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								      本實用新型提供一種用于cvd氣相沉積反應爐取放樣桿，包括取放主桿以及取放副桿，取放主桿旁邊設置有取放副桿，取放主桿和取放副桿上端均設置有用于對外界碳纖維布進行支撐的樣品放置組件，取放主桿和取放副桿上端面后側設置有支撐組件，本實用通過在取放主...
								
        
							
        
							
						
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								      公開了一種沉積含金屬的材料的方法。所述方法可包括循環(huán)沉積技術的使用，如循環(huán)化學氣相沉積和原子層沉積。含金屬的材料可包括金屬間化合物。還公開了一種包括所述含金屬的材料的結構和一種用于形成所述材料的系統(tǒng)。
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開一種低成本熱基鋅鋁鎂S350GD+ZM帶鋼的制作方法。采用CSP工藝生產(chǎn)熱軋基板，按厚度分段控制：1.8?3.5mm免Nb，3.5?6.0mm加0.01?0.025%Nb；軋制溫度控制為終軋860?890℃、卷取550?580℃，...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種熱鍍鋅機組不停爐更換爐鼻子頭的操作方法，利用翻板閥密封，利用夾置器夾置固定切斷后的帶鋼頭部，利用起吊工具起吊原有的爐鼻子頭更換新的爐鼻子頭，固定的帶鋼頭部安裝鐵鏈，利用鐵鏈引導帶鋼從新的爐鼻子頭內(nèi)穿出，完成穿帶作業(yè)，本發(fā)明的有...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種航空基片材料復合涂層薄膜制備設備，主要包括底架、滑動基座和薄膜管組件。底架固定安裝主滑軌和帶驅(qū)動齒條的齒條桿，滑動基座裝配有主動齒輪與從動齒輪聯(lián)動系統(tǒng)。當滑動基座移動時，主動齒輪與驅(qū)動齒條嚙合帶動從動齒輪轉(zhuǎn)動，通過棘爪齒條驅(qū)...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供的一種板材邊部鍍層厚度控制裝置及方法，控制裝置包括支撐件、至少兩個加熱組件以及測溫組件，支撐件上成型有適于板材穿過的通槽；兩個加熱組件均與所述支撐件連接，且兩個所述加熱組件分設在所述板材兩側；測溫組件與所述支撐件連接，所述測溫組件...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供一種獨立式連續(xù)工藝系統(tǒng)，用于對待工藝物件進行電漿處理，該系統(tǒng)依序設置有預處理機臺、第一獨立工藝機臺及終端獨立工藝機臺。第一獨立工藝機臺具有工藝腔體及兩個閥門，兩個閥門分別設于工藝腔體的兩側，工藝腔體依序設置有相互連通的第一真空抽氣...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明屬于過渡族金屬有機物合成技術領域，具體公開了一種第VIB族金屬前驅(qū)體的合成方法，所述方法包括：使用金屬原料MO2X2和含[R1N=C]結構的化合物反應制備中間體(R
							
        
							
						
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								      一種金屬涂層等離子噴涂設備，具體涉及等離子噴涂技術領域，包括工作臺、放置盤、瓶體，所述放置盤旋轉(zhuǎn)安裝在工作臺的頂部，所述工作臺的頂部一側固定連接有支架，且支架的頂部固定安裝有電動推桿，方案包括采用壓桿與活塞的負壓吸附機構替代傳統(tǒng)撐結構，配合...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種噴淋裝置及薄膜沉積設備，包括：本體，所述本體上設有噴淋面，所述噴淋面上劃分有多個噴淋區(qū)域，每個所述噴淋區(qū)域上分布有多個噴嘴；控制模塊，包括第一控制單元，所述第一控制單元用于對每個所述噴淋區(qū)域上的所述噴淋面的局部相對高度進行獨...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種用于海洋大氣環(huán)境的微弧氧化復合涂層及其制備方法，屬于金屬材料表面處理技術領域。制備方法包括處理基材，所述基材為鎂合金；將處理后的基材置于電解液中進行微弧氧化處理；最后在微弧氧化處理后的基材上進行磁控濺射；基材上制得復合涂層，依...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種適用于脈沖激光沉積系統(tǒng)的激光入射窗口防污染方法，屬于脈沖激光沉積技術領域。該方法通過延長激光入射窗口與靶材的距離至800?1200 mm，采用匹配的長焦距聚焦透鏡保持激光聚焦能力，并通過金屬延長管密封連接真空腔體。延長管內(nèi)表...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及PECVD鍍膜技術領域，具體為一種改善舟片碎耳的隔塊，包括雙頭螺桿，所述雙頭螺桿兩側固定安裝有固定螺母，所述雙頭螺桿外側活動安裝有分隔筒，所述雙頭螺桿外側設置有片體機構，所述片體機構包括第一舟片和第二舟片，所述第一舟片前后兩端...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及芯片加工技術領域，公開了一種高精度智能芯片膜的物理氣相沉積裝置，通過清洗機構和烘干組件的設置，在清洗芯片時，能夠?qū)⒍鄠€芯片分別放置到若干載物框內(nèi)，并在提升桿的驅(qū)動下進入到清洗桶中，同時清洗多個芯片，從而提高了芯片的加工效率，且在清...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種控制脈沖直流物理氣相沉積(PVD)形成的材料層中應力變化的方法及設備。該方法包以下步驟：設置一腔室，其包括形成材料層的靶和在其上能夠形成材料層的襯底；以及向腔室內(nèi)引入氣體。該方法還包括在腔室內(nèi)生成等離子體并且將第一磁場施加到...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及涂層制備技術領域，具體涉及一種導熱性能良好的高溫磨損防護涂層、制備方法及其應用，Ti2AlC粉末經(jīng)過造粒燒結篩分制備獲得，涂層原料為Ti2AlC粉和金屬相NiCrAlY粉，Ti...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及真空處理技術領域，具體公開了一種裝載裝置及真空處理設備，該裝載裝置包括支撐架、裝載組件、連動組件和傳動機構；裝載組件設置有若干個，若干個裝載組件相互平行且沿第一方向傾斜間隔設置，任意相鄰兩個裝載組件之間通過連動組件連動連接；傳...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種MPCVD裝置及其應用，涉及微波等離子體的技術領域，包括同軸線、放大同軸線、第一漸變阻抗匹配器、第二漸變阻抗匹配器、等離子體反應室、基臺，以及懸放于內(nèi)部的同軸內(nèi)導體；放大同軸線使同軸線中的TEM模式轉(zhuǎn)換到放大同軸線中形成穩(wěn)定...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種超聲波原位輔助激光熔覆裝置及使用方法，包括激光頭和電子計算機，電子計算機控制有激光熔覆制造模塊和超聲波模塊。本發(fā)明通過同軸夾具剛性連接激光頭、超聲振動裝置及送絲噴口，實現(xiàn)送粉/填絲熔覆模式的無縫切換，解決了現(xiàn)有技術中鎢絲獨立...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及真空鍍膜管道技術領域，公開了一種用于低溫管道絕緣裝置，包括安裝組件，安裝組件上可拆卸連接有活動密封組件和固定密封組件，活動密封組件和固定密封組件均連通有絕緣管道；絕緣管道包括不銹鋼內(nèi)管、陶瓷層和橡膠層，陶瓷層設置在不銹鋼內(nèi)管的...
								
        
							
        
							
						
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