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                  		五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
                  	
                  
      
                
      
                
      
                    
        
					
						
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								      本發(fā)明涉及一種高平整度滲鋁涂層，其原料包括：10～15wt％的無(wú)機(jī)纖維素，1～3wt％的有機(jī)聯(lián)結(jié)劑，15～25wt％的分散劑，17～25wt％的鋁粉，0.5～0.8wt％的氯化銨，0.2～0.4wt％的氟化鈉，25～44wt％的氧化鋁粉。本...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了PECVD工藝腔室多晶圓沉積用的加熱基座，涉及PECVD設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域；包括：熱盤(pán)頂殼，其上面與晶圓直接接觸，底部開(kāi)有容置槽；電阻加熱結(jié)構(gòu)，所述電阻加熱結(jié)構(gòu)包括一根加熱管體盤(pán)繞而成的加熱盤(pán)和引線(xiàn)管，在加熱盤(pán)中內(nèi)置有電阻絲，在引...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型提供了一種濺射鍍膜生產(chǎn)用定位裝置，包括：樣品盤(pán)，所述樣品盤(pán)上表面的開(kāi)設(shè)置物槽，置物槽底部開(kāi)設(shè)移動(dòng)槽，移動(dòng)槽內(nèi)通過(guò)軸承活動(dòng)連接主絲桿，且置物槽底部固定連接底板，底部表面相對(duì)移動(dòng)槽的位置對(duì)應(yīng)開(kāi)設(shè)主滑槽，而移動(dòng)板通過(guò)螺接的主絲桿滑動(dòng)連接...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及鍍層厚度控制技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種提高帶鋼邊部鋅層均勻性的閉環(huán)控制方法、系統(tǒng)、設(shè)備及介質(zhì)。閉環(huán)控制方法包括：步驟1，在氣刀噴吹段，氣刀刀唇通體長(zhǎng)度等間距劃分18個(gè)控制點(diǎn)，氣刀后方設(shè)置測(cè)厚儀；步驟2，由測(cè)厚儀對(duì)帶鋼寬度方向各點(diǎn)的鋅層...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供一種能夠通過(guò)簡(jiǎn)易的機(jī)構(gòu)使大量電子零件的一部分為了成膜而統(tǒng)一露出的供給裝置、成膜裝置及保持構(gòu)件。實(shí)施方式的供給裝置向?qū)﹄娮恿慵M(jìn)行成膜的成膜裝置的成膜處理部供給電子零件，其包括：掩模，具有覆蓋電子零件的一部分的掩模孔，以使電子零件貫...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了鋁材鈍化技術(shù)領(lǐng)域的一種鋁蜂窩芯鈍化裝置及鈍化方法，包括液劑出入通道、上鈍化部、下鈍化部和純水進(jìn)入通道，所述液劑出入通道作為拋光劑或者鈍化劑的輸送通道；上鈍化部的內(nèi)壁活動(dòng)貫穿卡接有活動(dòng)板，所述活動(dòng)板將上鈍化部?jī)?nèi)部分隔為第一腔室和第...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及一種真空鍍膜用跨腔室送料裝置，包括A腔室、B腔室、載具、轉(zhuǎn)運(yùn)裝置和轉(zhuǎn)運(yùn)調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，A腔室和B腔室之間設(shè)置用于工件轉(zhuǎn)送的轉(zhuǎn)送通道，轉(zhuǎn)送通道處設(shè)置有對(duì)轉(zhuǎn)送通道的連通狀態(tài)進(jìn)行調(diào)整的啟閉組件，A腔室內(nèi)設(shè)置有用于支撐轉(zhuǎn)運(yùn)裝置的A導(dǎo)送組件，...
								
        
							
        
							
