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      五金工具產品及配附件制造技術
      • 本發明公開了一種緩沖層輔助的超平二維碲烯相的制備方法,包括以下步驟:以金(100)單晶為基底;通過調節克努森擴散爐的設定溫度,研究在對應溫度下碲在室溫的基底上的沉積量,從而確定克努森擴散爐的設定溫度和碲的蒸發量的關系;研究在特定克努森擴散爐...
      • 本發明公開了一種用于高碳鉻不銹鋼鈍化膜的鈍化液及鈍化方法,鈍化液包含第一、二鈍化液,第一鈍化液由5?30%檸檬酸、11?32%羥基乙叉二磷酸、5?9%水解聚馬來酸酐和去離子水組成;第二鈍化液含0.5?2.5%咪唑啉、2?4%聚乙二醇等成分及...
      • 本發明屬于涂層領域,具體涉及一種納米多層復合涂層及其制備方法和應用。所述納米多層復合涂層包括A層和B層,所述A層和B層以周期性A?B?A?B或B?A?B?A的方式排列,所述A層以ZrAlN立方相作為主體結構且其組成以化學式Zrx1...
      • 本發明屬于涂層領域,具體涉及一種納米多層結構涂層及其制備方法和應用。所述納米多層結構涂層包括以周期性A?B?A?B或B?A?B?A的方式排列的A層和B層,所述A層以TiAlN立方相作為主相結構且其組成以化學式Tix1(...
      • 本發明涉及軸承制造技術領域,具體為一種銅保持器壓鑄工藝,先將電解銅、錫、鋅與稀土釔、納米碳化硅、石墨烯納米片混合,真空熔煉除氣制成復合合金;模具經激光熔覆和超音速噴涂形成梯度涂層;合金熔體在超聲振動下高速充型,施加脈沖壓力保壓;成型后梯度冷...
      • 本發明為一種具有多層納米晶結構的高硬度(Ti,Cr,V)N復合涂層材料的制備方法。該材料在TiVN體系基礎上進一步引入Cr元素,利用其與Ti、V的尺寸差異誘導可控晶格畸變,結合Cr/V的3d電子雜化強化共價鍵,同時通過降低體系熔點優化熔滴鋪...
      • 本申請提供一種表面結構及其制備方法,所述制備方法包括:退火過程以及沉積過程;其中,所述退火過程包括:將表面已覆蓋金屬膜的基材設置于可變溫環境中;在所述可變溫環境的溫度達到第一溫度的情況下,保持所述第一溫度第一時長后,將所述表面已覆蓋金屬膜的...
      • 本發明公開了一種耐鹽霧腐蝕不銹鋼棒及其制備方法,屬于耐鹽霧腐蝕不銹鋼技術領域;本發明的耐鹽霧腐蝕不銹鋼棒,包括不銹鋼棒,以及附著在不銹鋼棒外表面的耐腐蝕層;先將不銹鋼棒依次進行打磨、除油、活化、清洗處理,隨后放入化學復合鍍液中進行化學復合鍍...
      • 本發明提供了一種Pt改性梯度NiCoCrFeAl高熵涂層及其制備方法,涉及高溫抗氧化涂層制備技術領域。本發明先在高溫合金基體表面電鍍Pt層,增強Al的選擇性氧化,使涂層表面形成Al2O3需要的臨界...
      • 本發明公開了一種拉絲模涂層生長設備,屬于化學氣相沉積金剛石涂層技術領域,該一種拉絲模涂層生長設備,包括箱體部件,內部形成有一可封閉的生長區間;至少一夾具單元,設置于所述生長區間內,單個所述夾具單元包括:模具支撐件,其頂面沿第一方向間隔開設有...
      • 本發明公開一種船舶螺旋槳用防污耐空蝕復合金屬涂層及其制備方法,其包括底層和面層雙層復合結構,所述底層為等離子噴涂的Ti?Al涂層;所述面層為選擇性電鍍Cu涂層;該涂層體系借助等離子噴涂Ti?Al底層的高硬度和高結合強度,顯著提升抗空蝕性能;...
      • 本發明提供了一種Al2O3?13TiO2復合陶瓷粉末在制備磨輥表面耐磨層中的應用,屬于工業技術領域。本發明提供的以Al2O3?13...
      • 本實用新型公開了一種載具、傳輸系統和鍍膜設備,載具包括:多根橫梁單元,多根橫梁單元沿第一方向間隔且并列設置;兩根側向導軌,兩根側向導軌沿第二方向間隔且并列設置,其中一根側向導軌連接于多根橫梁單元的一端,另一根側向導軌連接于多根橫梁單元的另一...
      • 本實用新型公開了一種中轉設備及鍍膜系統,中轉設備包括密封殼、載體、驅動機構和轉移機構。密封殼的側壁限定出第一開口和第二開口,密封殼的內部限定出與第一開口和第二開口連通的真空腔室,第一開口和第二開口分別用于與第一鍍膜設備和第二鍍膜設備對接;載...
      • 本發明公開了一種均勻性調節裝置及磁控濺射真空鍍膜機,包括主體(8)和均勻性調節裝置(6),主體(8)包括射頻電源(1)、射頻匹配器(2)、真空屏蔽罩(3)和旋轉陰極柱狀靶(4);均勻性調節裝置(6)中包括諧振電路,該諧振電路由多檔位調節電感...
      • 本發明涉及一種高溫高紅外發射率兼低熱導率涂層及其制備方法和應用,包括:清洗基底并進行噴砂處理;噴涂合金粉末形成粘結層;利用溶液等離子噴涂工藝,噴涂經霧化后的包含水溶性鍶源、水溶性X源和水溶性鋯源的溶液,即得。本發明制備的Sr(Zr...
      • 本申請公開了一種半導體處理腔室及薄膜沉積設備,可用于半導體制備領域,該半導體處理腔室包括:基座、內腔下極板以及內腔上極板;內腔下極板和/或基座內部設置有吹掃氣路;吹掃氣路的進氣口位于內腔下極板背離內腔的一側,或位于基座背離內腔的一側;吹掃氣...
      • 本發明公開了一種適用于精密軸承零件的高溫發黑液,所述發黑液由以下原料按如下重量體積比配制:氫氧化鈉500?750g/L、亞硝酸鈉120?220g/L、硝酸鈉50?100g/L、添加劑2?10g/L、絡合劑5?15g/L、促進劑5?10g/L...
      • 本實用新型公開了一種真空鍍膜承載裝置的固定結構,包括硅片承載盤(100)和硅片承載框(101),所述硅片承載盤(100)開設的通孔穿設有銷軸(3),所述硅片承載框(101)開設的雙孔洞穿設有開口卡簧(4),所述開口卡簧(4)與銷軸(3)的溝...
      • 本發明涉及一種層片狀的TiAlN硬質耐磨涂層及其制備方法,涉及材料表面改性技術領域。包括如下步驟:采用Ti?Al靶,在Ar和N2混合氣氛中進行反應磁控濺射,在基體上獲得層片狀的TiAlN硬質耐磨涂層;所述反應磁控濺射包...
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