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            拖動(dòng)滑塊完成拼圖
        
      
        
      
    
      
    
      
        
      
        
      
    
      

      














      
    
    
      
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                  		五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
                  	
                  
      
                
      
                
      
                    
        
					
						
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								      本發(fā)明提供了一種噴淋板、一種半導(dǎo)體器件的加工設(shè)備以及一種半導(dǎo)體器件的加工方法。所述噴淋板包括：頂板，設(shè)于所述噴淋板的頂部，其中心區(qū)域設(shè)有第一進(jìn)氣口，用于獲取反應(yīng)氣體；噴淋頭，設(shè)于所述噴淋板的底部，配合所述頂板形成混氣腔，并經(jīng)由設(shè)于所述噴淋頭...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種基于真空鍍膜在線檢測(cè)電機(jī)控厚裝置包括位于外殼內(nèi)部的驅(qū)動(dòng)板和多個(gè)并排設(shè)置的控厚組件，所述控厚組件包括依次連接的直線電機(jī)、連桿、連接塊和補(bǔ)正板，所述驅(qū)動(dòng)板通過(guò)直線電機(jī)控制補(bǔ)正板接近或者遠(yuǎn)離離子膜發(fā)射柱，所述連桿穿過(guò)外殼的前面板，...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種兼容于集成電路后道工藝的石墨烯薄膜的制備方法，其包括如下步驟：S1，提供厚度為10nm?50nm的金屬薄膜襯底，該金屬薄膜襯底選自銅，鈷，釕或鎳薄膜襯底中的一種；S2，在活性碳原子濃度增強(qiáng)場(chǎng)中，350℃?400℃下，通入碳源氣...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供一種軟硬相間耐磨強(qiáng)化層的制備方法，涉及表面處理領(lǐng)域，包括：步驟一、基體預(yù)處理；步驟二、稀土鹽浴氮化處理：首先制備三氧化二鉍納米晶須、稀土β?二酮配合物與雙（三氟甲烷磺酰）亞胺三丁基甲基季鏻鹽的分散膠體，依次加入氮源、碳酸鈉、硫代硫...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型提供了一種可調(diào)控氣流的鍍膜裝置，所述鍍膜裝置包括若干個(gè)泵組件、鍍膜室和連接所述泵組件與鍍膜室的連接件；所述連接件上設(shè)置有氣流比例閥，所述氣流比例閥用于控制氣路的流量；所述氣流比例閥包括閥體、閥芯和磁流體；所述閥體的上方設(shè)置有磁流體...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種碳化硅基板定位裝置，包括底座，所述底座的一側(cè)設(shè)置有定位結(jié)構(gòu),底座的上端面安裝有至少一個(gè)支撐座，支撐座上安裝有定位座，定位座向底座上設(shè)置有定位結(jié)構(gòu)的一側(cè)伸出，定位座上設(shè)置有定位缺口。使用時(shí)，通過(guò)底座上的定位結(jié)構(gòu)對(duì)碳化硅基板...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例中公開(kāi)了多弧及磁控復(fù)合濺射陰極，包括安裝架、升降裝置、陰極磁板和靶面板；所述升降裝置包括安裝板、聯(lián)軸器、升降軸和升降頭；所述安裝板設(shè)置在所述安裝架的底部；所述聯(lián)軸器設(shè)置在所述安裝板的底部；所述升降軸與所述聯(lián)軸器傳...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請(qǐng)公開(kāi)軋輥，所述軋輥包括形成于所述軋輥表面的鋼鐵材料表面氧化膜，其中所述鋼鐵材料表面氧化膜通過(guò)以下方法制成：在需要形成Fe3O4氧化膜的鋼鐵材料的表面涂覆活化液，以在鋼鐵材料的表面形成一層活化...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種提升爐鼻子加濕氮?dú)饩鶆蛐匝b置及方法，包括設(shè)置于爐鼻子氮?dú)馊肟谔幍膶?dǎo)流罩，導(dǎo)流罩連接有多級(jí)進(jìn)氣管道。本發(fā)明通過(guò)在氮?dú)馊肟谏厦婕友b導(dǎo)流罩來(lái)改變濕氮的運(yùn)動(dòng)軌跡，同時(shí)通過(guò)在導(dǎo)流罩上加裝的多級(jí)濕氮進(jìn)氣管道可以改變濕氮?dú)饬鬟\(yùn)動(dòng)軌跡，讓鋅...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)一種ALD鍍膜系統(tǒng)及鍍膜方法，涉及ALD鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。鍍膜系統(tǒng)包括反應(yīng)腔體、至少一個(gè)檢測(cè)腔體、至少兩個(gè)第一進(jìn)料源、切換裝置、第二進(jìn)料源；將一個(gè)第一進(jìn)料源僅與反應(yīng)腔體導(dǎo)通，并與第二進(jìn)料源交替進(jìn)料，剩余的第一進(jìn)料源僅與檢測(cè)腔體導(dǎo)通，同...