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                  		五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
                  	
                  
      
                
      
                
      
                    
        
					
						
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								      本實用新型公開了一種用于不耐高溫基材在真空室鍍膜中的溫控系統(tǒng)，包括設(shè)置于真空室內(nèi)且與基材相貼合進行換熱的熱交換組件，所述熱交換組件與設(shè)置于真空室外且并行設(shè)置的冷卻模塊以及升溫模塊相連通；設(shè)置冷卻模塊，對鍍膜過程中的基材進行冷卻，從而帶走基材...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種氧化硅表面生長石墨烯薄膜的方法，其包括如下步驟：S1，提供氧化硅片襯底，其中，該氧化硅片襯底包括硅片和位于硅片表面的氧化硅薄膜，該氧化硅薄膜的厚度為90nm?300nm；S2，在功率為20瓦?50瓦的等離子輔助和380℃?60...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型提供了一種便于換粉的送粉裝置及設(shè)備，包括：快拆粉筒組件；出粉組件，所述出粉組件包括殼體和轉(zhuǎn)盤，所述快拆粉筒組件的出口與所述殼體可拆卸連接，所述轉(zhuǎn)盤設(shè)置在殼體內(nèi)，所述轉(zhuǎn)盤上設(shè)有用于容納從所述快拆粉筒組件流下的粉末的環(huán)形容納槽；驅(qū)動電...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種微通道式Mist?CVD薄膜外延系統(tǒng)，包括供氣模塊，供氣模塊連通有霧化模塊和反應(yīng)模塊，霧化模塊連通反應(yīng)模塊，反應(yīng)模塊連通有尾氣處理模塊；反應(yīng)模塊與霧化模塊之間連通有積液回流裝置；反應(yīng)模塊中設(shè)置有水平的微通道，用于提供沉積反應(yīng)...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及化學氣相沉積爐及化學氣相沉積裝置，屬于化學氣相沉積設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域；所述化學氣相沉積爐包括：沉積爐本體，在沉積爐本體內(nèi)部形成沉積室，沉積室內(nèi)部安裝有攪拌機構(gòu)；整個化學氣相沉積裝置采用熱風作為動力源，既可以推動沉積室內(nèi)部設(shè)置的攪拌機構(gòu)運...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請涉及合金表面處理技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種鎂合金表面處理劑及其制備方法。一種鎂合金表面處理劑，包含以下重量份的組分：鉬鹽20?30份、釩鹽8?12份、無機酸0.4?2份、絡(luò)合劑4.5?6份、氧化硅3?5份、十二烷基硫酸鈉0.3?0.5份...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請?zhí)峁┝艘环N輔助手動上下片治具，屬于半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，包括：第一治具部分，所述第一治具部分包括握持部、第一定位部和夾持部；第二治具部分，所述第二治具部分設(shè)置于磁控濺射設(shè)備的進出片腔體，所述第二治具部分包括支撐部和第二定位部；在所述...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種真空鍍膜機的送板裝置，包括：安裝架，設(shè)置于所述過渡艙內(nèi)；一對上固定槽板和一對下固定槽板，固定設(shè)置在所述安裝架上；一對上動槽板，通過上主動曲柄連桿和上從動曲柄連桿活動安裝在所述安裝架上，所述上主動曲柄連桿連接有上動力源；一...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種帶有快換式升降錫爐裝置的涂錫機，涉及涂錫機技術(shù)領(lǐng)域，解決了錫爐內(nèi)的錫液更換不便，容易存在殘留的問題，其包括涂錫機本體和錫爐，還包括：用于放置錫爐的車架，所述車架的底部安裝有滾輪以便錫爐移動；抬升組件，所述抬升組件包括安裝...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型屬于顯示裝置制造技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種化學氣相沉積裝置，包括腔體、安裝架、上電極、下電極和絕緣墊，腔體通過安裝架設(shè)置于地面上，腔體內(nèi)設(shè)置有沉積腔，上電極和下電極沿豎直方向間隔設(shè)置于沉積腔，上電極連接射頻電源，下電極接地并用于承托待鍍...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種蒸發(fā)臺片架，包括蒸發(fā)臺體，所述蒸發(fā)臺體內(nèi)上部設(shè)有多個容置槽，容置槽內(nèi)底部通過立桿插設(shè)有深度調(diào)節(jié)板，第一空腔內(nèi)部通過絲杠設(shè)有升降板，立桿下端與升降板上部固定連接，容置槽內(nèi)壁設(shè)有鎖定槽，且鎖定槽內(nèi)通過連桿設(shè)有定位壓片，且第二...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種用于連續(xù)進行原子層及分子層沉積的方法及裝置，通過反應(yīng)器結(jié)構(gòu)以及伸縮機構(gòu)使得本裝置在不同工位時進行不同的沉積反應(yīng)，依次進行原子層沉積技術(shù)包覆導(dǎo)電陶瓷層，再進行分子沉積包覆碳材料以及和高溫碳化過程，中途不需要取出中間產(chǎn)物，實現(xiàn)連...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明的一種TM022模式微波等離子體金剛石膜沉積裝置，屬于微波等離子體化學氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域。結(jié)構(gòu)包括進氣孔(1)、腔體(2)、觀察窗口(3)、測溫窗口(4)、等離子體半球(5)、樣品臺(6)、銅臺(7)、環(huán)形石英玻璃(8)、倒圓臺底柱(9...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及薄膜制備技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種薄膜制備用氣相沉積設(shè)備，包括真空腔室，所述真空腔室頂端設(shè)置有沉積腔室，所述沉積腔室內(nèi)部設(shè)置有沉積機構(gòu)，所述真空腔室內(nèi)部設(shè)置有水冷機構(gòu)，在氣相沉積作業(yè)進行中時，可以透過頂部密閉蓋中部設(shè)置的硼玻璃觀察窗...
								
