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五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)

一種高硬度類金剛石薄膜鍍膜方法

本發(fā)明涉及類金剛石薄膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種高硬度類金剛石薄膜鍍膜方法。上述高硬度類金剛石薄膜鍍膜方法，將金屬基材拋光，清洗，烘干，熱處理，降至室溫；送入真空鍍膜裝置中，通過離子源通入氬氣，開啟離子源刻蝕基材；分別以鈦、碳化鈦為靶材進(jìn)行濺射...

2025-09-09
一種金屬散熱片的蝕刻工藝

本發(fā)明屬于金屬蝕刻技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種金屬散熱片的蝕刻工藝，所述該工藝包括：金屬板材預(yù)處理、涂覆光刻膠、曝光和顯影、初步蝕刻、二次精細(xì)蝕刻、去除光刻膠和后處理；具體包括以下步驟：步驟一：金屬板材預(yù)處理清洗：將待蝕刻的金屬板材放入含有表面活...

2025-09-09
一種耐刮擦金屬膜防護(hù)的模板離型處理方法

本申請涉及模板加工領(lǐng)域，公開了一種耐刮擦金屬膜防護(hù)的模板離型處理方法，包括以下步驟：S1.模板表面預(yù)處理：準(zhǔn)備好待處理的模板，將其放入射頻等離子體清洗機(jī)內(nèi)；S2.涂覆襯底層：通過磁控濺射技術(shù)在活化后的模板表面涂覆一層襯底層；S3.使用化學(xué)氣...

2025-09-09
一種濺射沉積絕緣涂層及其制備方法

本發(fā)明涉及一種濺射沉積絕緣涂層及其制備方法，屬于絕緣涂層技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明通過對金屬基體進(jìn)行電化學(xué)拋光，獲得光滑平整且具有一定粗糙度的預(yù)處理金屬基體，然后通過在預(yù)處理金屬基體表面濺射沉積Cr?Ce合金涂層，并控制Cr?Ce合金涂層中Ce元素的...

2025-09-09
一種鐵基鑄件的熱鍍鋅裝置及工藝

本發(fā)明公開了一種鐵基鑄件的熱鍍鋅裝置及工藝，涉及鐵基鑄件技術(shù)領(lǐng)域；而本發(fā)明包括安裝外架，安裝外架的內(nèi)側(cè)底端固定安裝有盛料底箱，且盛料底箱上連通設(shè)有對稱設(shè)置的側(cè)接框體，盛料底箱的內(nèi)腔中設(shè)有配合使用的分隔機(jī)構(gòu)，且安裝外架的頂端設(shè)有與盛料底箱配合...

2025-09-09
用于常壓爐管系統(tǒng)的制備薄膜的方法以及常壓爐管系統(tǒng)

本申請公開了一種用于常壓爐管系統(tǒng)的制備薄膜的方法以及常壓爐管系統(tǒng)，所述方法包括：獲得常壓爐管內(nèi)部的工作氣壓，以作為第一氣壓；獲得常壓爐管的尾管的氣壓，以作為第二氣壓；基于所述第一氣壓和所述第二氣壓，調(diào)整所述第一氣壓和所述第二氣壓的壓力差，使...

2025-09-09
一種高平整度滲鋁涂層及其制備方法

本發(fā)明涉及一種高平整度滲鋁涂層，其原料包括：10～15wt％的無機(jī)纖維素，1～3wt％的有機(jī)聯(lián)結(jié)劑，15～25wt％的分散劑，17～25wt％的鋁粉，0.5～0.8wt％的氯化銨，0.2～0.4wt％的氟化鈉，25～44wt％的氧化鋁粉。本...

2025-09-09
PECVD工藝腔室多晶圓沉積用的加熱基座

本實(shí)用新型公開了PECVD工藝腔室多晶圓沉積用的加熱基座，涉及PECVD設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域；包括：熱盤頂殼，其上面與晶圓直接接觸，底部開有容置槽；電阻加熱結(jié)構(gòu)，所述電阻加熱結(jié)構(gòu)包括一根加熱管體盤繞而成的加熱盤和引線管，在加熱盤中內(nèi)置有電阻絲，在引...

2025-09-09
一種濺射鍍膜生產(chǎn)用定位裝置

本實(shí)用新型提供了一種濺射鍍膜生產(chǎn)用定位裝置，包括：樣品盤，所述樣品盤上表面的開設(shè)置物槽，置物槽底部開設(shè)移動(dòng)槽，移動(dòng)槽內(nèi)通過軸承活動(dòng)連接主絲桿，且置物槽底部固定連接底板，底部表面相對移動(dòng)槽的位置對應(yīng)開設(shè)主滑槽，而移動(dòng)板通過螺接的主絲桿滑動(dòng)連接...

2025-09-09
一種鋁蜂窩芯鈍化裝置及鈍化方法

本發(fā)明公開了鋁材鈍化技術(shù)領(lǐng)域的一種鋁蜂窩芯鈍化裝置及鈍化方法，包括液劑出入通道、上鈍化部、下鈍化部和純水進(jìn)入通道，所述液劑出入通道作為拋光劑或者鈍化劑的輸送通道；上鈍化部的內(nèi)壁活動(dòng)貫穿卡接有活動(dòng)板，所述活動(dòng)板將上鈍化部內(nèi)部分隔為第一腔室和第...

