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五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)

一種晶界強(qiáng)化α-Al₂O₃涂層切削工具及其制備方法

本發(fā)明涉及涂層刀具技術(shù)領(lǐng)域，提供了一種晶界強(qiáng)化α?Al₂O₃涂層切削工具及其制備方法，所述切削工具包括基體和基體表面的涂層；所述涂層至少包含一個(gè)通過(guò)CVD方法沉積的α?Al₂...

2025-09-03
一種宏微一體的耐久親水多級(jí)復(fù)合溝槽的加工方法

本發(fā)明公開(kāi)一種宏微一體的耐久親水多級(jí)復(fù)合溝槽的加工方法，包括：S1、采用機(jī)械成形或激光刻槽工藝制備帶有開(kāi)放式溝槽結(jié)構(gòu)的流道基體，除去溝槽內(nèi)部和表面的灰塵；S2、薄膜材料覆蓋在流道基體上；S3、采用壓緊或抽真空的方法將透明靶材覆蓋在覆蓋薄膜材...

2025-09-03
磁性薄膜及其制備方法、半導(dǎo)體封裝模組和電子設(shè)備

本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N磁性薄膜，包括基底和復(fù)合層。復(fù)合層包括層疊的多個(gè)磁性層和絕緣的多個(gè)介質(zhì)層，多個(gè)磁性層和多個(gè)介質(zhì)層在所述基底一側(cè)層疊交替排布。每一個(gè)磁性層的厚度為2nm?100nm；每一個(gè)介質(zhì)層的厚度為2nm?10nm。復(fù)合層包括非周期性分布的...

2025-09-03
一種清理不銹鋼零件表面吹砂介質(zhì)殘留或污染的方法

本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N清理不銹鋼零件表面吹砂介質(zhì)殘留或污染的方法，所述方法在原有鈍化生產(chǎn)線上，直接利用鈍化的清理作用進(jìn)行不銹鋼零件表面吹砂后白剛玉介質(zhì)殘留或污染物清理；所述方法具體包括：步驟一，進(jìn)行溶劑除油；步驟二，進(jìn)行堿清洗除油；步驟三，進(jìn)行鈍...

2025-09-03
一種MPCVD設(shè)備用密封罩的觀察窗結(jié)構(gòu)

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種MPCVD設(shè)備用密封罩的觀察窗結(jié)構(gòu)，包括密封罩本體，所述密封罩本體的側(cè)壁嵌設(shè)有至少一個(gè)觀察窗基座；所述觀察窗基座的頂端位于所述密封罩本體的外部，所述觀察窗基座的頂端可拆卸安裝有玻璃，所述觀察窗基座的底端位于所述密封罩本體...

2025-09-03
一種光伏焊帶用風(fēng)刀

本發(fā)明公開(kāi)了一種光伏焊帶用風(fēng)刀，涉及風(fēng)刀技術(shù)領(lǐng)域，包括上殼體和下殼體，所述上殼體和下殼體同圓心處設(shè)置穿過(guò)焊帶的模具孔，所述上殼體和下殼體連接后形成氣體流通的腔體，所述上殼體和下殼體的模具孔處形成吹風(fēng)口，腔體包括水平段、豎直段、斜向段，所述下...

2025-09-03
一種鋼筋自動(dòng)化噴涂裝置

本申請(qǐng)涉及鋼筋生產(chǎn)制造的技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種鋼筋自動(dòng)化噴涂裝置，包括機(jī)架、進(jìn)料組件、電弧噴涂組件、涂層噴涂組件以及烘干組件。機(jī)架上固定連接有限位板，進(jìn)料組件包括進(jìn)料輸送輥和驅(qū)動(dòng)件，進(jìn)料輸送輥轉(zhuǎn)動(dòng)連接在機(jī)架上，驅(qū)動(dòng)件用于驅(qū)動(dòng)進(jìn)料輸送輥轉(zhuǎn)動(dòng)...

