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五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)

一種鋁蜂窩芯鈍化裝置及鈍化方法

本發(fā)明公開了鋁材鈍化技術(shù)領(lǐng)域的一種鋁蜂窩芯鈍化裝置及鈍化方法，包括液劑出入通道、上鈍化部、下鈍化部和純水進(jìn)入通道，所述液劑出入通道作為拋光劑或者鈍化劑的輸送通道；上鈍化部的內(nèi)壁活動(dòng)貫穿卡接有活動(dòng)板，所述活動(dòng)板將上鈍化部?jī)?nèi)部分隔為第一腔室和第...

2025-09-04
供給裝置、成膜裝置及保持構(gòu)件

本發(fā)明提供一種能夠通過簡(jiǎn)易的機(jī)構(gòu)使大量電子零件的一部分為了成膜而統(tǒng)一露出的供給裝置、成膜裝置及保持構(gòu)件。實(shí)施方式的供給裝置向?qū)﹄娮恿慵M(jìn)行成膜的成膜裝置的成膜處理部供給電子零件，其包括：掩模，具有覆蓋電子零件的一部分的掩模孔，以使電子零件貫...

2025-09-04
一種增強(qiáng)錸條及其制備方法與應(yīng)用

本發(fā)明涉及高溫金屬防護(hù)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種增強(qiáng)錸條及其制備方法與應(yīng)用。本發(fā)明提供了一種增強(qiáng)錸條，所述增強(qiáng)錸條包括錸條及負(fù)載在所述錸條表面的氧化鋯摻雜三氧化二鈰涂層；以所述氧化鋯摻雜三氧化二鈰涂層重量計(jì)，所述三氧化二鈰的含量為1~5 wt%...

2025-09-04
一種真空鍍膜機(jī)用工件載架及真空鍍膜機(jī)

本發(fā)明公開了一種真空鍍膜機(jī)用工件載架及真空鍍膜機(jī)，工件載架包括公轉(zhuǎn)軸和轉(zhuǎn)動(dòng)安裝在公轉(zhuǎn)軸上的公轉(zhuǎn)架，公轉(zhuǎn)架上安裝有多根用于連接安裝工件的自轉(zhuǎn)軸，自轉(zhuǎn)軸通過擺動(dòng)機(jī)構(gòu)以能擺動(dòng)的方式安裝在公轉(zhuǎn)架上，各自轉(zhuǎn)軸與公轉(zhuǎn)軸之間設(shè)有在公轉(zhuǎn)架轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)驅(qū)使自轉(zhuǎn)軸同...

2025-09-04
一種雙腔室濺射鍍膜設(shè)備

本實(shí)用新型涉及一種雙腔室濺射鍍膜設(shè)備，包括機(jī)架，機(jī)架上設(shè)置有裝載腔室、鍍膜腔室，裝載腔室和鍍膜腔室之間設(shè)置有轉(zhuǎn)運(yùn)裝置，鍍膜腔室上設(shè)置有A加熱裝置、載臺(tái)、清洗單元、鍍膜單元，鍍膜腔室還與A冷卻單元、A抽真空單元、A氣體單元相連接；裝載腔室內(nèi)設(shè)...

2025-09-04
一種門窗玻璃鍍膜裝置

本申請(qǐng)公開一種門窗玻璃鍍膜裝置，屬于門窗玻璃加工技術(shù)領(lǐng)域，其包括傳送箱，傳送箱的頂部固定安裝有磁控鍍膜箱，傳送箱的頂部位于磁控鍍膜箱的一側(cè)固定安裝有真空鍍膜箱，傳送箱內(nèi)部位于磁控鍍膜箱的下方固定安裝有電動(dòng)滑軌，電動(dòng)滑軌的滑動(dòng)端滑動(dòng)連接有電動(dòng)...

