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								      本發明涉及化學氣相沉積爐及化學氣相沉積裝置，屬于化學氣相沉積設備技術領域；所述化學氣相沉積爐包括：沉積爐本體，在沉積爐本體內部形成沉積室，沉積室內部安裝有攪拌機構；整個化學氣相沉積裝置采用熱風作為動力源，既可以推動沉積室內部設置的攪拌機構運...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種帶有快換式升降錫爐裝置的涂錫機，涉及涂錫機技術領域，解決了錫爐內的錫液更換不便，容易存在殘留的問題，其包括涂錫機本體和錫爐，還包括：用于放置錫爐的車架，所述車架的底部安裝有滾輪以便錫爐移動；抬升組件，所述抬升組件包括安裝...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型屬于顯示裝置制造技術領域，公開了一種化學氣相沉積裝置，包括腔體、安裝架、上電極、下電極和絕緣墊，腔體通過安裝架設置于地面上，腔體內設置有沉積腔，上電極和下電極沿豎直方向間隔設置于沉積腔，上電極連接射頻電源，下電極接地并用于承托待鍍...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種蒸發臺片架，包括蒸發臺體，所述蒸發臺體內上部設有多個容置槽，容置槽內底部通過立桿插設有深度調節板，第一空腔內部通過絲杠設有升降板，立桿下端與升降板上部固定連接，容置槽內壁設有鎖定槽，且鎖定槽內通過連桿設有定位壓片，且第二...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明提供了一種用于連續進行原子層及分子層沉積的方法及裝置，通過反應器結構以及伸縮機構使得本裝置在不同工位時進行不同的沉積反應，依次進行原子層沉積技術包覆導電陶瓷層，再進行分子沉積包覆碳材料以及和高溫碳化過程，中途不需要取出中間產物，實現連...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明的一種TM022模式微波等離子體金剛石膜沉積裝置，屬于微波等離子體化學氣相沉積技術領域。結構包括進氣孔(1)、腔體(2)、觀察窗口(3)、測溫窗口(4)、等離子體半球(5)、樣品臺(6)、銅臺(7)、環形石英玻璃(8)、倒圓臺底柱(9...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及薄膜制備技術領域，具體為一種薄膜制備用氣相沉積設備，包括真空腔室，所述真空腔室頂端設置有沉積腔室，所述沉積腔室內部設置有沉積機構，所述真空腔室內部設置有水冷機構，在氣相沉積作業進行中時，可以透過頂部密閉蓋中部設置的硼玻璃觀察窗...
								
        
							
        
							
						
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								      一種可快速調節齒條的鍍膜修正板結構，包括支撐板、蓋板、齒條組件及調節組件；支撐板上間隔設有若干限位塊，相鄰限位塊之間形成限位槽，限位塊位于限位槽內的側面設有多個凸圓弧部及位于凸圓弧部下方的缺口，支撐板具有第一側及第二側；蓋板罩設各限位塊并與...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及真空鍍膜技術領域，具體地說是一種鍍膜用布氣管道。所述中心管道的端部和外管道的端部焊接密封，中心管道一端外側套設外管道，位于外管道內的中心管道表面均勻設有出氣孔，所述外管道均勻布有外管道孔，通過外管道孔和補心嚙合連接。所述補心外...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種用于復合銅箔膜的水電鍍方法及設備，所述水電鍍設備包括銅電鍍槽和保護電鍍槽，形成有金屬銅濺射層的聚酯薄膜輸入銅電鍍槽并形成金屬銅電鍍層；形成金屬銅電鍍層的聚脂薄膜從銅電鍍槽輸入保護電鍍槽并形成保護層。本申請通過將形成有金屬銅濺...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請涉及一種真空鍍膜設備及其鍍膜控制方法，所述設備包括：真空腔室，內置有連接控制系統的產品轉盤、濺射系統以及離子源；光譜檢測裝置，連接至控制系統，用于在鍍膜過程中檢測鍍膜產品的光譜能量數據并上報至控制系統；控制系統，用于控制產品轉盤、濺射...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及一種帶鋼鍍鋅槽，屬于帶鋼加工技術領域，包括鍍鋅槽主體，所述鍍鋅槽主體一側頂部設有放卷輥，所述鍍鋅槽主體另一側固定安裝有托架，所述托架上放置有收卷輥，所述鍍鋅槽主體頂部靠近收卷輥的一端設有輔助輪，所述鍍鋅槽內部頂端設有安裝架，所...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明及一種螺栓螺桿混合生產線，屬于螺栓螺桿鍍鋅技術領域，包括用于對螺桿工件進行鍍鋅的螺桿生產線和用于對螺栓工件進行鍍鋅的螺栓生產線；所述螺栓生產線和螺桿生產線公有用于對螺栓螺桿工件進行預處理的前處理設備和對螺栓螺桿工件進行鍍鋅的鍍鋅設備；...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種用于金銀合金或純銀凸塊上化鍍鎳金的防腐工藝，其特征在于，包括如下步驟：在基板表面形成金屬凸塊結構；對所述金屬凸塊結構進行圖形化處理，以形成目標圖形的金屬凸塊；對所述金屬凸塊進行預處理，所述預處理包括酸洗、微刻蝕、稀硝酸清洗和...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請涉及合金表面處理技術領域，具體公開了一種鎂合金表面處理劑及其制備方法。一種鎂合金表面處理劑，包含以下重量份的組分：鉬鹽20?30份、釩鹽8?12份、無機酸0.4?2份、絡合劑4.5?6份、氧化硅3?5份、十二烷基硫酸鈉0.3?0.5份...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請提供了一種輔助手動上下片治具，屬于半導體生產設備技術領域，包括：第一治具部分，所述第一治具部分包括握持部、第一定位部和夾持部；第二治具部分，所述第二治具部分設置于磁控濺射設備的進出片腔體，所述第二治具部分包括支撐部和第二定位部；在所述...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種真空鍍膜機的送板裝置，包括：安裝架，設置于所述過渡艙內；一對上固定槽板和一對下固定槽板，固定設置在所述安裝架上；一對上動槽板，通過上主動曲柄連桿和上從動曲柄連桿活動安裝在所述安裝架上，所述上主動曲柄連桿連接有上動力源；一...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開一種用于鎳磷合金鍍層的水性保護劑及制備方法和應用，該水性保護劑包括質量份數如下的組分：50～150份酰胺，30～100份的液體松香衍生物，10～100份的葵二酸酯，5～50份有機磷酸酯，5～50份的有機硼酸酯，1～20份的非離子表...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種鍍鋅工藝用鋅液漂浮物聚集非接觸處理裝置，包括鋅鍋，所述鋅鍋的頂部兩端均設置有混凝土基座，所述混凝土基座的頂部一側固定安裝有第一懸掛架，且混凝土基座的頂部另一側固定安裝有第二懸掛架，所述第一懸掛架和第二懸掛架之間焊接有第三...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種節能型稀土合金熱浸鍍鋅裝置，包括將待鍍件吊入鍍液中的吊裝機構，所述吊裝機構輸出端設有架體，所述架體上設有驅動件以及在架體上呈線性排布的多個板體，每個板體通過一組吊繩吊裝一待鍍件，所述驅動件驅動其中一所述板體移動，相鄰的兩個所...
								
        
							
        
							
						
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