2025-09-09
供給裝置、成膜裝置及保持構(gòu)件

本發(fā)明提供一種能夠通過簡易的機(jī)構(gòu)使大量電子零件的一部分為了成膜而統(tǒng)一露出的供給裝置、成膜裝置及保持構(gòu)件。實(shí)施方式的供給裝置向?qū)﹄娮恿慵M(jìn)行成膜的成膜裝置的成膜處理部供給電子零件，其包括：掩模，具有覆蓋電子零件的一部分的掩模孔，以使電子零件貫...

2025-09-09
薄膜制備工藝

本公開提供了薄膜制備工藝，屬于薄膜材料技術(shù)領(lǐng)域。該薄膜制備工藝包括：提供第一結(jié)構(gòu)體，其包括目標(biāo)材料層、分別結(jié)合至目標(biāo)材料層的相對兩個(gè)表面的兩組金屬層，金屬層的熱膨脹系數(shù)大于目標(biāo)材料層的熱膨脹系數(shù)。對第一結(jié)構(gòu)體進(jìn)行升溫處理，使得目標(biāo)材料層的內(nèi)...

2025-09-09
一種真空鍍膜用跨腔室送料裝置

本實(shí)用新型涉及一種真空鍍膜用跨腔室送料裝置，包括A腔室、B腔室、載具、轉(zhuǎn)運(yùn)裝置和轉(zhuǎn)運(yùn)調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，A腔室和B腔室之間設(shè)置用于工件轉(zhuǎn)送的轉(zhuǎn)送通道，轉(zhuǎn)送通道處設(shè)置有對轉(zhuǎn)送通道的連通狀態(tài)進(jìn)行調(diào)整的啟閉組件，A腔室內(nèi)設(shè)置有用于支撐轉(zhuǎn)運(yùn)裝置的A導(dǎo)送組件，...

2025-09-09
一種增強(qiáng)錸條及其制備方法與應(yīng)用

本發(fā)明涉及高溫金屬防護(hù)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種增強(qiáng)錸條及其制備方法與應(yīng)用。本發(fā)明提供了一種增強(qiáng)錸條，所述增強(qiáng)錸條包括錸條及負(fù)載在所述錸條表面的氧化鋯摻雜三氧化二鈰涂層；以所述氧化鋯摻雜三氧化二鈰涂層重量計(jì)，所述三氧化二鈰的含量為1~5 wt%...

2025-09-09
一種真空鍍膜機(jī)用工件載架及真空鍍膜機(jī)

本發(fā)明公開了一種真空鍍膜機(jī)用工件載架及真空鍍膜機(jī)，工件載架包括公轉(zhuǎn)軸和轉(zhuǎn)動(dòng)安裝在公轉(zhuǎn)軸上的公轉(zhuǎn)架，公轉(zhuǎn)架上安裝有多根用于連接安裝工件的自轉(zhuǎn)軸，自轉(zhuǎn)軸通過擺動(dòng)機(jī)構(gòu)以能擺動(dòng)的方式安裝在公轉(zhuǎn)架上，各自轉(zhuǎn)軸與公轉(zhuǎn)軸之間設(shè)有在公轉(zhuǎn)架轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)驅(qū)使自轉(zhuǎn)軸同...

2025-09-09
一種雙腔室濺射鍍膜設(shè)備

本實(shí)用新型涉及一種雙腔室濺射鍍膜設(shè)備，包括機(jī)架，機(jī)架上設(shè)置有裝載腔室、鍍膜腔室，裝載腔室和鍍膜腔室之間設(shè)置有轉(zhuǎn)運(yùn)裝置，鍍膜腔室上設(shè)置有A加熱裝置、載臺、清洗單元、鍍膜單元，鍍膜腔室還與A冷卻單元、A抽真空單元、A氣體單元相連接；裝載腔室內(nèi)設(shè)...

2025-09-09
一種門窗玻璃鍍膜裝置

本申請公開一種門窗玻璃鍍膜裝置，屬于門窗玻璃加工技術(shù)領(lǐng)域，其包括傳送箱，傳送箱的頂部固定安裝有磁控鍍膜箱，傳送箱的頂部位于磁控鍍膜箱的一側(cè)固定安裝有真空鍍膜箱，傳送箱內(nèi)部位于磁控鍍膜箱的下方固定安裝有電動(dòng)滑軌，電動(dòng)滑軌的滑動(dòng)端滑動(dòng)連接有電動(dòng)...

2025-09-09
一種非晶硅膜的制備方法

本發(fā)明公開了一種非晶硅膜的制備方法，包括：將基體置于真空室內(nèi)，并在所述真空室內(nèi)的壓力為10^?4Pa的條件下，對所述基體的表面進(jìn)行清洗處理；對清洗后的基體進(jìn)行加熱處理，并向所述真空室內(nèi)通入硅烷氣體和稀薄氣體；利用高頻硅源...

2025-09-09
DLC膜的柔化處理方法

本發(fā)明公開了一種DLC膜的柔化處理方法，將待處理的DLC膜樣品放入真空腔室內(nèi)，將所述真空腔室進(jìn)行抽真空，通過濺射系統(tǒng)將濺射氣體注入所述真空腔室中，其中，濺射氣體包括氬氣，再將氦氣注入所述真空腔室內(nèi)，使得氦氣分子透過DLC膜，影響其內(nèi)部結(jié)構(gòu)，...

2025-09-09
一種用于真空鍍膜的快速夾持裝置

本實(shí)用新型涉及真空鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于真空鍍膜的快速夾持裝置。技術(shù)問題：現(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備，通常采用基板放置工件材料在真空箱內(nèi)，由于鍍膜工件的種類不同，使得基板與工件之間的不匹配，導(dǎo)致的鍍膜不均勻，影響鍍膜質(zhì)量的問題。技術(shù)方案...

2025-09-09

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