2025-09-04
一種非晶硅膜的制備方法

本發(fā)明公開了一種非晶硅膜的制備方法，包括：將基體置于真空室內(nèi)，并在所述真空室內(nèi)的壓力為10^?4Pa的條件下，對(duì)所述基體的表面進(jìn)行清洗處理；對(duì)清洗后的基體進(jìn)行加熱處理，并向所述真空室內(nèi)通入硅烷氣體和稀薄氣體；利用高頻硅源...

2025-09-04
DLC膜的柔化處理方法

本發(fā)明公開了一種DLC膜的柔化處理方法，將待處理的DLC膜樣品放入真空腔室內(nèi)，將所述真空腔室進(jìn)行抽真空，通過濺射系統(tǒng)將濺射氣體注入所述真空腔室中，其中，濺射氣體包括氬氣，再將氦氣注入所述真空腔室內(nèi)，使得氦氣分子透過DLC膜，影響其內(nèi)部結(jié)構(gòu)，...

2025-09-04
一種用于真空鍍膜的快速夾持裝置

本實(shí)用新型涉及真空鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于真空鍍膜的快速夾持裝置。技術(shù)問題：現(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備，通常采用基板放置工件材料在真空箱內(nèi)，由于鍍膜工件的種類不同，使得基板與工件之間的不匹配，導(dǎo)致的鍍膜不均勻，影響鍍膜質(zhì)量的問題。技術(shù)方案...

2025-09-04
一種圓形焊帶的鍍錫裝置及鍍錫方法

本發(fā)明提供一種圓形焊帶的鍍錫裝置，包括模具支架固定板和定徑模具；模具支架固定板的下方設(shè)置錫液池，模具支架固定板上從上至下依次設(shè)置有模具支架和下壓線輪，模具支架包含水平擋板，水平擋板的中部設(shè)置有第一通孔；下壓線輪靠近模具支架一側(cè)的豎向切線從第...

2025-09-04
一種真空磁控濺射薄膜鍍制設(shè)備

本實(shí)用新型公開了一種真空磁控濺射薄膜鍍制設(shè)備，涉及薄膜鍍制技術(shù)領(lǐng)域。本實(shí)用新型包括箱體，所述箱體的正面轉(zhuǎn)動(dòng)連接有箱門，所述箱體的右側(cè)開設(shè)有抽氣孔，所述箱體的右側(cè)固定連接有抽氣管，所述抽氣管與抽氣孔呈連通設(shè)置，所述箱體的頂部固定連接有電機(jī)。本...

2025-09-04
一種電飯煲內(nèi)膽加工的氧化裝置

本實(shí)用新型涉及電飯煲內(nèi)膽技術(shù)領(lǐng)域，本實(shí)用新型公開了一種電飯煲內(nèi)膽加工的氧化裝置，包括氧化槽、支腿和氧化液。本實(shí)用新型通過設(shè)置氧化槽、支腿、氧化框、攪拌機(jī)構(gòu)、加熱機(jī)構(gòu)、升降裝置、控制器和排料管，首先將電飯煲內(nèi)膽放置氧化框內(nèi)，通過控制器打開加熱...

2025-09-04
一種復(fù)合金屬氧化物靶材及其制備方法和應(yīng)用

本發(fā)明提供了一種復(fù)合金屬氧化物靶材及其制備方法和應(yīng)用。所述的復(fù)合金屬氧化物靶材，組分包括摻雜金屬氧化物、氧化錫和氧化鈦，該靶材在降低了成本的同時(shí)，保證了穩(wěn)定性，能廣泛適用于各種鍍膜技術(shù)，提升產(chǎn)業(yè)效率，并且提升鍍膜質(zhì)量。本發(fā)明還提供了復(fù)合金屬...

