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								      本申請提供了一種清理不銹鋼零件表面吹砂介質殘留或污染的方法，所述方法在原有鈍化生產線上，直接利用鈍化的清理作用進行不銹鋼零件表面吹砂后白剛玉介質殘留或污染物清理；所述方法具體包括：步驟一，進行溶劑除油；步驟二，進行堿清洗除油；步驟三，進行鈍...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種MPCVD設備用密封罩的觀察窗結構，包括密封罩本體，所述密封罩本體的側壁嵌設有至少一個觀察窗基座；所述觀察窗基座的頂端位于所述密封罩本體的外部，所述觀察窗基座的頂端可拆卸安裝有玻璃，所述觀察窗基座的底端位于所述密封罩本體...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請涉及鋼筋生產制造的技術領域，尤其是涉及一種鋼筋自動化噴涂裝置，包括機架、進料組件、電弧噴涂組件、涂層噴涂組件以及烘干組件。機架上固定連接有限位板，進料組件包括進料輸送輥和驅動件，進料輸送輥轉動連接在機架上，驅動件用于驅動進料輸送輥轉動...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種光伏焊帶用風刀，涉及風刀技術領域，包括上殼體和下殼體，所述上殼體和下殼體同圓心處設置穿過焊帶的模具孔，所述上殼體和下殼體連接后形成氣體流通的腔體，所述上殼體和下殼體的模具孔處形成吹風口，腔體包括水平段、豎直段、斜向段，所述下...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及一種動態自適應蒸鍍系統及蒸鍍方法，蒸鍍系統包括真空腔體、蒸發源與基片載板，真空腔體包括由下至上依次連通的蒸發區、過渡區與沉積區，蒸發區與過渡區之間設有第一隔板，第一隔板的中心通氣并設有第一隔斷裝置，過渡區與沉積區之間設有第二隔板，...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明屬于金屬材料熱處理技術領域，具體涉及一種42CrMo齒圈的變溫氮化工藝，包括，對齒圈進行預氧化，溫度為300?400℃，時間為1?2h；對齒圈進行氮化處理處理：將齒圈升溫至550?580℃；強滲階段，溫度為550?580℃，Kn值為3...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種化學鍍鎳處理裝置，包括槽口朝上的鍍槽，鍍槽內設有鍍鎳滾筒，鍍鎳滾筒包括呈前后對稱布置的滾筒架，滾筒架之間固定連接有連桿，所述滾筒架之間轉動連接有滾筒本體，滾筒本體上設有大齒輪，大齒輪的上方嚙合有轉動連接在所述滾筒架上的小...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種鉆石反應腔的冷卻結構，包括反應底座、生長臺和環形玻璃；所述反應底座的頂部設有反應槽，所述反應槽的內底壁和所述生長臺的底端之間分別設有環形槽，所述環形玻璃的上下兩端分別嵌設于對應的所述環形槽內，所述環形玻璃與所述環形槽之間...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及雙階段噴丸?MoS2復合強化柔輪及剛輪表面性能的方法，屬于金屬表面加工技術領域，包括以下步驟：S1、采用金屬硬質微粒對中碳合金鋼材質的柔輪和剛輪表面分別進行微粒噴丸處理；S2、分別對由步驟S1處理后的柔輪和剛...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種加熱設備，包括：燈泡、水冷燈罩和燈座，所述水冷燈罩和燈座可拆卸連接；所述燈座包括座板，所述座板上設有接線銅排，所述接線銅排包括一個零線銅排和至少一個火線銅排，所述座板上還設有與所述燈泡的插頭相適配的插座，所述插座與零線銅...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及薄膜制備技術領域，尤其是一種基板上粘貼的膠帶的揭取方法，在基板上設置膠帶的起頭部，所述膠帶的粘貼范圍至少覆蓋所述起頭部的一部分；自所述起頭部對所述膠帶進行揭起并將其從所述基板上逐步剝離，同時對剝離的所述膠帶進行纏繞收集。本發明的優...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種鉆石生長臺的冷卻結構，包括生長臺，所述生長臺的頂端可拆卸安裝有鉬環，所述鉬環與所述生長臺相互貼合，所述生長臺的內部設有第一水冷腔和第二水冷腔，所述第一水冷腔和第二水冷腔通過若干通孔連通，所述第二水冷腔的內壁設有若干翅片板...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及一種提高鋁合金模具CrN涂層沉積效率的激光沖擊工藝，包括以下步驟：（1）、將原始模具鋼線切割成樣品；（2）、將樣品進行熱處理，拋光打磨后使用有機溶劑進行超聲波清洗，烘干；（3）、將樣品夾裝到激光沖擊強化試驗平臺上對表面進行激光沖擊...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及氣體噴淋設備技術領域，具體涉及一種適用于PECVD的氣體噴淋頭，為解決現有技術氣體流速不均勻、制備效率低的問題。該氣體噴淋頭包括圍管，管狀結構；氣體噴淋板，設置在所述圍管的下端，其上設有若干出氣孔，所述出氣孔的縱向剖面為中間細...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及一種線性加熱源坩堝及沉積裝置，包括：坩堝本體和噴射組件，坩堝本體的橫截面為扁平花生型；噴射組件包括噴板和兩個隔板，兩個隔板沿坩堝本體的軸向等距設置在坩堝本體內部，兩個隔板將坩堝本體分隔成三個材料填充區；噴板設置在坩堝本體的頂部...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及真空沉積技術領域，特別是一種真空室連續供料機構及物理氣相沉積裝置，包括傳輸室，其內部具有腔體空間，腔體空間還具有可與真空室連通的第一開口，以及可與外部連通的第二開口；以及，輸送組件，其用于攜帶物料沿設定的輸送路徑Pi
							
        
							
						
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								      本發明涉及化學氣相沉積技術領域，特別是涉及一種半導體高純碳化硅涂層用化學氣相沉積裝置及方法，包括一個沉積罐，沉積罐的頂部設有進氣管，沉積罐的內部設有固定筒，固定筒的外側設有固定栓，固定筒通過固定栓與進氣管的底部連接，固定筒的內部設有用于將氣...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及刀具柔性鈍化技術領域，公開了一種刀具柔性鈍化裝置，包括底板，所述底板上固定連接有支撐框架，所述支撐框架上固定安裝有電動推桿，所述電動推桿的輸出端固定連接有頂板，所述頂板的下部固定連接有滑桿，所述滑桿的下端固定連接有擋塊，所述滑...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種真空鍍膜用載臺，包括：載臺，所述載臺上方一端開設有移動槽，所述載臺側面固定設置有側翼板，所述側翼板上方固定設置有推動裝置，所述推動裝置側面固定設置有伸縮推桿，所述伸縮推桿側面固定設置有固定卡板控制器，所述固定卡板控制器側...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請涉及化學氣相沉積工藝技術領域，具體提供氣體輸送裝置以及化學氣相沉積設備。該氣體輸送裝置包括：運行管路、排氣管路、導氣管路、至少一個氣體輸送管路、第一流量控制器和第二流量控制器。通過導氣管路可以將部分運載氣體直接輸送至反應腔，以降低其余...
								
        
							
        
							
						
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