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      五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
      • 本發(fā)明公開了一種真空鍍膜機(jī)用工件載架及真空鍍膜機(jī),工件載架包括公轉(zhuǎn)軸和轉(zhuǎn)動(dòng)安裝在公轉(zhuǎn)軸上的公轉(zhuǎn)架,公轉(zhuǎn)架上安裝有多根用于連接安裝工件的自轉(zhuǎn)軸,自轉(zhuǎn)軸通過擺動(dòng)機(jī)構(gòu)以能擺動(dòng)的方式安裝在公轉(zhuǎn)架上,各自轉(zhuǎn)軸與公轉(zhuǎn)軸之間設(shè)有在公轉(zhuǎn)架轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)驅(qū)使自轉(zhuǎn)軸同...
      • 本實(shí)用新型涉及一種雙腔室濺射鍍膜設(shè)備,包括機(jī)架,機(jī)架上設(shè)置有裝載腔室、鍍膜腔室,裝載腔室和鍍膜腔室之間設(shè)置有轉(zhuǎn)運(yùn)裝置,鍍膜腔室上設(shè)置有A加熱裝置、載臺、清洗單元、鍍膜單元,鍍膜腔室還與A冷卻單元、A抽真空單元、A氣體單元相連接;裝載腔室內(nèi)設(shè)...
      • 本申請公開一種門窗玻璃鍍膜裝置,屬于門窗玻璃加工技術(shù)領(lǐng)域,其包括傳送箱,傳送箱的頂部固定安裝有磁控鍍膜箱,傳送箱的頂部位于磁控鍍膜箱的一側(cè)固定安裝有真空鍍膜箱,傳送箱內(nèi)部位于磁控鍍膜箱的下方固定安裝有電動(dòng)滑軌,電動(dòng)滑軌的滑動(dòng)端滑動(dòng)連接有電動(dòng)...
      • 本發(fā)明公開了一種非晶硅膜的制備方法,包括:將基體置于真空室內(nèi),并在所述真空室內(nèi)的壓力為10?4Pa的條件下,對所述基體的表面進(jìn)行清洗處理;對清洗后的基體進(jìn)行加熱處理,并向所述真空室內(nèi)通入硅烷氣體和稀薄氣體;利用高頻硅源...
      • 本發(fā)明公開了一種DLC膜的柔化處理方法,將待處理的DLC膜樣品放入真空腔室內(nèi),將所述真空腔室進(jìn)行抽真空,通過濺射系統(tǒng)將濺射氣體注入所述真空腔室中,其中,濺射氣體包括氬氣,再將氦氣注入所述真空腔室內(nèi),使得氦氣分子透過DLC膜,影響其內(nèi)部結(jié)構(gòu),...
      • 本實(shí)用新型涉及真空鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種用于真空鍍膜的快速夾持裝置。技術(shù)問題:現(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備,通常采用基板放置工件材料在真空箱內(nèi),由于鍍膜工件的種類不同,使得基板與工件之間的不匹配,導(dǎo)致的鍍膜不均勻,影響鍍膜質(zhì)量的問題。技術(shù)方案...
      • 本發(fā)明提供一種圓形焊帶的鍍錫裝置,包括模具支架固定板和定徑模具;模具支架固定板的下方設(shè)置錫液池,模具支架固定板上從上至下依次設(shè)置有模具支架和下壓線輪,模具支架包含水平擋板,水平擋板的中部設(shè)置有第一通孔;下壓線輪靠近模具支架一側(cè)的豎向切線從第...
      • 本實(shí)用新型公開了一種真空磁控濺射薄膜鍍制設(shè)備,涉及薄膜鍍制技術(shù)領(lǐng)域。本實(shí)用新型包括箱體,所述箱體的正面轉(zhuǎn)動(dòng)連接有箱門,所述箱體的右側(cè)開設(shè)有抽氣孔,所述箱體的右側(cè)固定連接有抽氣管,所述抽氣管與抽氣孔呈連通設(shè)置,所述箱體的頂部固定連接有電機(jī)。本...
      • 本實(shí)用新型涉及電飯煲內(nèi)膽技術(shù)領(lǐng)域,本實(shí)用新型公開了一種電飯煲內(nèi)膽加工的氧化裝置,包括氧化槽、支腿和氧化液。本實(shí)用新型通過設(shè)置氧化槽、支腿、氧化框、攪拌機(jī)構(gòu)、加熱機(jī)構(gòu)、升降裝置、控制器和排料管,首先將電飯煲內(nèi)膽放置氧化框內(nèi),通過控制器打開加熱...
      • 本發(fā)明提供了一種復(fù)合金屬氧化物靶材及其制備方法和應(yīng)用。所述的復(fù)合金屬氧化物靶材,組分包括摻雜金屬氧化物、氧化錫和氧化鈦,該靶材在降低了成本的同時(shí),保證了穩(wěn)定性,能廣泛適用于各種鍍膜技術(shù),提升產(chǎn)業(yè)效率,并且提升鍍膜質(zhì)量。本發(fā)明還提供了復(fù)合金屬...