2025-09-04
一種燃燒室火焰筒大氣等離子涂層噴涂工裝及噴涂方法

本發(fā)明涉及航空發(fā)動(dòng)機(jī)噴涂工裝技術(shù)領(lǐng)域，提供一種燃燒室火焰筒大氣等離子涂層噴涂工裝，通過O型填充環(huán)封堵保護(hù)火焰筒的O型氣膜環(huán)槽，在燃燒室火焰筒大氣等離子涂層噴涂作業(yè)中，能夠使氣膜環(huán)槽間隙內(nèi)無涂層和其他多余物，避免氣膜環(huán)槽間隙尺寸超差；本發(fā)明的...

2025-09-04
一種熱浸鍍鋅表面處理用掛鉤裝置及其使用方法

本發(fā)明涉及掛具技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種熱浸鍍鋅表面處理用吊鉤裝置，包括連接架，連接架上轉(zhuǎn)動(dòng)連接有連接柱，連接柱的外壁上固定套設(shè)有連接盤，連接盤的下端面上設(shè)有用于懸掛金屬工件的吊鉤，連接架上設(shè)有用于驅(qū)動(dòng)吊鉤進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)來提高金屬工件鍍鋅均勻度的驅(qū)動(dòng)組...

2025-09-04
一種磁控鍍膜控制方法、裝置、系統(tǒng)及存儲(chǔ)介質(zhì)

本發(fā)明公開了一種磁控鍍膜控制方法、裝置、系統(tǒng)及存儲(chǔ)介質(zhì)，屬于磁控濺射鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明通過獲取濺射鍍膜設(shè)備的基片的膜層厚度數(shù)據(jù)，并根據(jù)膜層厚度數(shù)據(jù)確定第一均勻偏差矩陣，第一均勻偏差矩陣的每個(gè)元素對(duì)應(yīng)基片上的檢測(cè)位置的勻性相對(duì)偏差值；根據(jù)第...

2025-09-04
HFCVD金剛石涂層設(shè)備的鉭絲定位裝置

本實(shí)用新型公開了HFCVD金剛石涂層設(shè)備的鉭絲定位裝置，涉及化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，包括工作臺(tái)和箱體，所述工作臺(tái)上安裝有箱體，所述箱體內(nèi)壁兩側(cè)內(nèi)壁上安裝有支撐板，所述支撐板和箱體的上箱蓋之間安裝有滾珠絲杠和導(dǎo)桿，本實(shí)用新型通過支撐板、...

2025-09-04
一種熱鍍鋅板生產(chǎn)用設(shè)備氣刀刀唇吹氣寬度調(diào)整裝置及方法

本發(fā)明涉及一種熱鍍鋅板生產(chǎn)用設(shè)備氣刀刀唇吹氣寬度調(diào)整裝置及方法，屬于冶金專用裝備技術(shù)領(lǐng)域。技術(shù)方案是：驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)封閉彈性鋼帶（21）沿縫隙（29）橫向往復(fù)移動(dòng)，同時(shí)帶動(dòng)三角狀封閉銅塊（19）和封閉銅塊尾接頭（20）分別沿氣刀刀唇內(nèi)腔（28...

2025-09-04
載舟及加工設(shè)備

本申請(qǐng)實(shí)施例涉及光伏技術(shù)領(lǐng)域，并提供一種載舟及加工設(shè)備。該載舟包括多個(gè)激勵(lì)電極板、多個(gè)接地電極板、兩個(gè)接地側(cè)板以及多個(gè)絕緣結(jié)構(gòu)。多個(gè)激勵(lì)電極板用于與激勵(lì)電源連接。沿第一方向上，每個(gè)接地電極板與一個(gè)激勵(lì)電極板交替且間隔排布。每相鄰的激勵(lì)電極板...

2025-09-04
模塊化的原子層沉積制程設(shè)備

一種模塊化的原子層沉積制程設(shè)備，包括一制程載架、一傳送載架、一制程腔體、一或多個(gè)原子層沉積模塊及一搬移載具。該制程載架包括多個(gè)沿著一高度方向排列設(shè)置的第一架體及多個(gè)分別由該第一架體限定出的第一放置空間。該傳送載架包括多個(gè)第二架體及多個(gè)分別由...

2025-09-04

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