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                  		五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
                  	
                  
      
                
      
                
      
                    
        
					
						
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								      本實(shí)用新型提供了一種氣相沉積設(shè)備及半導(dǎo)體加工系統(tǒng)，屬于半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，氣相沉積設(shè)備包括基座、中心遮擋部、至少一遮蔽環(huán)和驅(qū)動結(jié)構(gòu)，基座用于承載襯底，中心遮擋部設(shè)置于基座的上方，用于遮擋襯底的中部，遮蔽環(huán)用于嵌套于中心遮擋部的邊緣，與中心遮...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請公開了一種外置磁場調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)及磁控濺射設(shè)備，外置磁場調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括固定組件、轉(zhuǎn)動組件和磁性件，固定組件用于連接磁控濺射設(shè)備的陰極，并設(shè)置在陰極的外部，轉(zhuǎn)動組件與固定組件連接，可相對于固定組件轉(zhuǎn)動，磁性件設(shè)置在轉(zhuǎn)動組件上，與轉(zhuǎn)動組件共同相對...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供一種在將鎢膜作為微細(xì)結(jié)晶膜的同時(shí)，還能根據(jù)膜厚調(diào)整膜應(yīng)力的硬掩模的制造方法。其包括：以鎢材質(zhì)的靶材作為靶，在真空氣氛的處理室內(nèi)導(dǎo)入稀有氣體和氮?dú)?，通過反應(yīng)性濺射法在被處理基板Sw表面形成氮化鎢膜Ly1的第一工序；以及，以鎢材質(zhì)的靶...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開了一種用于熱鍍鋅機(jī)組沉沒輥的位置調(diào)整裝置，本裝置的支撐底座跨設(shè)于熱鍍鋅機(jī)組的氣刀底座上，升降驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括由電機(jī)驅(qū)動的升降機(jī)，升降驅(qū)動機(jī)構(gòu)設(shè)于支撐底座，升降導(dǎo)柱設(shè)于升降機(jī)，橫移底座設(shè)于升降導(dǎo)柱，橫移底座內(nèi)設(shè)有套筒，橫移導(dǎo)柱設(shè)于套...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及化工生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種高磷化學(xué)鎳制備裝置，包括：混合桶以及攪拌機(jī)構(gòu)，所述混合桶上端設(shè)置有進(jìn)料口且下端設(shè)置有下料管，所述攪拌機(jī)構(gòu)包括攪拌電機(jī)以及攪拌軸組件，所述攪拌軸組件包括攪拌軸以及攪拌葉片和清潔刮板，所述清潔刮板遠(yuǎn)離...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種鎢硅合金靶材的鍍鎳方法，所述鍍鎳方法包括以下步驟：(1)將鎢硅合金靶材依次進(jìn)行第一清洗處理、活化處理、第一浸泡熱處理和第二浸泡熱處理，得到預(yù)處理后的靶材；(2)將步驟(1)得到的所述預(yù)處理后的靶材浸泡在鍍鎳液中進(jìn)行鍍鎳處理，然...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種酸性水性組合物，其不含或基本上不含氟陰離子和鎳陽離子兩者，并且至少包含彼此不同的組分a1)至a5)，即作為a1)的磷酸根陰離子、作為a2)的硝酸根陰離子、作為a3)的鋅陽離子、作為a4)的銅陽離子以及作為a5)的鎂陽離子；一種...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種噴淋板、一種半導(dǎo)體器件的加工設(shè)備以及一種半導(dǎo)體器件的加工方法。所述噴淋板包括：頂板，設(shè)于所述噴淋板的頂部，其中心區(qū)域設(shè)有第一進(jìn)氣口，用于獲取反應(yīng)氣體；噴淋頭，設(shè)于所述噴淋板的底部，配合所述頂板形成混氣腔，并經(jīng)由設(shè)于所述噴淋頭...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種基于真空鍍膜在線檢測電機(jī)控厚裝置包括位于外殼內(nèi)部的驅(qū)動板和多個并排設(shè)置的控厚組件，所述控厚組件包括依次連接的直線電機(jī)、連桿、連接塊和補(bǔ)正板，所述驅(qū)動板通過直線電機(jī)控制補(bǔ)正板接近或者遠(yuǎn)離離子膜發(fā)射柱，所述連桿穿過外殼的前面板，...