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								      提供了一種用于熱蒸鍍的方法和設備。所述熱蒸鍍器包括蒸鍍器主體，所述蒸鍍器主體可操作用于存放和蒸鍍待沉積的涂覆材料兩者。所述蒸鍍器主體包括：圓柱形壁，所述圓柱形壁具有第一端部和與所述第一端部相反的第二端部；第一側壁，所述第一側壁與所述圓柱形壁...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明提供了一種抗氧化低磨損耐熱汽輪機葉片涂層及其制備方法，涉及材料表面處理技術領域，包括以下質量比成分：鎳鈷鉻鋁釔合金20?30份、氧化鋯?氧化釔?氧化鋁復合陶瓷30?40份、鉿粉與錸粉混合物10?15份、三氧化二鉻5?10份、稀土氧化物...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種降低塑料夾具表面應力的真空處理方法，首先對塑料夾具基材進行清潔處理，再對所述塑料夾具基材進行等離子刻蝕，并以石墨作為靶材，采用物理氣相沉積法在所述塑料夾具基材沉積DLC薄膜，其中，石墨靶材的電流為1.5?3.0A，控制所述塑...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種超薄銅箔二層型撓性覆銅板及其制造方法，涉及覆銅板技術領域，制造方法包括以下步驟：膜材烘干后進行卷接，然后對膜材進行刻蝕與活化；在膜材表面從下至上依次沉積底層合金銅膜、中層銅膜、面層合金銅膜；底層合金銅膜和面層合金銅膜均采用磁...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及一種超厚模塊化類金剛石涂層及其制備方法。本發明的超厚模塊化類金剛石涂層從下到上依次包括基材、第一金屬層、過渡層、第二金屬層、支撐層和類金剛石涂層；所述過渡層為金屬氮化物多層結構，由交替的第一金屬氮化物分層和第二金屬氮化物分層循環構...
								
        
							
        
							
						
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								      本發申請涉及鉭鎢合金的表面處理技術領域，具體涉及一種帶有碳化鉭滲層的鉭鎢合金材料及其制備方法。本申請通過脈沖滲碳法制備了帶有碳化鉭滲層的鉭鎢合金材料，產品的碳化鉭滲層結合于鉭鎢合金基體表面，包括TaC相和Ta2C相，基...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及類金剛石薄膜技術領域，尤其涉及一種高硬度類金剛石薄膜鍍膜方法。上述高硬度類金剛石薄膜鍍膜方法，將金屬基材拋光，清洗，烘干，熱處理，降至室溫；送入真空鍍膜裝置中，通過離子源通入氬氣，開啟離子源刻蝕基材；分別以鈦、碳化鈦為靶材進行濺射...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明屬于金屬蝕刻技術領域，具體涉及一種金屬散熱片的蝕刻工藝，所述該工藝包括：金屬板材預處理、涂覆光刻膠、曝光和顯影、初步蝕刻、二次精細蝕刻、去除光刻膠和后處理；具體包括以下步驟：步驟一：金屬板材預處理清洗：將待蝕刻的金屬板材放入含有表面活...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請涉及模板加工領域，公開了一種耐刮擦金屬膜防護的模板離型處理方法，包括以下步驟：S1.模板表面預處理：準備好待處理的模板，將其放入射頻等離子體清洗機內；S2.涂覆襯底層：通過磁控濺射技術在活化后的模板表面涂覆一層襯底層；S3.使用化學氣...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及一種濺射沉積絕緣涂層及其制備方法，屬于絕緣涂層技術領域。本發明通過對金屬基體進行電化學拋光，獲得光滑平整且具有一定粗糙度的預處理金屬基體，然后通過在預處理金屬基體表面濺射沉積Cr?Ce合金涂層，并控制Cr?Ce合金涂層中Ce元素的...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種鐵基鑄件的熱鍍鋅裝置及工藝，涉及鐵基鑄件技術領域；而本發明包括安裝外架，安裝外架的內側底端固定安裝有盛料底箱，且盛料底箱上連通設有對稱設置的側接框體，盛料底箱的內腔中設有配合使用的分隔機構，且安裝外架的頂端設有與盛料底箱配合...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請公開了一種用于常壓爐管系統的制備薄膜的方法以及常壓爐管系統，所述方法包括：獲得常壓爐管內部的工作氣壓，以作為第一氣壓；獲得常壓爐管的尾管的氣壓，以作為第二氣壓；基于所述第一氣壓和所述第二氣壓，調整所述第一氣壓和所述第二氣壓的壓力差，使...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及一種高平整度滲鋁涂層，其原料包括：10～15wt％的無機纖維素，1～3wt％的有機聯結劑，15～25wt％的分散劑，17～25wt％的鋁粉，0.5～0.8wt％的氯化銨，0.2～0.4wt％的氟化鈉，25～44wt％的氧化鋁粉。本...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型提供了一種濺射鍍膜生產用定位裝置，包括：樣品盤，所述樣品盤上表面的開設置物槽，置物槽底部開設移動槽，移動槽內通過軸承活動連接主絲桿，且置物槽底部固定連接底板，底部表面相對移動槽的位置對應開設主滑槽，而移動板通過螺接的主絲桿滑動連接...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了PECVD工藝腔室多晶圓沉積用的加熱基座，涉及PECVD設備技術領域；包括：熱盤頂殼，其上面與晶圓直接接觸，底部開有容置槽；電阻加熱結構，所述電阻加熱結構包括一根加熱管體盤繞而成的加熱盤和引線管，在加熱盤中內置有電阻絲，在引...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及鍍層厚度控制技術領域，具體涉及一種提高帶鋼邊部鋅層均勻性的閉環控制方法、系統、設備及介質。閉環控制方法包括：步驟1，在氣刀噴吹段，氣刀刀唇通體長度等間距劃分18個控制點，氣刀后方設置測厚儀；步驟2，由測厚儀對帶鋼寬度方向各點的鋅層...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明提供一種能夠通過簡易的機構使大量電子零件的一部分為了成膜而統一露出的供給裝置、成膜裝置及保持構件。實施方式的供給裝置向對電子零件進行成膜的成膜裝置的成膜處理部供給電子零件，其包括：掩模，具有覆蓋電子零件的一部分的掩模孔，以使電子零件貫...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了鋁材鈍化技術領域的一種鋁蜂窩芯鈍化裝置及鈍化方法，包括液劑出入通道、上鈍化部、下鈍化部和純水進入通道，所述液劑出入通道作為拋光劑或者鈍化劑的輸送通道；上鈍化部的內壁活動貫穿卡接有活動板，所述活動板將上鈍化部內部分隔為第一腔室和第...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及一種真空鍍膜用跨腔室送料裝置，包括A腔室、B腔室、載具、轉運裝置和轉運調節機構，A腔室和B腔室之間設置用于工件轉送的轉送通道，轉送通道處設置有對轉送通道的連通狀態進行調整的啟閉組件，A腔室內設置有用于支撐轉運裝置的A導送組件，...
								
        
							
        
							
						
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								      本公開提供了薄膜制備工藝，屬于薄膜材料技術領域。該薄膜制備工藝包括：提供第一結構體，其包括目標材料層、分別結合至目標材料層的相對兩個表面的兩組金屬層，金屬層的熱膨脹系數大于目標材料層的熱膨脹系數。對第一結構體進行升溫處理，使得目標材料層的內...
								
        
							
        
							
						
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