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                  		五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
                  	
                  
      
                
      
                
      
                    
        
					
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種石墨坩堝鍍膜工藝、鍍膜石墨坩堝及其在石英玻璃生產(chǎn)中的應(yīng)用。石墨坩堝鍍膜工藝包括：向潔凈干燥的石墨坩堝中加入鍍膜材料，在石墨坩堝加蓋或不加蓋的條件下，在非氧化性的真空環(huán)境下將石墨坩堝加熱至鍍膜溫度進(jìn)行鍍膜，鍍膜結(jié)束后對(duì)石墨坩堝...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種動(dòng)態(tài)自適應(yīng)蒸鍍系統(tǒng)及蒸鍍方法，蒸鍍系統(tǒng)包括真空腔體、蒸發(fā)源與基片載板，真空腔體包括由下至上依次連通的蒸發(fā)區(qū)、過(guò)渡區(qū)與沉積區(qū)，蒸發(fā)區(qū)與過(guò)渡區(qū)之間設(shè)有第一隔板，第一隔板的中心通氣并設(shè)有第一隔斷裝置，過(guò)渡區(qū)與沉積區(qū)之間設(shè)有第二隔板，...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種化學(xué)鍍鎳處理裝置，包括槽口朝上的鍍槽，鍍槽內(nèi)設(shè)有鍍鎳滾筒，鍍鎳滾筒包括呈前后對(duì)稱(chēng)布置的滾筒架，滾筒架之間固定連接有連桿，所述滾筒架之間轉(zhuǎn)動(dòng)連接有滾筒本體，滾筒本體上設(shè)有大齒輪，大齒輪的上方嚙合有轉(zhuǎn)動(dòng)連接在所述滾筒架上的小...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明屬于金屬材料熱處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種42CrMo齒圈的變溫氮化工藝，包括，對(duì)齒圈進(jìn)行預(yù)氧化，溫度為300?400℃，時(shí)間為1?2h；對(duì)齒圈進(jìn)行氮化處理處理：將齒圈升溫至550?580℃；強(qiáng)滲階段，溫度為550?580℃，Kn值為3...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及薄膜制備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種基板上粘貼的膠帶的揭取方法，在基板上設(shè)置膠帶的起頭部，所述膠帶的粘貼范圍至少覆蓋所述起頭部的一部分；自所述起頭部對(duì)所述膠帶進(jìn)行揭起并將其從所述基板上逐步剝離，同時(shí)對(duì)剝離的所述膠帶進(jìn)行纏繞收集。本發(fā)明的優(yōu)...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種加熱設(shè)備，包括：燈泡、水冷燈罩和燈座，所述水冷燈罩和燈座可拆卸連接；所述燈座包括座板，所述座板上設(shè)有接線(xiàn)銅排，所述接線(xiàn)銅排包括一個(gè)零線(xiàn)銅排和至少一個(gè)火線(xiàn)銅排，所述座板上還設(shè)有與所述燈泡的插頭相適配的插座，所述插座與零線(xiàn)銅...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種鉆石反應(yīng)腔的冷卻結(jié)構(gòu)，包括反應(yīng)底座、生長(zhǎng)臺(tái)和環(huán)形玻璃；所述反應(yīng)底座的頂部設(shè)有反應(yīng)槽，所述反應(yīng)槽的內(nèi)底壁和所述生長(zhǎng)臺(tái)的底端之間分別設(shè)有環(huán)形槽，所述環(huán)形玻璃的上下兩端分別嵌設(shè)于對(duì)應(yīng)的所述環(huán)形槽內(nèi)，所述環(huán)形玻璃與所述環(huán)形槽之間...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及雙階段噴丸?MoS2復(fù)合強(qiáng)化柔輪及剛輪表面性能的方法，屬于金屬表面加工技術(shù)領(lǐng)域，包括以下步驟：S1、采用金屬硬質(zhì)微粒對(duì)中碳合金鋼材質(zhì)的柔輪和剛輪表面分別進(jìn)行微粒噴丸處理；S2、分別對(duì)由步驟S1處理后的柔輪和剛...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種鉆石生長(zhǎng)臺(tái)的冷卻結(jié)構(gòu)，包括生長(zhǎng)臺(tái)，所述生長(zhǎng)臺(tái)的頂端可拆卸安裝有鉬環(huán)，所述鉬環(huán)與所述生長(zhǎng)臺(tái)相互貼合，所述生長(zhǎng)臺(tái)的內(nèi)部設(shè)有第一水冷腔和第二水冷腔，所述第一水冷腔和第二水冷腔通過(guò)若干通孔連通，所述第二水冷腔的內(nèi)壁設(shè)有若干翅片板...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種提高鋁合金模具CrN涂層沉積效率的激光沖擊工藝，包括以下步驟：（1）、將原始模具鋼線(xiàn)切割成樣品；（2）、將樣品進(jìn)行熱處理，拋光打磨后使用有機(jī)溶劑進(jìn)行超聲波清洗，烘干；（3）、將樣品夾裝到激光沖擊強(qiáng)化試驗(yàn)平臺(tái)上對(duì)表面進(jìn)行激光沖擊...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及真空沉積技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種真空室連續(xù)供料機(jī)構(gòu)及物理氣相沉積裝置，包括傳輸室，其內(nèi)部具有腔體空間，腔體空間還具有可與真空室連通的第一開(kāi)口，以及可與外部連通的第二開(kāi)口；以及，輸送組件，其用于攜帶物料沿設(shè)定的輸送路徑Pi
