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      五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
      • 本發(fā)明屬于等離子噴涂技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種用于在復(fù)材基體上制備碳化鉭涂層的制備方法及噴涂保護(hù)裝置,通過將復(fù)材基體置于具有焰流保護(hù)組件、氣氛填充組件以及切向焰流加速組件的反應(yīng)罩體中,使得通過焰流保護(hù)組件通入保護(hù)氣體以在等離子起弧后對反應(yīng)腔內(nèi)的...
      • 本發(fā)明涉及一種銅包覆鉬結(jié)構(gòu)涂層的鋁基體表面改性方法,包括依次對鋁基體試樣表面進(jìn)行打磨、拋光、清洗的步驟、分別以銅靶材和鉬靶材的濺射磁控驅(qū)動靶對鋁基體試樣表面進(jìn)行濺射,實現(xiàn)在鋁基體試樣表面形成銅包覆鉬涂層的步驟及取出步驟。同時,本發(fā)明還提供了...
      • 本實用新型公開了鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的一種用于高真空鍍膜設(shè)備的擋片同步升降結(jié)構(gòu),包括:基片臺升降組件,安裝在真空腔上,用以驅(qū)動基片臺升降,包括伸入真空腔設(shè)置的基片臺以及控制基片臺升降的基片臺驅(qū)動組件;擋片升降組件,安裝在真空腔上,用于驅(qū)動擋片...
      • 本實用新型涉及一種超高純碳化硅化學(xué)氣相沉積設(shè)備,屬于碳化硅加工技術(shù)領(lǐng)域,包括支撐板,所述支撐板的頂部可拆卸連接有反應(yīng)室,所述支撐板上設(shè)置有放置結(jié)構(gòu);所述放置結(jié)構(gòu)包括反應(yīng)室外壁設(shè)置的連接板,所述連接板的底部固定連接有電動伸縮桿,所述電動伸縮桿...
      • 本實用新型涉及真空鍍膜領(lǐng)域技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種擋板開口調(diào)節(jié)裝置,包括擋板上開設(shè)有鍍膜口,移動擋條上通過設(shè)置滑動組件與擋板連接,使驅(qū)動組件可帶動移動擋條沿滑動組件移動,遮擋或打開鍍膜口,可根據(jù)生產(chǎn)產(chǎn)品的寬幅需求,在真空狀態(tài)下直接調(diào)節(jié)擋板開口,...
      • 本申請?zhí)峁┮环N切削刀片轉(zhuǎn)移工裝,包括:桿體,其一端設(shè)有掛環(huán),桿體的側(cè)面沿軸向陣列設(shè)有多個與桿體垂直的第一支撐片;轉(zhuǎn)筒,其側(cè)面沿軸向陣列開設(shè)有多個與第一支撐片厚度匹配的第一弧形槽,轉(zhuǎn)筒套設(shè)與桿體外,多個第一支撐片分別處于多個第一弧形槽內(nèi),轉(zhuǎn)筒...
      • 本實用新型涉及一種電弧離子鍍膜裝置,屬于電弧離子鍍膜領(lǐng)域,包括底座以及固定連接于底座上表面的鍍膜室,所述底座的上表面設(shè)有用于輔助鍍膜的輔助結(jié)構(gòu),所述輔助結(jié)構(gòu)包括開設(shè)于底座上表面的安裝槽、固定連接于安裝槽內(nèi)底壁的伺服電機、固定連接于伺服電機輸...
      • 本發(fā)明涉及一種鎢硅合金靶材的鍍鎳方法,所述鍍鎳方法包括以下步驟:(1)將鎢硅合金靶材依次進(jìn)行第一清洗處理、活化處理、第一浸泡熱處理和第二浸泡熱處理,得到預(yù)處理后的靶材;(2)將步驟(1)得到的所述預(yù)處理后的靶材浸泡在鍍鎳液中進(jìn)行鍍鎳處理,然...
      • 本發(fā)明涉及一種酸性水性組合物,其不含或基本上不含氟陰離子和鎳陽離子兩者,并且至少包含彼此不同的組分a1)至a5),即作為a1)的磷酸根陰離子、作為a2)的硝酸根陰離子、作為a3)的鋅陽離子、作為a4)的銅陽離子以及作為a5)的鎂陽離子;一種...
      • 本實用新型涉及化工生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種高磷化學(xué)鎳制備裝置,包括:混合桶以及攪拌機構(gòu),所述混合桶上端設(shè)置有進(jìn)料口且下端設(shè)置有下料管,所述攪拌機構(gòu)包括攪拌電機以及攪拌軸組件,所述攪拌軸組件包括攪拌軸以及攪拌葉片和清潔刮板,所述清潔刮板遠(yuǎn)離...
