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            拖動(dòng)滑塊完成拼圖
        
      
        
      
    
      
    
      
        
      
        
      
    
      

      














      
    
    
      
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                  		五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)
                  	
                  
      
                
      
                
      
                    
        
					
						
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								      本發(fā)明公開了一種航空基片材料復(fù)合涂層薄膜制備設(shè)備，主要包括底架、滑動(dòng)基座和薄膜管組件。底架固定安裝主滑軌和帶驅(qū)動(dòng)齒條的齒條桿，滑動(dòng)基座裝配有主動(dòng)齒輪與從動(dòng)齒輪聯(lián)動(dòng)系統(tǒng)。當(dāng)滑動(dòng)基座移動(dòng)時(shí)，主動(dòng)齒輪與驅(qū)動(dòng)齒條嚙合帶動(dòng)從動(dòng)齒輪轉(zhuǎn)動(dòng)，通過棘爪齒條驅(qū)...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供一種獨(dú)立式連續(xù)工藝系統(tǒng)，用于對(duì)待工藝物件進(jìn)行電漿處理，該系統(tǒng)依序設(shè)置有預(yù)處理機(jī)臺(tái)、第一獨(dú)立工藝機(jī)臺(tái)及終端獨(dú)立工藝機(jī)臺(tái)。第一獨(dú)立工藝機(jī)臺(tái)具有工藝腔體及兩個(gè)閥門，兩個(gè)閥門分別設(shè)于工藝腔體的兩側(cè)，工藝腔體依序設(shè)置有相互連通的第一真空抽氣...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明屬于過渡族金屬有機(jī)物合成技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種第VIB族金屬前驅(qū)體的合成方法，所述方法包括：使用金屬原料MO2X2和含[R1N=C]結(jié)構(gòu)的化合物反應(yīng)制備中間體(R
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種用于海洋大氣環(huán)境的微弧氧化復(fù)合涂層及其制備方法，屬于金屬材料表面處理技術(shù)領(lǐng)域。制備方法包括處理基材，所述基材為鎂合金；將處理后的基材置于電解液中進(jìn)行微弧氧化處理；最后在微弧氧化處理后的基材上進(jìn)行磁控濺射；基材上制得復(fù)合涂層，依...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種適用于脈沖激光沉積系統(tǒng)的激光入射窗口防污染方法，屬于脈沖激光沉積技術(shù)領(lǐng)域。該方法通過延長激光入射窗口與靶材的距離至800?1200 mm，采用匹配的長焦距聚焦透鏡保持激光聚焦能力，并通過金屬延長管密封連接真空腔體。延長管內(nèi)表...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及PECVD鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種改善舟片碎耳的隔塊，包括雙頭螺桿，所述雙頭螺桿兩側(cè)固定安裝有固定螺母，所述雙頭螺桿外側(cè)活動(dòng)安裝有分隔筒，所述雙頭螺桿外側(cè)設(shè)置有片體機(jī)構(gòu)，所述片體機(jī)構(gòu)包括第一舟片和第二舟片，所述第一舟片前后兩端...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種噴淋裝置及薄膜沉積設(shè)備，包括：本體，所述本體上設(shè)有噴淋面，所述噴淋面上劃分有多個(gè)噴淋區(qū)域，每個(gè)所述噴淋區(qū)域上分布有多個(gè)噴嘴；控制模塊，包括第一控制單元，所述第一控制單元用于對(duì)每個(gè)所述噴淋區(qū)域上的所述噴淋面的局部相對(duì)高度進(jìn)行獨(dú)...
								
        
							
        
							