      • 本發(fā)明涉及航空發(fā)動(dòng)機(jī)噴涂工裝技術(shù)領(lǐng)域,提供一種燃燒室火焰筒大氣等離子涂層噴涂工裝,通過O型填充環(huán)封堵保護(hù)火焰筒的O型氣膜環(huán)槽,在燃燒室火焰筒大氣等離子涂層噴涂作業(yè)中,能夠使氣膜環(huán)槽間隙內(nèi)無涂層和其他多余物,避免氣膜環(huán)槽間隙尺寸超差;本發(fā)明的...
      • 本發(fā)明涉及鍍層厚度控制技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種提高帶鋼邊部鋅層均勻性的閉環(huán)控制方法、系統(tǒng)、設(shè)備及介質(zhì)。閉環(huán)控制方法包括:步驟1,在氣刀噴吹段,氣刀刀唇通體長度等間距劃分18個(gè)控制點(diǎn),氣刀后方設(shè)置測厚儀;步驟2,由測厚儀對帶鋼寬度方向各點(diǎn)的鋅層...
      • 本發(fā)明涉及掛具技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種熱浸鍍鋅表面處理用吊鉤裝置,包括連接架,連接架上轉(zhuǎn)動(dòng)連接有連接柱,連接柱的外壁上固定套設(shè)有連接盤,連接盤的下端面上設(shè)有用于懸掛金屬工件的吊鉤,連接架上設(shè)有用于驅(qū)動(dòng)吊鉤進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)來提高金屬工件鍍鋅均勻度的驅(qū)動(dòng)組...
      • 本發(fā)明公開了一種磁控鍍膜控制方法、裝置、系統(tǒng)及存儲介質(zhì),屬于磁控濺射鍍膜技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明通過獲取濺射鍍膜設(shè)備的基片的膜層厚度數(shù)據(jù),并根據(jù)膜層厚度數(shù)據(jù)確定第一均勻偏差矩陣,第一均勻偏差矩陣的每個(gè)元素對應(yīng)基片上的檢測位置的勻性相對偏差值;根據(jù)第...
      • 本發(fā)明涉及一種熱鍍鋅板生產(chǎn)用設(shè)備氣刀刀唇吹氣寬度調(diào)整裝置及方法,屬于冶金專用裝備技術(shù)領(lǐng)域。技術(shù)方案是:驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)封閉彈性鋼帶(21)沿縫隙(29)橫向往復(fù)移動(dòng),同時(shí)帶動(dòng)三角狀封閉銅塊(19)和封閉銅塊尾接頭(20)分別沿氣刀刀唇內(nèi)腔(28...
      • 本實(shí)用新型公開了HFCVD金剛石涂層設(shè)備的鉭絲定位裝置,涉及化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,包括工作臺和箱體,所述工作臺上安裝有箱體,所述箱體內(nèi)壁兩側(cè)內(nèi)壁上安裝有支撐板,所述支撐板和箱體的上箱蓋之間安裝有滾珠絲杠和導(dǎo)桿,本實(shí)用新型通過支撐板、...
      • 本申請實(shí)施例涉及光伏技術(shù)領(lǐng)域,并提供一種載舟及加工設(shè)備。該載舟包括多個(gè)激勵(lì)電極板、多個(gè)接地電極板、兩個(gè)接地側(cè)板以及多個(gè)絕緣結(jié)構(gòu)。多個(gè)激勵(lì)電極板用于與激勵(lì)電源連接。沿第一方向上,每個(gè)接地電極板與一個(gè)激勵(lì)電極板交替且間隔排布。每相鄰的激勵(lì)電極板...
      • 本發(fā)明公開了一種用于真空鍍膜機(jī)的工件載架及真空鍍膜機(jī),工件載架包括公轉(zhuǎn)軸和轉(zhuǎn)動(dòng)安裝在公轉(zhuǎn)軸上的公轉(zhuǎn)架,公轉(zhuǎn)架上安裝有多根用于連接安裝工件的自轉(zhuǎn)軸,自轉(zhuǎn)軸的軸線沿公轉(zhuǎn)架徑向方向延伸,各自轉(zhuǎn)軸與公轉(zhuǎn)軸之間設(shè)有在公轉(zhuǎn)架轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)驅(qū)使自轉(zhuǎn)軸同步轉(zhuǎn)動(dòng)的聯(lián)...
      • 一種模塊化的原子層沉積制程設(shè)備,包括一制程載架、一傳送載架、一制程腔體、一或多個(gè)原子層沉積模塊及一搬移載具。該制程載架包括多個(gè)沿著一高度方向排列設(shè)置的第一架體及多個(gè)分別由該第一架體限定出的第一放置空間。該傳送載架包括多個(gè)第二架體及多個(gè)分別由...
      • 本實(shí)用新型公開了一種蒸鍍設(shè)備,所述蒸鍍設(shè)備包括:坩堝;主蓋板,所述主蓋板蓋覆在所述坩堝的開口處,所述主蓋板包含有若干間距設(shè)置的子蓋板,所述子蓋板沿所述第一方向可移動(dòng)地設(shè)在所述主蓋板上;噴嘴,所述噴嘴設(shè)于所述子蓋板,并用于噴出蒸鍍材料,且所述...
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