶阻器依次包括襯底、底電極、功能層和頂電極；所述功能層為摻雜鐵酸鉍薄膜，所述摻雜鐵酸鉍薄膜的材料為A位單摻雜、B位單摻雜或A位與B位共摻雜的鐵酸...
								
        
							
        
							
						
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								      本文提供了在物理氣相沉積(PVD)工藝中用于高深寬比特征的多陰極阻障層種晶沉積的設備和方法。在些具體實施例中，PVD腔室包括設置在PVD腔室處理區(qū)域內的底座。底座可隨其上的工件旋轉。PVD腔室包括腔室蓋組件，組件包括具有相同靶材材料的第一靶...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種可調節(jié)式半自動加錫機，涉及自動加錫技術領域；而本實用新型包括底盤，所述底盤外圈固定連接有支架，所述支架頂端固定連接有頂盤，所述頂盤底端中心處固定連接有供料桶，所述底盤頂端中心處固定連接有錫液筒本體，所述錫液筒本體內腔滑動...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供一種能夠在維持傳送載具的旋轉部件的位置精度的同時，抑制基板的損傷或掉落的成膜裝置。在本發(fā)明的一個方面的成膜裝置中，傳送載具的傳送機構具有設置在腔室內對所述載具進行支承的支承單元，所述支承單元具有用于支承所述載具的多個旋轉部件，且從...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明屬于玻璃磁控濺射鍍膜技術領域，尤其為一種多功能鏡面玻璃及制備方法，包括玻璃基片以及鍍膜層，鍍膜層自玻璃基片向外一側復合設置有五組膜層，其中第一層為SiNx、SiAlNx、SiZrNx中的一種及多種組合；第二層為NiCr、Cr及其氧化物...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及硬質合金材料領域，具體為一種耐磨硬質合金及其制備方法，由硬質合金基體、過渡層和耐磨涂層組成，所述過渡層由稀土?鐵二元合金和LaMO3制成，M為過渡金屬元素，本發(fā)明通過添加過渡層可以形成熱膨脹系數(shù)的梯度結構，使...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及鋁合金鑄造技術領域，公開一種減少鋁合金鑄棒中心偏析的鑄棒設備及方法，利用與鋁合金鑄棒同樣合金成分的鋁線或鋁板將超聲波傳到到待結晶的鋁液內，根據具體合金成分、鑄棒尺寸控制調節(jié)超聲波發(fā)生器的工作頻率及鋁線或鋁板在鋁液內的浸沒深度，根據...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型提供了一種熱鍍鋅鋁鎂帶鋼冷卻裝置，包括底座、冷卻箱、放料輥、收卷輥、進料輥、冷卻組件、支撐框和散熱組件；冷卻箱，冷卻箱安裝于底座的頂端；放料輥，放料輥安裝于底座的頂端一側，放料輥位于冷卻箱的左端；收卷輥，收卷輥安裝于底座的頂端另一...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種感應加熱與電子束蒸發(fā)的薄膜制備裝置，其包括主殼體、抽真空泵體、感應加熱器、電子束發(fā)生源、樣品支架和輻射屏蔽結構，抽真空泵體與主殼體的真空腔連接；感應加熱器、電子束發(fā)生源均設于真空腔的下部；樣品支架安裝于真空腔的上部，輻射屏蔽...
								
        
							
        
							
						
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