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								      本發明提供了一種噴淋板、一種半導體器件的加工設備以及一種半導體器件的加工方法。所述噴淋板包括：頂板，設于所述噴淋板的頂部，其中心區域設有第一進氣口，用于獲取反應氣體；噴淋頭，設于所述噴淋板的底部，配合所述頂板形成混氣腔，并經由設于所述噴淋頭...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明提供了一種基于真空鍍膜在線檢測電機控厚裝置包括位于外殼內部的驅動板和多個并排設置的控厚組件，所述控厚組件包括依次連接的直線電機、連桿、連接塊和補正板，所述驅動板通過直線電機控制補正板接近或者遠離離子膜發射柱，所述連桿穿過外殼的前面板，...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及一種兼容于集成電路后道工藝的石墨烯薄膜的制備方法，其包括如下步驟：S1，提供厚度為10nm?50nm的金屬薄膜襯底，該金屬薄膜襯底選自銅，鈷，釕或鎳薄膜襯底中的一種；S2，在活性碳原子濃度增強場中，350℃?400℃下，通入碳源氣...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明提供一種軟硬相間耐磨強化層的制備方法，涉及表面處理領域，包括：步驟一、基體預處理；步驟二、稀土鹽浴氮化處理：首先制備三氧化二鉍納米晶須、稀土β?二酮配合物與雙（三氟甲烷磺酰）亞胺三丁基甲基季鏻鹽的分散膠體，依次加入氮源、碳酸鈉、硫代硫...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型提供了一種可調控氣流的鍍膜裝置，所述鍍膜裝置包括若干個泵組件、鍍膜室和連接所述泵組件與鍍膜室的連接件；所述連接件上設置有氣流比例閥，所述氣流比例閥用于控制氣路的流量；所述氣流比例閥包括閥體、閥芯和磁流體；所述閥體的上方設置有磁流體...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種碳化硅基板定位裝置，包括底座，所述底座的一側設置有定位結構,底座的上端面安裝有至少一個支撐座，支撐座上安裝有定位座，定位座向底座上設置有定位結構的一側伸出，定位座上設置有定位缺口。使用時，通過底座上的定位結構對碳化硅基板...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了本發明優選實施例中公開了多弧及磁控復合濺射陰極，包括安裝架、升降裝置、陰極磁板和靶面板；所述升降裝置包括安裝板、聯軸器、升降軸和升降頭；所述安裝板設置在所述安裝架的底部；所述聯軸器設置在所述安裝板的底部；所述升降軸與所述聯軸器傳...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請公開軋輥，所述軋輥包括形成于所述軋輥表面的鋼鐵材料表面氧化膜，其中所述鋼鐵材料表面氧化膜通過以下方法制成：在需要形成Fe3O4氧化膜的鋼鐵材料的表面涂覆活化液，以在鋼鐵材料的表面形成一層活化...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種提升爐鼻子加濕氮氣均勻性裝置及方法，包括設置于爐鼻子氮氣入口處的導流罩，導流罩連接有多級進氣管道。本發明通過在氮氣入口上面加裝導流罩來改變濕氮的運動軌跡，同時通過在導流罩上加裝的多級濕氮進氣管道可以改變濕氮氣流運動軌跡，讓鋅...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開一種ALD鍍膜系統及鍍膜方法，涉及ALD鍍膜技術領域。鍍膜系統包括反應腔體、至少一個檢測腔體、至少兩個第一進料源、切換裝置、第二進料源；將一個第一進料源僅與反應腔體導通，并與第二進料源交替進料，剩余的第一進料源僅與檢測腔體導通，同...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明提出一種Loadlock型超高真空蒸鍍機，包括：真空度一致且隔離設置的過渡腔室10與工作腔室20；所述過渡腔室10內設置有水平伸縮機構30，所述水平伸縮機構30的輸出端開拆卸連接承載晶圓的承載板60；所述工作腔室20的上部設置有升降裝...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及汽車飾件生產技術領域，且公開了一種汽車飾件的真空鍍膜裝置，包括箱體，所述箱體的內部安裝有驅動組件，且驅動組件的一側安裝有翻轉組件、間歇轉動組件和擋板組件；所述驅動組件包括第一不完全齒輪，且第一不完全齒輪的上端設置有相嚙合的第一齒輪...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明創造提供了一種基于多弧離子鍍的柱塞偶件加工處理方法，包括：對柱塞偶件進行前置熱處理；對前置熱處理后的柱塞偶件進行預處理；對預處理后的柱塞偶件進行第一階段多弧離子鍍處理，以使得柱塞偶件的表面沉積Mo底層；對柱塞偶件進行第二階段多弧離子鍍...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及CVD襯底托盤技術領域，且公開了一種CVD襯底托盤結構，加熱環圈嵌合安裝于安裝底座與導熱盤座之間，加熱臺座的下部與導熱盤座對位嵌合，頂部擋片嵌合安裝于安裝托盤的上部，在安裝托盤的上部設置有加熱臺座，加熱臺座與導熱盤座均采用良性...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請涉及金剛石刀具技術領域，具體公開了一種用于加工疊層材料的金剛石涂層刀具及其制備方法。本申請提供的用于加工疊層材料的金剛石涂層刀具包括刀具基體和金剛石涂層；金剛石涂層的表面粗糙度為0.1?0.3μm；金剛石涂層包括形核層、底層、過渡層和...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種電力鐵附件熱浸鍍鋅裝置，包括鍍鋅槽和固定機架，所述固定機架上轉動連接有螺紋絲桿，所述固定機架一側安裝有驅動電機，所述驅動電機的輸出端與螺紋絲桿一端固定連接，所述螺紋絲桿上螺紋連接有第一滑塊和第二滑塊，所述第一滑塊底部安裝...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了片間腔體顆粒改善方法及計算機可讀存儲介質。所述片間腔體顆粒改善方法包括：晶圓完成一次薄膜沉積并被移出反應腔室之后到下一次所述晶圓進入所述反應腔室進行下一次薄膜沉積之前進行一次片間處理，所述片間處理用于改善腔體顆粒；重復上述步驟，...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及一種電弧離子鍍引弧針調節裝置，屬于電弧離子鍍引弧針技術領域，包括安裝箱和固定連接于安裝箱一側的驅動外殼，所述安裝箱底部遠離驅動外殼的一側設置有靶材本體，所述安裝箱的正面設置有引弧針本體，所述驅動外殼的內部設置有能夠帶動引弧針本...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及一種等離子體增強原子層沉積設備，包括等離子發生裝置以及粉體處理裝置，等離子發生裝置設有等離子發生腔，粉體處理裝置與所述等離子發生裝置連接，所述粉體處理裝置內形成有反應腔以及分別與所述反應腔連通的進氣孔、等離子進入孔、排氣孔，所述等...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種金屬萬向軸用等離子噴涂防護裝置及方法，包括：傳送盒，傳送盒的內部設置有傳送機構，傳送盒的兩側均開設有調節孔，傳送盒的右側開設有出料孔，出料孔的底部內壁上固定設置有導料盒，導料盒為傾斜設置且與傳送機構相配合；兩個萬向軸固定調節...
								
        
							
        
							
						
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