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種兼容于集成電路后道工藝的石墨烯薄膜的制備方法，其包括如下步驟：S1，提供厚度為10nm?50nm的金屬薄膜襯底，該金屬薄膜襯底選自銅，鈷，釕或鎳薄膜襯底中的一種；S2，在活性碳原子濃度增強(qiáng)場中，350℃?400℃下，通入碳源氣...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供一種軟硬相間耐磨強(qiáng)化層的制備方法，涉及表面處理領(lǐng)域，包括：步驟一、基體預(yù)處理；步驟二、稀土鹽浴氮化處理：首先制備三氧化二鉍納米晶須、稀土β?二酮配合物與雙（三氟甲烷磺酰）亞胺三丁基甲基季鏻鹽的分散膠體，依次加入氮源、碳酸鈉、硫代硫...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型提供了一種可調(diào)控氣流的鍍膜裝置，所述鍍膜裝置包括若干個泵組件、鍍膜室和連接所述泵組件與鍍膜室的連接件；所述連接件上設(shè)置有氣流比例閥，所述氣流比例閥用于控制氣路的流量；所述氣流比例閥包括閥體、閥芯和磁流體；所述閥體的上方設(shè)置有磁流體...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開了一種碳化硅基板定位裝置，包括底座，所述底座的一側(cè)設(shè)置有定位結(jié)構(gòu),底座的上端面安裝有至少一個支撐座，支撐座上安裝有定位座，定位座向底座上設(shè)置有定位結(jié)構(gòu)的一側(cè)伸出，定位座上設(shè)置有定位缺口。使用時(shí)，通過底座上的定位結(jié)構(gòu)對碳化硅基板...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例中公開了多弧及磁控復(fù)合濺射陰極，包括安裝架、升降裝置、陰極磁板和靶面板；所述升降裝置包括安裝板、聯(lián)軸器、升降軸和升降頭；所述安裝板設(shè)置在所述安裝架的底部；所述聯(lián)軸器設(shè)置在所述安裝板的底部；所述升降軸與所述聯(lián)軸器傳...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請公開軋輥，所述軋輥包括形成于所述軋輥表面的鋼鐵材料表面氧化膜，其中所述鋼鐵材料表面氧化膜通過以下方法制成：在需要形成Fe3O4氧化膜的鋼鐵材料的表面涂覆活化液，以在鋼鐵材料的表面形成一層活化...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種提升爐鼻子加濕氮?dú)饩鶆蛐匝b置及方法，包括設(shè)置于爐鼻子氮?dú)馊肟谔幍膶?dǎo)流罩，導(dǎo)流罩連接有多級進(jìn)氣管道。本發(fā)明通過在氮?dú)馊肟谏厦婕友b導(dǎo)流罩來改變濕氮的運(yùn)動軌跡，同時(shí)通過在導(dǎo)流罩上加裝的多級濕氮進(jìn)氣管道可以改變濕氮?dú)饬鬟\(yùn)動軌跡，讓鋅...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開一種ALD鍍膜系統(tǒng)及鍍膜方法，涉及ALD鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。鍍膜系統(tǒng)包括反應(yīng)腔體、至少一個檢測腔體、至少兩個第一進(jìn)料源、切換裝置、第二進(jìn)料源；將一個第一進(jìn)料源僅與反應(yīng)腔體導(dǎo)通，并與第二進(jìn)料源交替進(jìn)料，剩余的第一進(jìn)料源僅與檢測腔體導(dǎo)通，同...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提出一種Loadlock型超高真空蒸鍍機(jī)，包括：真空度一致且隔離設(shè)置的過渡腔室10與工作腔室20；所述過渡腔室10內(nèi)設(shè)置有水平伸縮機(jī)構(gòu)30，所述水平伸縮機(jī)構(gòu)30的輸出端開拆卸連接承載晶圓的承載板60；所述工作腔室20的上部設(shè)置有升降裝...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及汽車飾件生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種汽車飾件的真空鍍膜裝置，包括箱體，所述箱體的內(nèi)部安裝有驅(qū)動組件，且驅(qū)動組件的一側(cè)安裝有翻轉(zhuǎn)組件、間歇轉(zhuǎn)動組件和擋板組件；所述驅(qū)動組件包括第一不完全齒輪，且第一不完全齒輪的上端設(shè)置有相嚙合的第一齒輪...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明創(chuàng)造提供了一種基于多弧離子鍍的柱塞偶件加工處理方法，包括：對柱塞偶件進(jìn)行前置熱處理；對前置熱處理后的柱塞偶件進(jìn)行預(yù)處理；對預(yù)處理后的柱塞偶件進(jìn)行第一階段多弧離子鍍處理，以使得柱塞偶件的表面沉積Mo底層；對柱塞偶件進(jìn)行第二階段多弧離子鍍...
								
        
							
        
							
						
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