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五金工具產品及配附件制造技術

一種制備高承載減摩自潤滑功能層的復合滲碳方法

一種制備高承載減摩自潤滑功能層的復合滲碳方法，屬于合金處理技術領域。本發明的目的是為了解決類金剛石/類石墨薄膜與基體的組織、成分差異過大，使得二者的結合力差的問題，本發明通過低溫等離子體滲碳處理，在具有彌散碳化物的滲碳齒輪表面原位生成類金剛...

2025-09-02
一種石墨坩堝鍍膜工藝、鍍膜石墨坩堝及其應用

本發明公開了一種石墨坩堝鍍膜工藝、鍍膜石墨坩堝及其在石英玻璃生產中的應用。石墨坩堝鍍膜工藝包括：向潔凈干燥的石墨坩堝中加入鍍膜材料，在石墨坩堝加蓋或不加蓋的條件下，在非氧化性的真空環境下將石墨坩堝加熱至鍍膜溫度進行鍍膜，鍍膜結束后對石墨坩堝...

2025-09-02
一種動態自適應蒸鍍系統及蒸鍍方法

本發明涉及一種動態自適應蒸鍍系統及蒸鍍方法，蒸鍍系統包括真空腔體、蒸發源與基片載板，真空腔體包括由下至上依次連通的蒸發區、過渡區與沉積區，蒸發區與過渡區之間設有第一隔板，第一隔板的中心通氣并設有第一隔斷裝置，過渡區與沉積區之間設有第二隔板，...

2025-09-02
一種化學鍍鎳處理裝置

本實用新型公開了一種化學鍍鎳處理裝置，包括槽口朝上的鍍槽，鍍槽內設有鍍鎳滾筒，鍍鎳滾筒包括呈前后對稱布置的滾筒架，滾筒架之間固定連接有連桿，所述滾筒架之間轉動連接有滾筒本體，滾筒本體上設有大齒輪，大齒輪的上方嚙合有轉動連接在所述滾筒架上的小...

2025-09-02
一種42CrMo變溫氮化工藝

本發明屬于金屬材料熱處理技術領域，具體涉及一種42CrMo齒圈的變溫氮化工藝，包括，對齒圈進行預氧化，溫度為300?400℃，時間為1?2h；對齒圈進行氮化處理處理：將齒圈升溫至550?580℃；強滲階段，溫度為550?580℃，Kn值為3...

2025-09-02
一種基板上粘貼的膠帶的揭取方法

本發明涉及薄膜制備技術領域，尤其是一種基板上粘貼的膠帶的揭取方法，在基板上設置膠帶的起頭部，所述膠帶的粘貼范圍至少覆蓋所述起頭部的一部分；自所述起頭部對所述膠帶進行揭起并將其從所述基板上逐步剝離，同時對剝離的所述膠帶進行纏繞收集。本發明的優...

2025-09-02
一種加熱設備

本實用新型公開了一種加熱設備，包括：燈泡、水冷燈罩和燈座，所述水冷燈罩和燈座可拆卸連接；所述燈座包括座板，所述座板上設有接線銅排，所述接線銅排包括一個零線銅排和至少一個火線銅排，所述座板上還設有與所述燈泡的插頭相適配的插座，所述插座與零線銅...

2025-09-02
一種鉆石反應腔的冷卻結構

本實用新型公開了一種鉆石反應腔的冷卻結構，包括反應底座、生長臺和環形玻璃；所述反應底座的頂部設有反應槽，所述反應槽的內底壁和所述生長臺的底端之間分別設有環形槽，所述環形玻璃的上下兩端分別嵌設于對應的所述環形槽內，所述環形玻璃與所述環形槽之間...

2025-09-02
雙階段噴丸-MoS₂復合強化柔輪及剛輪表面性能的方法

本發明涉及雙階段噴丸?MoS₂復合強化柔輪及剛輪表面性能的方法，屬于金屬表面加工技術領域，包括以下步驟：S1、采用金屬硬質微粒對中碳合金鋼材質的柔輪和剛輪表面分別進行微粒噴丸處理；S2、分別對由步驟S1處理后的柔輪和剛...

2025-09-02
一種鉆石生長臺的冷卻結構

本實用新型公開了一種鉆石生長臺的冷卻結構，包括生長臺，所述生長臺的頂端可拆卸安裝有鉬環，所述鉬環與所述生長臺相互貼合，所述生長臺的內部設有第一水冷腔和第二水冷腔，所述第一水冷腔和第二水冷腔通過若干通孔連通，所述第二水冷腔的內壁設有若干翅片板...