        
							
        
							
						
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								      一種可快速調(diào)節(jié)齒條的鍍膜修正板結(jié)構(gòu)，包括支撐板、蓋板、齒條組件及調(diào)節(jié)組件；支撐板上間隔設(shè)有若干限位塊，相鄰限位塊之間形成限位槽，限位塊位于限位槽內(nèi)的側(cè)面設(shè)有多個凸圓弧部及位于凸圓弧部下方的缺口，支撐板具有第一側(cè)及第二側(cè)；蓋板罩設(shè)各限位塊并與...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體地說是一種鍍膜用布氣管道。所述中心管道的端部和外管道的端部焊接密封，中心管道一端外側(cè)套設(shè)外管道，位于外管道內(nèi)的中心管道表面均勻設(shè)有出氣孔，所述外管道均勻布有外管道孔，通過外管道孔和補心嚙合連接。所述補心外...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種用于復(fù)合銅箔膜的水電鍍方法及設(shè)備，所述水電鍍設(shè)備包括銅電鍍槽和保護電鍍槽，形成有金屬銅濺射層的聚酯薄膜輸入銅電鍍槽并形成金屬銅電鍍層；形成金屬銅電鍍層的聚脂薄膜從銅電鍍槽輸入保護電鍍槽并形成保護層。本申請通過將形成有金屬銅濺...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請涉及一種真空鍍膜設(shè)備及其鍍膜控制方法，所述設(shè)備包括：真空腔室，內(nèi)置有連接控制系統(tǒng)的產(chǎn)品轉(zhuǎn)盤、濺射系統(tǒng)以及離子源；光譜檢測裝置，連接至控制系統(tǒng)，用于在鍍膜過程中檢測鍍膜產(chǎn)品的光譜能量數(shù)據(jù)并上報至控制系統(tǒng)；控制系統(tǒng)，用于控制產(chǎn)品轉(zhuǎn)盤、濺射...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及一種帶鋼鍍鋅槽，屬于帶鋼加工技術(shù)領(lǐng)域，包括鍍鋅槽主體，所述鍍鋅槽主體一側(cè)頂部設(shè)有放卷輥，所述鍍鋅槽主體另一側(cè)固定安裝有托架，所述托架上放置有收卷輥，所述鍍鋅槽主體頂部靠近收卷輥的一端設(shè)有輔助輪，所述鍍鋅槽內(nèi)部頂端設(shè)有安裝架，所...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明及一種螺栓螺桿混合生產(chǎn)線，屬于螺栓螺桿鍍鋅技術(shù)領(lǐng)域，包括用于對螺桿工件進行鍍鋅的螺桿生產(chǎn)線和用于對螺栓工件進行鍍鋅的螺栓生產(chǎn)線；所述螺栓生產(chǎn)線和螺桿生產(chǎn)線公有用于對螺栓螺桿工件進行預(yù)處理的前處理設(shè)備和對螺栓螺桿工件進行鍍鋅的鍍鋅設(shè)備；...
								
        
							
        
							
						
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