						
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								      一種金屬涂層等離子噴涂設(shè)備，具體涉及等離子噴涂技術(shù)領(lǐng)域，包括工作臺(tái)、放置盤、瓶體，所述放置盤旋轉(zhuǎn)安裝在工作臺(tái)的頂部，所述工作臺(tái)的頂部一側(cè)固定連接有支架，且支架的頂部固定安裝有電動(dòng)推桿，方案包括采用壓桿與活塞的負(fù)壓吸附機(jī)構(gòu)替代傳統(tǒng)撐結(jié)構(gòu)，配合...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及芯片加工技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種高精度智能芯片膜的物理氣相沉積裝置，通過清洗機(jī)構(gòu)和烘干組件的設(shè)置，在清洗芯片時(shí)，能夠?qū)⒍鄠€(gè)芯片分別放置到若干載物框內(nèi)，并在提升桿的驅(qū)動(dòng)下進(jìn)入到清洗桶中，同時(shí)清洗多個(gè)芯片，從而提高了芯片的加工效率，且在清...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種控制脈沖直流物理氣相沉積(PVD)形成的材料層中應(yīng)力變化的方法及設(shè)備。該方法包以下步驟：設(shè)置一腔室，其包括形成材料層的靶和在其上能夠形成材料層的襯底；以及向腔室內(nèi)引入氣體。該方法還包括在腔室內(nèi)生成等離子體并且將第一磁場施加到...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供了一種MPCVD裝置及其應(yīng)用，涉及微波等離子體的技術(shù)領(lǐng)域，包括同軸線、放大同軸線、第一漸變阻抗匹配器、第二漸變阻抗匹配器、等離子體反應(yīng)室、基臺(tái)，以及懸放于內(nèi)部的同軸內(nèi)導(dǎo)體；放大同軸線使同軸線中的TEM模式轉(zhuǎn)換到放大同軸線中形成穩(wěn)定...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及真空處理技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種裝載裝置及真空處理設(shè)備，該裝載裝置包括支撐架、裝載組件、連動(dòng)組件和傳動(dòng)機(jī)構(gòu)；裝載組件設(shè)置有若干個(gè)，若干個(gè)裝載組件相互平行且沿第一方向傾斜間隔設(shè)置，任意相鄰兩個(gè)裝載組件之間通過連動(dòng)組件連動(dòng)連接；傳...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種超聲波原位輔助激光熔覆裝置及使用方法，包括激光頭和電子計(jì)算機(jī)，電子計(jì)算機(jī)控制有激光熔覆制造模塊和超聲波模塊。本發(fā)明通過同軸夾具剛性連接激光頭、超聲振動(dòng)裝置及送絲噴口，實(shí)現(xiàn)送粉/填絲熔覆模式的無縫切換，解決了現(xiàn)有技術(shù)中鎢絲獨(dú)立...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開了一種真空鍍膜機(jī)的柱弧靶裝置，包括接電機(jī)構(gòu)、磁芯機(jī)構(gòu)和第一電機(jī)，接電機(jī)構(gòu)包括上接電組件和下接電組件，上接電組件和下接電組件交替向管靶供電；磁芯機(jī)構(gòu)包括靶芯組件、磁鐵組件，靶芯組件的外圓面具有第一安裝槽、第二安裝槽，磁鐵組件包括...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明屬于材料鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種用于提高等離子體涂層中靶材的使用效率的設(shè)備，包括：涂層爐，作為設(shè)備整體的支撐結(jié)構(gòu)：陰極體，與所述涂層爐相連；冷卻結(jié)構(gòu)，連接于所述涂層爐；放置箱，固定于所述涂層爐；銅板，連接于所述放置箱；靶材，通過所述銅...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供的一種大氣等離子噴涂陶瓷涂層、制備方法及其應(yīng)用，通過在大氣氛圍下，采用等離子焰流對(duì)金屬合金基體表面預(yù)熱后，形成預(yù)熱表面；以六鈦酸鈉為原料，采用破碎燒結(jié)或造粒燒結(jié)方式將原料制備成目標(biāo)粉末；將目標(biāo)粉末于等離子噴涂焰流中加熱熔化，形成熔...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供一種基于聯(lián)動(dòng)角度調(diào)整機(jī)制的激光入射角度調(diào)節(jié)裝置，屬于激光技術(shù)領(lǐng)域，在激光光路中，分別對(duì)聚焦透鏡和最后一級(jí)反射鏡設(shè)置可變角度安裝裝置，將聚焦透鏡的旋轉(zhuǎn)角度設(shè)定為反射鏡旋轉(zhuǎn)角度的兩倍，當(dāng)聚焦透鏡與反射鏡角度按照上述比例聯(lián)動(dòng)時(shí)，激光最終...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及真空鍍膜管道技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種用于低溫管道絕緣裝置，包括安裝組件，安裝組件上可拆卸連接有活動(dòng)密封組件和固定密封組件，活動(dòng)密封組件和固定密封組件均連通有絕緣管道；絕緣管道包括不銹鋼內(nèi)管、陶瓷層和橡膠層，陶瓷層設(shè)置在不銹鋼內(nèi)管的...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種增強(qiáng)聚合物薄膜與金屬鍍層結(jié)合力的方法，包括如下步驟：(1)真空鍍金屬打底層；(2)激光熔融處理；(3)鍍金屬層。本發(fā)明利用超薄金屬熔點(diǎn)降低、表面能降低驅(qū)動(dòng)的球形化和快速高能處理聚合物薄膜表面軟化三個(gè)特點(diǎn)，通過精確控制激光能量，...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開了一種耐等離子體刻蝕涂層的制備方法和應(yīng)用，涉及涂層技術(shù)領(lǐng)域。包括采用低壓等離子噴涂法制備氧化釔層，氧化釔層包括依次層疊的相對(duì)多孔層（孔隙率為1~3%）和致密層（孔隙率小于1%），且相對(duì)多孔層用于與基體接觸。通過采用低壓等離子噴涂，...
								
        
							
        
							
						
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