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及氣體噴淋設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種適用于PECVD的氣體噴淋頭，為解決現(xiàn)有技術(shù)氣體流速不均勻、制備效率低的問(wèn)題。該氣體噴淋頭包括圍管，管狀結(jié)構(gòu)；氣體噴淋板，設(shè)置在所述圍管的下端，其上設(shè)有若干出氣孔，所述出氣孔的縱向剖面為中間細(xì)...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及一種線(xiàn)性加熱源坩堝及沉積裝置，包括：坩堝本體和噴射組件，坩堝本體的橫截面為扁平花生型；噴射組件包括噴板和兩個(gè)隔板，兩個(gè)隔板沿坩堝本體的軸向等距設(shè)置在坩堝本體內(nèi)部，兩個(gè)隔板將坩堝本體分隔成三個(gè)材料填充區(qū)；噴板設(shè)置在坩堝本體的頂部...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及刀具柔性鈍化技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種刀具柔性鈍化裝置，包括底板，所述底板上固定連接有支撐框架，所述支撐框架上固定安裝有電動(dòng)推桿，所述電動(dòng)推桿的輸出端固定連接有頂板，所述頂板的下部固定連接有滑桿，所述滑桿的下端固定連接有擋塊，所述滑...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及化學(xué)氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種半導(dǎo)體高純碳化硅涂層用化學(xué)氣相沉積裝置及方法，包括一個(gè)沉積罐，沉積罐的頂部設(shè)有進(jìn)氣管，沉積罐的內(nèi)部設(shè)有固定筒，固定筒的外側(cè)設(shè)有固定栓，固定筒通過(guò)固定栓與進(jìn)氣管的底部連接，固定筒的內(nèi)部設(shè)有用于將氣...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種真空鍍膜用載臺(tái)，包括：載臺(tái)，所述載臺(tái)上方一端開(kāi)設(shè)有移動(dòng)槽，所述載臺(tái)側(cè)面固定設(shè)置有側(cè)翼板，所述側(cè)翼板上方固定設(shè)置有推動(dòng)裝置，所述推動(dòng)裝置側(cè)面固定設(shè)置有伸縮推桿，所述伸縮推桿側(cè)面固定設(shè)置有固定卡板控制器，所述固定卡板控制器側(cè)...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請(qǐng)涉及化學(xué)氣相沉積工藝技術(shù)領(lǐng)域，具體提供氣體輸送裝置以及化學(xué)氣相沉積設(shè)備。該氣體輸送裝置包括：運(yùn)行管路、排氣管路、導(dǎo)氣管路、至少一個(gè)氣體輸送管路、第一流量控制器和第二流量控制器。通過(guò)導(dǎo)氣管路可以將部分運(yùn)載氣體直接輸送至反應(yīng)腔，以降低其余...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種磁控濺射爐內(nèi)原位磁場(chǎng)熱處理夾具及磁場(chǎng)熱處理方法，包括控制機(jī)構(gòu)、磁體發(fā)生裝置和立方樣品臺(tái)，控制機(jī)構(gòu)上連接有磁體發(fā)生裝置，磁體發(fā)生裝置包括擋板，擋板的頂部設(shè)有兩組限位框，限位框的內(nèi)部設(shè)有磁體，限位框的一側(cè)皆設(shè)有第一合頁(yè)，第一合頁(yè)...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種卷繞式處理設(shè)備，該設(shè)備包括放卷裝置、收卷裝置、處理裝置和導(dǎo)向裝置；放卷裝置設(shè)有待處理的基材，放卷裝置用于對(duì)基材進(jìn)行放卷，基材經(jīng)過(guò)導(dǎo)向裝置至收卷裝置，導(dǎo)向裝置用于調(diào)整基材的運(yùn)動(dòng)方向；處理裝置與第一段部的基材對(duì)應(yīng)設(shè)置，導(dǎo)向裝置與...
								
        
							
        
							
						
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								      一種粉體磁控濺射共振樣品臺(tái)，包括可放置于磁控濺射設(shè)備內(nèi)的支撐座，所述支撐座上設(shè)有音頻振蕩器，音頻振蕩器上設(shè)有樣品盤(pán)，且樣品盤(pán)位于磁控濺射設(shè)備內(nèi)的濺射頭的正下方，樣品盤(pán)與磁控濺射設(shè)備內(nèi)的濺射頭的距離可調(diào)；通過(guò)音頻振蕩器振動(dòng)，利用低頻高強(qiáng)度聲波...
								
        
							
        
							
						
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