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								      一種復合掩膜版的制備方法，包括如下步驟：S1：在掩膜版上設置有光刻圖；S2：通過光刻圖去除部分光阻；S3：電鑄掩膜版，在掩膜版上均勻涂布高分子膜層；S4：將高分子膜層固化成型；S5：對固化后的高分子膜層進行脈沖鉆孔，開出帶錐角的類圓錐臺孔洞...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種用于不耐高溫基材在真空室鍍膜中的溫控系統，包括設置于真空室內且與基材相貼合進行換熱的熱交換組件，所述熱交換組件與設置于真空室外且并行設置的冷卻模塊以及升溫模塊相連通；設置冷卻模塊，對鍍膜過程中的基材進行冷卻，從而帶走基材...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及一種氧化硅表面生長石墨烯薄膜的方法，其包括如下步驟：S1，提供氧化硅片襯底，其中，該氧化硅片襯底包括硅片和位于硅片表面的氧化硅薄膜，該氧化硅薄膜的厚度為90nm?300nm；S2，在功率為20瓦?50瓦的等離子輔助和380℃?60...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型提供了一種便于換粉的送粉裝置及設備，包括：快拆粉筒組件；出粉組件，所述出粉組件包括殼體和轉盤，所述快拆粉筒組件的出口與所述殼體可拆卸連接，所述轉盤設置在殼體內，所述轉盤上設有用于容納從所述快拆粉筒組件流下的粉末的環形容納槽；驅動電...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種微通道式Mist?CVD薄膜外延系統，包括供氣模塊，供氣模塊連通有霧化模塊和反應模塊，霧化模塊連通反應模塊，反應模塊連通有尾氣處理模塊；反應模塊與霧化模塊之間連通有積液回流裝置；反應模塊中設置有水平的微通道，用于提供沉積反應...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及化學氣相沉積爐及化學氣相沉積裝置，屬于化學氣相沉積設備技術領域；所述化學氣相沉積爐包括：沉積爐本體，在沉積爐本體內部形成沉積室，沉積室內部安裝有攪拌機構；整個化學氣相沉積裝置采用熱風作為動力源，既可以推動沉積室內部設置的攪拌機構運...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請涉及合金表面處理技術領域，具體公開了一種鎂合金表面處理劑及其制備方法。一種鎂合金表面處理劑，包含以下重量份的組分：鉬鹽20?30份、釩鹽8?12份、無機酸0.4?2份、絡合劑4.5?6份、氧化硅3?5份、十二烷基硫酸鈉0.3?0.5份...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請提供了一種輔助手動上下片治具，屬于半導體生產設備技術領域，包括：第一治具部分，所述第一治具部分包括握持部、第一定位部和夾持部；第二治具部分，所述第二治具部分設置于磁控濺射設備的進出片腔體，所述第二治具部分包括支撐部和第二定位部；在所述...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種真空鍍膜機的送板裝置，包括：安裝架，設置于所述過渡艙內；一對上固定槽板和一對下固定槽板，固定設置在所述安裝架上；一對上動槽板，通過上主動曲柄連桿和上從動曲柄連桿活動安裝在所述安裝架上，所述上主動曲柄連桿連接有上動力源；一...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種帶有快換式升降錫爐裝置的涂錫機，涉及涂錫機技術領域，解決了錫爐內的錫液更換不便，容易存在殘留的問題，其包括涂錫機本體和錫爐，還包括：用于放置錫爐的車架，所述車架的底部安裝有滾輪以便錫爐移動；抬升組件，所述抬升組件包括安裝...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型屬于顯示裝置制造技術領域，公開了一種化學氣相沉積裝置，包括腔體、安裝架、上電極、下電極和絕緣墊，腔體通過安裝架設置于地面上，腔體內設置有沉積腔，上電極和下電極沿豎直方向間隔設置于沉積腔，上電極連接射頻電源，下電極接地并用于承托待鍍...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種蒸發臺片架，包括蒸發臺體，所述蒸發臺體內上部設有多個容置槽，容置槽內底部通過立桿插設有深度調節板，第一空腔內部通過絲杠設有升降板，立桿下端與升降板上部固定連接，容置槽內壁設有鎖定槽，且鎖定槽內通過連桿設有定位壓片，且第二...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明提供了一種用于連續進行原子層及分子層沉積的方法及裝置，通過反應器結構以及伸縮機構使得本裝置在不同工位時進行不同的沉積反應，依次進行原子層沉積技術包覆導電陶瓷層，再進行分子沉積包覆碳材料以及和高溫碳化過程，中途不需要取出中間產物，實現連...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明的一種TM022模式微波等離子體金剛石膜沉積裝置，屬于微波等離子體化學氣相沉積技術領域。結構包括進氣孔(1)、腔體(2)、觀察窗口(3)、測溫窗口(4)、等離子體半球(5)、樣品臺(6)、銅臺(7)、環形石英玻璃(8)、倒圓臺底柱(9...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及薄膜制備技術領域，具體為一種薄膜制備用氣相沉積設備，包括真空腔室，所述真空腔室頂端設置有沉積腔室，所述沉積腔室內部設置有沉積機構，所述真空腔室內部設置有水冷機構，在氣相沉積作業進行中時，可以透過頂部密閉蓋中部設置的硼玻璃觀察窗...
								
        
							
        
							
						
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								      一種可快速調節齒條的鍍膜修正板結構，包括支撐板、蓋板、齒條組件及調節組件；支撐板上間隔設有若干限位塊，相鄰限位塊之間形成限位槽，限位塊位于限位槽內的側面設有多個凸圓弧部及位于凸圓弧部下方的缺口，支撐板具有第一側及第二側；蓋板罩設各限位塊并與...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及真空鍍膜技術領域，具體地說是一種鍍膜用布氣管道。所述中心管道的端部和外管道的端部焊接密封，中心管道一端外側套設外管道，位于外管道內的中心管道表面均勻設有出氣孔，所述外管道均勻布有外管道孔，通過外管道孔和補心嚙合連接。所述補心外...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種用于復合銅箔膜的水電鍍方法及設備，所述水電鍍設備包括銅電鍍槽和保護電鍍槽，形成有金屬銅濺射層的聚酯薄膜輸入銅電鍍槽并形成金屬銅電鍍層；形成金屬銅電鍍層的聚脂薄膜從銅電鍍槽輸入保護電鍍槽并形成保護層。本申請通過將形成有金屬銅濺...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請涉及一種真空鍍膜設備及其鍍膜控制方法，所述設備包括：真空腔室，內置有連接控制系統的產品轉盤、濺射系統以及離子源；光譜檢測裝置，連接至控制系統，用于在鍍膜過程中檢測鍍膜產品的光譜能量數據并上報至控制系統；控制系統，用于控制產品轉盤、濺射...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及一種帶鋼鍍鋅槽，屬于帶鋼加工技術領域，包括鍍鋅槽主體，所述鍍鋅槽主體一側頂部設有放卷輥，所述鍍鋅槽主體另一側固定安裝有托架，所述托架上放置有收卷輥，所述鍍鋅槽主體頂部靠近收卷輥的一端設有輔助輪，所述鍍鋅槽內部頂端設有安裝架，所...
								
        
							
        
							
						
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