      • 本發(fā)明提供一種在將鎢膜作為微細(xì)結(jié)晶膜的同時,還能根據(jù)膜厚調(diào)整膜應(yīng)力的硬掩模的制造方法。其包括:以鎢材質(zhì)的靶材作為靶,在真空氣氛的處理室內(nèi)導(dǎo)入稀有氣體和氮氣,通過反應(yīng)性濺射法在被處理基板Sw表面形成氮化鎢膜Ly1的第一工序;以及,以鎢材質(zhì)的靶...
      • 本實用新型公開了一種用于熱鍍鋅機組沉沒輥的位置調(diào)整裝置,本裝置的支撐底座跨設(shè)于熱鍍鋅機組的氣刀底座上,升降驅(qū)動機構(gòu)包括由電機驅(qū)動的升降機,升降驅(qū)動機構(gòu)設(shè)于支撐底座,升降導(dǎo)柱設(shè)于升降機,橫移底座設(shè)于升降導(dǎo)柱,橫移底座內(nèi)設(shè)有套筒,橫移導(dǎo)柱設(shè)于套...
      • 本申請公開了一種外置磁場調(diào)節(jié)機構(gòu)及磁控濺射設(shè)備,外置磁場調(diào)節(jié)機構(gòu)包括固定組件、轉(zhuǎn)動組件和磁性件,固定組件用于連接磁控濺射設(shè)備的陰極,并設(shè)置在陰極的外部,轉(zhuǎn)動組件與固定組件連接,可相對于固定組件轉(zhuǎn)動,磁性件設(shè)置在轉(zhuǎn)動組件上,與轉(zhuǎn)動組件共同相對...
      • 本實用新型涉及真空鍍膜機技術(shù)領(lǐng)域,且公開了一種可對活塞環(huán)均勻鍍膜的真空鍍膜機,底板的底部設(shè)置有固定塊,底板的頂部設(shè)置有真空鍍膜機構(gòu),真空鍍膜機構(gòu)的內(nèi)部設(shè)置有均勻轉(zhuǎn)動固定機構(gòu),固定塊的底部設(shè)置有支撐底板,均勻轉(zhuǎn)動固定機構(gòu)包括均勻轉(zhuǎn)動組件與固定...
      • 本實用新型提供一種用于優(yōu)化大尺寸晶圓薄膜均勻性的裝置,涉及超導(dǎo)量子計算技術(shù)領(lǐng)域。一種用于優(yōu)化大尺寸晶圓薄膜均勻性的裝置,包括真空腔室、控制電腦、遙控手柄和樣品臺,所述真空腔室的內(nèi)部固定連接有電子束蒸發(fā)設(shè)備、速率晶振和膜厚晶振,所述樣品臺和真...
      • 本實用新型公開了一種新型離子注入功能的鍍膜機,涉及鍍膜機技術(shù)領(lǐng)域。本實用新型包括鍍膜機主體,所述鍍膜機主體左側(cè)和右側(cè)均固定連接有噴射座,所述噴射座遠(yuǎn)離鍍膜機主體的一側(cè)固定連接有進(jìn)料管,所述噴射座上方設(shè)置有固定塊,所述固定塊頂部固定連接有電動...
      • 本實用新型提供了一種氣相沉積設(shè)備及半導(dǎo)體加工系統(tǒng),屬于半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域,氣相沉積設(shè)備包括基座、中心遮擋部、至少一遮蔽環(huán)和驅(qū)動結(jié)構(gòu),基座用于承載襯底,中心遮擋部設(shè)置于基座的上方,用于遮擋襯底的中部,遮蔽環(huán)用于嵌套于中心遮擋部的邊緣,與中心遮...
      • 本發(fā)明提供了一種基于真空鍍膜在線檢測電機控厚裝置包括位于外殼內(nèi)部的驅(qū)動板和多個并排設(shè)置的控厚組件,所述控厚組件包括依次連接的直線電機、連桿、連接塊和補正板,所述驅(qū)動板通過直線電機控制補正板接近或者遠(yuǎn)離離子膜發(fā)射柱,所述連桿穿過外殼的前面板,...
      • 本發(fā)明提供了一種噴淋板、一種半導(dǎo)體器件的加工設(shè)備以及一種半導(dǎo)體器件的加工方法。所述噴淋板包括:頂板,設(shè)于所述噴淋板的頂部,其中心區(qū)域設(shè)有第一進(jìn)氣口,用于獲取反應(yīng)氣體;噴淋頭,設(shè)于所述噴淋板的底部,配合所述頂板形成混氣腔,并經(jīng)由設(shè)于所述噴淋頭...
      • 本發(fā)明涉及一種兼容于集成電路后道工藝的石墨烯薄膜的制備方法,其包括如下步驟:S1,提供厚度為10nm?50nm的金屬薄膜襯底,該金屬薄膜襯底選自銅,鈷,釕或鎳薄膜襯底中的一種;S2,在活性碳原子濃度增強場中,350℃?400℃下,通入碳源氣...
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