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提出一種Loadlock型超高真空蒸鍍機(jī)，包括：真空度一致且隔離設(shè)置的過(guò)渡腔室10與工作腔室20；所述過(guò)渡腔室10內(nèi)設(shè)置有水平伸縮機(jī)構(gòu)30，所述水平伸縮機(jī)構(gòu)30的輸出端開(kāi)拆卸連接承載晶圓的承載板60；所述工作腔室20的上部設(shè)置有升降裝...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及汽車飾件生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，且公開(kāi)了一種汽車飾件的真空鍍膜裝置，包括箱體，所述箱體的內(nèi)部安裝有驅(qū)動(dòng)組件，且驅(qū)動(dòng)組件的一側(cè)安裝有翻轉(zhuǎn)組件、間歇轉(zhuǎn)動(dòng)組件和擋板組件；所述驅(qū)動(dòng)組件包括第一不完全齒輪，且第一不完全齒輪的上端設(shè)置有相嚙合的第一齒輪...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明創(chuàng)造提供了一種基于多弧離子鍍的柱塞偶件加工處理方法，包括：對(duì)柱塞偶件進(jìn)行前置熱處理；對(duì)前置熱處理后的柱塞偶件進(jìn)行預(yù)處理；對(duì)預(yù)處理后的柱塞偶件進(jìn)行第一階段多弧離子鍍處理，以使得柱塞偶件的表面沉積Mo底層；對(duì)柱塞偶件進(jìn)行第二階段多弧離子鍍...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及CVD襯底托盤技術(shù)領(lǐng)域，且公開(kāi)了一種CVD襯底托盤結(jié)構(gòu)，加熱環(huán)圈嵌合安裝于安裝底座與導(dǎo)熱盤座之間，加熱臺(tái)座的下部與導(dǎo)熱盤座對(duì)位嵌合，頂部擋片嵌合安裝于安裝托盤的上部，在安裝托盤的上部設(shè)置有加熱臺(tái)座，加熱臺(tái)座與導(dǎo)熱盤座均采用良性...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請(qǐng)涉及金剛石刀具技術(shù)領(lǐng)域，具體公開(kāi)了一種用于加工疊層材料的金剛石涂層刀具及其制備方法。本申請(qǐng)?zhí)峁┑挠糜诩庸くB層材料的金剛石涂層刀具包括刀具基體和金剛石涂層；金剛石涂層的表面粗糙度為0.1?0.3μm；金剛石涂層包括形核層、底層、過(guò)渡層和...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種電力鐵附件熱浸鍍鋅裝置，包括鍍鋅槽和固定機(jī)架，所述固定機(jī)架上轉(zhuǎn)動(dòng)連接有螺紋絲桿，所述固定機(jī)架一側(cè)安裝有驅(qū)動(dòng)電機(jī)，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出端與螺紋絲桿一端固定連接，所述螺紋絲桿上螺紋連接有第一滑塊和第二滑塊，所述第一滑塊底部安裝...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了片間腔體顆粒改善方法及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。所述片間腔體顆粒改善方法包括：晶圓完成一次薄膜沉積并被移出反應(yīng)腔室之后到下一次所述晶圓進(jìn)入所述反應(yīng)腔室進(jìn)行下一次薄膜沉積之前進(jìn)行一次片間處理，所述片間處理用于改善腔體顆粒；重復(fù)上述步驟，...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及一種電弧離子鍍引弧針調(diào)節(jié)裝置，屬于電弧離子鍍引弧針技術(shù)領(lǐng)域，包括安裝箱和固定連接于安裝箱一側(cè)的驅(qū)動(dòng)外殼，所述安裝箱底部遠(yuǎn)離驅(qū)動(dòng)外殼的一側(cè)設(shè)置有靶材本體，所述安裝箱的正面設(shè)置有引弧針本體，所述驅(qū)動(dòng)外殼的內(nèi)部設(shè)置有能夠帶動(dòng)引弧針本...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種等離子體增強(qiáng)原子層沉積設(shè)備，包括等離子發(fā)生裝置以及粉體處理裝置，等離子發(fā)生裝置設(shè)有等離子發(fā)生腔，粉體處理裝置與所述等離子發(fā)生裝置連接，所述粉體處理裝置內(nèi)形成有反應(yīng)腔以及分別與所述反應(yīng)腔連通的進(jìn)氣孔、等離子進(jìn)入孔、排氣孔，所述等...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種金屬萬(wàn)向軸用等離子噴涂防護(hù)裝置及方法，包括：傳送盒，傳送盒的內(nèi)部設(shè)置有傳送機(jī)構(gòu)，傳送盒的兩側(cè)均開(kāi)設(shè)有調(diào)節(jié)孔，傳送盒的右側(cè)開(kāi)設(shè)有出料孔，出料孔的底部?jī)?nèi)壁上固定設(shè)置有導(dǎo)料盒，導(dǎo)料盒為傾斜設(shè)置且與傳送機(jī)構(gòu)相配合；兩個(gè)萬(wàn)向軸固定調(diào)節(jié)...
								
        
							
        
							
						
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