2025-09-03
一種石墨坩堝鍍膜工藝、鍍膜石墨坩堝及其應(yīng)用

本發(fā)明公開(kāi)了一種石墨坩堝鍍膜工藝、鍍膜石墨坩堝及其在石英玻璃生產(chǎn)中的應(yīng)用。石墨坩堝鍍膜工藝包括：向潔凈干燥的石墨坩堝中加入鍍膜材料，在石墨坩堝加蓋或不加蓋的條件下，在非氧化性的真空環(huán)境下將石墨坩堝加熱至鍍膜溫度進(jìn)行鍍膜，鍍膜結(jié)束后對(duì)石墨坩堝...

2025-09-03
一種制備高承載減摩自潤(rùn)滑功能層的復(fù)合滲碳方法

一種制備高承載減摩自潤(rùn)滑功能層的復(fù)合滲碳方法，屬于合金處理技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明的目的是為了解決類(lèi)金剛石/類(lèi)石墨薄膜與基體的組織、成分差異過(guò)大，使得二者的結(jié)合力差的問(wèn)題，本發(fā)明通過(guò)低溫等離子體滲碳處理，在具有彌散碳化物的滲碳齒輪表面原位生成類(lèi)金剛...

2025-09-03
一種42CrMo變溫氮化工藝

本發(fā)明屬于金屬材料熱處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種42CrMo齒圈的變溫氮化工藝，包括，對(duì)齒圈進(jìn)行預(yù)氧化，溫度為300?400℃，時(shí)間為1?2h；對(duì)齒圈進(jìn)行氮化處理處理：將齒圈升溫至550?580℃；強(qiáng)滲階段，溫度為550?580℃，Kn值為3...

2025-09-03
一種化學(xué)鍍鎳處理裝置

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種化學(xué)鍍鎳處理裝置，包括槽口朝上的鍍槽，鍍槽內(nèi)設(shè)有鍍鎳滾筒，鍍鎳滾筒包括呈前后對(duì)稱(chēng)布置的滾筒架，滾筒架之間固定連接有連桿，所述滾筒架之間轉(zhuǎn)動(dòng)連接有滾筒本體，滾筒本體上設(shè)有大齒輪，大齒輪的上方嚙合有轉(zhuǎn)動(dòng)連接在所述滾筒架上的小...

2025-09-03
一種動(dòng)態(tài)自適應(yīng)蒸鍍系統(tǒng)及蒸鍍方法

本發(fā)明涉及一種動(dòng)態(tài)自適應(yīng)蒸鍍系統(tǒng)及蒸鍍方法，蒸鍍系統(tǒng)包括真空腔體、蒸發(fā)源與基片載板，真空腔體包括由下至上依次連通的蒸發(fā)區(qū)、過(guò)渡區(qū)與沉積區(qū)，蒸發(fā)區(qū)與過(guò)渡區(qū)之間設(shè)有第一隔板，第一隔板的中心通氣并設(shè)有第一隔斷裝置，過(guò)渡區(qū)與沉積區(qū)之間設(shè)有第二隔板，...

2025-09-03
一種加熱設(shè)備

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種加熱設(shè)備，包括：燈泡、水冷燈罩和燈座，所述水冷燈罩和燈座可拆卸連接；所述燈座包括座板，所述座板上設(shè)有接線銅排，所述接線銅排包括一個(gè)零線銅排和至少一個(gè)火線銅排，所述座板上還設(shè)有與所述燈泡的插頭相適配的插座，所述插座與零線銅...

2025-09-03
一種基板上粘貼的膠帶的揭取方法

本發(fā)明涉及薄膜制備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種基板上粘貼的膠帶的揭取方法，在基板上設(shè)置膠帶的起頭部，所述膠帶的粘貼范圍至少覆蓋所述起頭部的一部分；自所述起頭部對(duì)所述膠帶進(jìn)行揭起并將其從所述基板上逐步剝離，同時(shí)對(duì)剝離的所述膠帶進(jìn)行纏繞收集。本發(fā)明的優(yōu)...