						
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								      本公開(kāi)提供了薄膜制備工藝，屬于薄膜材料技術(shù)領(lǐng)域。該薄膜制備工藝包括：提供第一結(jié)構(gòu)體，其包括目標(biāo)材料層、分別結(jié)合至目標(biāo)材料層的相對(duì)兩個(gè)表面的兩組金屬層，金屬層的熱膨脹系數(shù)大于目標(biāo)材料層的熱膨脹系數(shù)。對(duì)第一結(jié)構(gòu)體進(jìn)行升溫處理，使得目標(biāo)材料層的內(nèi)...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及高溫金屬防護(hù)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種增強(qiáng)錸條及其制備方法與應(yīng)用。本發(fā)明提供了一種增強(qiáng)錸條，所述增強(qiáng)錸條包括錸條及負(fù)載在所述錸條表面的氧化鋯摻雜三氧化二鈰涂層；以所述氧化鋯摻雜三氧化二鈰涂層重量計(jì)，所述三氧化二鈰的含量為1~5 wt%...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種真空鍍膜機(jī)用工件載架及真空鍍膜機(jī)，工件載架包括公轉(zhuǎn)軸和轉(zhuǎn)動(dòng)安裝在公轉(zhuǎn)軸上的公轉(zhuǎn)架，公轉(zhuǎn)架上安裝有多根用于連接安裝工件的自轉(zhuǎn)軸，自轉(zhuǎn)軸通過(guò)擺動(dòng)機(jī)構(gòu)以能擺動(dòng)的方式安裝在公轉(zhuǎn)架上，各自轉(zhuǎn)軸與公轉(zhuǎn)軸之間設(shè)有在公轉(zhuǎn)架轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)驅(qū)使自轉(zhuǎn)軸同...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及一種雙腔室濺射鍍膜設(shè)備，包括機(jī)架，機(jī)架上設(shè)置有裝載腔室、鍍膜腔室，裝載腔室和鍍膜腔室之間設(shè)置有轉(zhuǎn)運(yùn)裝置，鍍膜腔室上設(shè)置有A加熱裝置、載臺(tái)、清洗單元、鍍膜單元，鍍膜腔室還與A冷卻單元、A抽真空單元、A氣體單元相連接；裝載腔室內(nèi)設(shè)...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請(qǐng)公開(kāi)一種門(mén)窗玻璃鍍膜裝置，屬于門(mén)窗玻璃加工技術(shù)領(lǐng)域，其包括傳送箱，傳送箱的頂部固定安裝有磁控鍍膜箱，傳送箱的頂部位于磁控鍍膜箱的一側(cè)固定安裝有真空鍍膜箱，傳送箱內(nèi)部位于磁控鍍膜箱的下方固定安裝有電動(dòng)滑軌，電動(dòng)滑軌的滑動(dòng)端滑動(dòng)連接有電動(dòng)...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種非晶硅膜的制備方法，包括：將基體置于真空室內(nèi)，并在所述真空室內(nèi)的壓力為10?4Pa的條件下，對(duì)所述基體的表面進(jìn)行清洗處理；對(duì)清洗后的基體進(jìn)行加熱處理，并向所述真空室內(nèi)通入硅烷氣體和稀薄氣體；利用高頻硅源...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種DLC膜的柔化處理方法，將待處理的DLC膜樣品放入真空腔室內(nèi)，將所述真空腔室進(jìn)行抽真空，通過(guò)濺射系統(tǒng)將濺射氣體注入所述真空腔室中，其中，濺射氣體包括氬氣，再將氦氣注入所述真空腔室內(nèi)，使得氦氣分子透過(guò)DLC膜，影響其內(nèi)部結(jié)構(gòu)，...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供一種圓形焊帶的鍍錫裝置，包括模具支架固定板和定徑模具；模具支架固定板的下方設(shè)置錫液池，模具支架固定板上從上至下依次設(shè)置有模具支架和下壓線(xiàn)輪，模具支架包含水平擋板，水平擋板的中部設(shè)置有第一通孔；下壓線(xiàn)輪靠近模具支架一側(cè)的豎向切線(xiàn)從第...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及真空鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于真空鍍膜的快速夾持裝置。技術(shù)問(wèn)題：現(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備，通常采用基板放置工件材料在真空箱內(nèi)，由于鍍膜工件的種類(lèi)不同，使得基板與工件之間的不匹配，導(dǎo)致的鍍膜不均勻，影響鍍膜質(zhì)量的問(wèn)題。技術(shù)方案...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種真空磁控濺射薄膜鍍制設(shè)備，涉及薄膜鍍制技術(shù)領(lǐng)域。本實(shí)用新型包括箱體，所述箱體的正面轉(zhuǎn)動(dòng)連接有箱門(mén)，所述箱體的右側(cè)開(kāi)設(shè)有抽氣孔，所述箱體的右側(cè)固定連接有抽氣管，所述抽氣管與抽氣孔呈連通設(shè)置，所述箱體的頂部固定連接有電機(jī)。本...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及電飯煲內(nèi)膽技術(shù)領(lǐng)域，本實(shí)用新型公開(kāi)了一種電飯煲內(nèi)膽加工的氧化裝置，包括氧化槽、支腿和氧化液。本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置氧化槽、支腿、氧化框、攪拌機(jī)構(gòu)、加熱機(jī)構(gòu)、升降裝置、控制器和排料管，首先將電飯煲內(nèi)膽放置氧化框內(nèi)，通過(guò)控制器打開(kāi)加熱...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種復(fù)合金屬氧化物靶材及其制備方法和應(yīng)用。所述的復(fù)合金屬氧化物靶材，組分包括摻雜金屬氧化物、氧化錫和氧化鈦，該靶材在降低了成本的同時(shí)，保證了穩(wěn)定性，能廣泛適用于各種鍍膜技術(shù)，提升產(chǎn)業(yè)效率，并且提升鍍膜質(zhì)量。本發(fā)明還提供了復(fù)合金屬...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及航空發(fā)動(dòng)機(jī)噴涂工裝技術(shù)領(lǐng)域，提供一種燃燒室火焰筒大氣等離子涂層噴涂工裝，通過(guò)O型填充環(huán)封堵保護(hù)火焰筒的O型氣膜環(huán)槽，在燃燒室火焰筒大氣等離子涂層噴涂作業(yè)中，能夠使氣膜環(huán)槽間隙內(nèi)無(wú)涂層和其他多余物，避免氣膜環(huán)槽間隙尺寸超差；本發(fā)明的...
								
        
							
        
							
						
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