2025-09-02
一種提高鋁合金模具CrN涂層沉積效率的激光沖擊工藝

本發明涉及一種提高鋁合金模具CrN涂層沉積效率的激光沖擊工藝，包括以下步驟：（1）、將原始模具鋼線切割成樣品；（2）、將樣品進行熱處理，拋光打磨后使用有機溶劑進行超聲波清洗，烘干；（3）、將樣品夾裝到激光沖擊強化試驗平臺上對表面進行激光沖擊...

2025-09-02
一種真空室連續供料機構及物理氣相沉積裝置

本發明涉及真空沉積技術領域，特別是一種真空室連續供料機構及物理氣相沉積裝置，包括傳輸室，其內部具有腔體空間，腔體空間還具有可與真空室連通的第一開口，以及可與外部連通的第二開口；以及，輸送組件，其用于攜帶物料沿設定的輸送路徑P_i

2025-09-02
一種適用于PECVD的氣體噴淋頭

本實用新型涉及氣體噴淋設備技術領域，具體涉及一種適用于PECVD的氣體噴淋頭，為解決現有技術氣體流速不均勻、制備效率低的問題。該氣體噴淋頭包括圍管，管狀結構；氣體噴淋板，設置在所述圍管的下端，其上設有若干出氣孔，所述出氣孔的縱向剖面為中間細...

2025-09-02
一種線性加熱源坩堝及沉積裝置

本實用新型涉及一種線性加熱源坩堝及沉積裝置，包括：坩堝本體和噴射組件，坩堝本體的橫截面為扁平花生型；噴射組件包括噴板和兩個隔板，兩個隔板沿坩堝本體的軸向等距設置在坩堝本體內部，兩個隔板將坩堝本體分隔成三個材料填充區；噴板設置在坩堝本體的頂部...

2025-09-02
一種刀具柔性鈍化裝置

本實用新型涉及刀具柔性鈍化技術領域，公開了一種刀具柔性鈍化裝置，包括底板，所述底板上固定連接有支撐框架，所述支撐框架上固定安裝有電動推桿，所述電動推桿的輸出端固定連接有頂板，所述頂板的下部固定連接有滑桿，所述滑桿的下端固定連接有擋塊，所述滑...

2025-09-02
一種半導體高純碳化硅涂層用化學氣相沉積裝置及方法

本發明涉及化學氣相沉積技術領域，特別是涉及一種半導體高純碳化硅涂層用化學氣相沉積裝置及方法，包括一個沉積罐，沉積罐的頂部設有進氣管，沉積罐的內部設有固定筒，固定筒的外側設有固定栓，固定筒通過固定栓與進氣管的底部連接，固定筒的內部設有用于將氣...

2025-09-02
一種真空鍍膜用載臺

本實用新型公開了一種真空鍍膜用載臺，包括：載臺，所述載臺上方一端開設有移動槽，所述載臺側面固定設置有側翼板，所述側翼板上方固定設置有推動裝置，所述推動裝置側面固定設置有伸縮推桿，所述伸縮推桿側面固定設置有固定卡板控制器，所述固定卡板控制器側...

2025-09-02
氣體輸送裝置以及化學氣相沉積設備

本申請涉及化學氣相沉積工藝技術領域，具體提供氣體輸送裝置以及化學氣相沉積設備。該氣體輸送裝置包括：運行管路、排氣管路、導氣管路、至少一個氣體輸送管路、第一流量控制器和第二流量控制器。通過導氣管路可以將部分運載氣體直接輸送至反應腔，以降低其余...

2025-09-02
一種磁控濺射爐內原位磁場熱處理夾具及磁場熱處理方法

本發明公開了一種磁控濺射爐內原位磁場熱處理夾具及磁場熱處理方法，包括控制機構、磁體發生裝置和立方樣品臺，控制機構上連接有磁體發生裝置，磁體發生裝置包括擋板，擋板的頂部設有兩組限位框，限位框的內部設有磁體，限位框的一側皆設有第一合頁，第一合頁...

2025-09-02
卷繞式處理設備

本發明提供了一種卷繞式處理設備，該設備包括放卷裝置、收卷裝置、處理裝置和導向裝置；放卷裝置設有待處理的基材，放卷裝置用于對基材進行放卷，基材經過導向裝置至收卷裝置，導向裝置用于調整基材的運動方向；處理裝置與第一段部的基材對應設置，導向裝置與...

2025-09-02

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