2025-09-03
雙階段噴丸-MoS₂復(fù)合強(qiáng)化柔輪及剛輪表面性能的方法

本發(fā)明涉及雙階段噴丸?MoS₂復(fù)合強(qiáng)化柔輪及剛輪表面性能的方法，屬于金屬表面加工技術(shù)領(lǐng)域，包括以下步驟：S1、采用金屬硬質(zhì)微粒對(duì)中碳合金鋼材質(zhì)的柔輪和剛輪表面分別進(jìn)行微粒噴丸處理；S2、分別對(duì)由步驟S1處理后的柔輪和剛...

2025-09-03
一種鉆石反應(yīng)腔的冷卻結(jié)構(gòu)

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種鉆石反應(yīng)腔的冷卻結(jié)構(gòu)，包括反應(yīng)底座、生長(zhǎng)臺(tái)和環(huán)形玻璃；所述反應(yīng)底座的頂部設(shè)有反應(yīng)槽，所述反應(yīng)槽的內(nèi)底壁和所述生長(zhǎng)臺(tái)的底端之間分別設(shè)有環(huán)形槽，所述環(huán)形玻璃的上下兩端分別嵌設(shè)于對(duì)應(yīng)的所述環(huán)形槽內(nèi)，所述環(huán)形玻璃與所述環(huán)形槽之間...

2025-09-03
一種鉆石生長(zhǎng)臺(tái)的冷卻結(jié)構(gòu)

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種鉆石生長(zhǎng)臺(tái)的冷卻結(jié)構(gòu)，包括生長(zhǎng)臺(tái)，所述生長(zhǎng)臺(tái)的頂端可拆卸安裝有鉬環(huán)，所述鉬環(huán)與所述生長(zhǎng)臺(tái)相互貼合，所述生長(zhǎng)臺(tái)的內(nèi)部設(shè)有第一水冷腔和第二水冷腔，所述第一水冷腔和第二水冷腔通過(guò)若干通孔連通，所述第二水冷腔的內(nèi)壁設(shè)有若干翅片板...

2025-09-03
一種提高鋁合金模具CrN涂層沉積效率的激光沖擊工藝

本發(fā)明涉及一種提高鋁合金模具CrN涂層沉積效率的激光沖擊工藝，包括以下步驟：（1）、將原始模具鋼線切割成樣品；（2）、將樣品進(jìn)行熱處理，拋光打磨后使用有機(jī)溶劑進(jìn)行超聲波清洗，烘干；（3）、將樣品夾裝到激光沖擊強(qiáng)化試驗(yàn)平臺(tái)上對(duì)表面進(jìn)行激光沖擊...

2025-09-03
一種真空室連續(xù)供料機(jī)構(gòu)及物理氣相沉積裝置

本發(fā)明涉及真空沉積技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種真空室連續(xù)供料機(jī)構(gòu)及物理氣相沉積裝置，包括傳輸室，其內(nèi)部具有腔體空間，腔體空間還具有可與真空室連通的第一開(kāi)口，以及可與外部連通的第二開(kāi)口；以及，輸送組件，其用于攜帶物料沿設(shè)定的輸送路徑P_i

2025-09-03
一種適用于PECVD的氣體噴淋頭

本實(shí)用新型涉及氣體噴淋設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種適用于PECVD的氣體噴淋頭，為解決現(xiàn)有技術(shù)氣體流速不均勻、制備效率低的問(wèn)題。該氣體噴淋頭包括圍管，管狀結(jié)構(gòu)；氣體噴淋板，設(shè)置在所述圍管的下端，其上設(shè)有若干出氣孔，所述出氣孔的縱向剖面為中間細(xì)...

2025-09-03

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