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五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)

一種航空基片材料復(fù)合涂層薄膜制備設(shè)備

本發(fā)明公開了一種航空基片材料復(fù)合涂層薄膜制備設(shè)備，主要包括底架、滑動基座和薄膜管組件。底架固定安裝主滑軌和帶驅(qū)動齒條的齒條桿，滑動基座裝配有主動齒輪與從動齒輪聯(lián)動系統(tǒng)。當(dāng)滑動基座移動時，主動齒輪與驅(qū)動齒條嚙合帶動從動齒輪轉(zhuǎn)動，通過棘爪齒條驅(qū)...

2025-09-11
一種獨立式連續(xù)工藝系統(tǒng)

本發(fā)明提供一種獨立式連續(xù)工藝系統(tǒng)，用于對待工藝物件進行電漿處理，該系統(tǒng)依序設(shè)置有預(yù)處理機臺、第一獨立工藝機臺及終端獨立工藝機臺。第一獨立工藝機臺具有工藝腔體及兩個閥門，兩個閥門分別設(shè)于工藝腔體的兩側(cè)，工藝腔體依序設(shè)置有相互連通的第一真空抽氣...

2025-09-11
一種第VIB族金屬前驅(qū)體的合成方法

本發(fā)明屬于過渡族金屬有機物合成技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種第VIB族金屬前驅(qū)體的合成方法，所述方法包括：使用金屬原料MO₂X₂和含[R¹N=C]結(jié)構(gòu)的化合物反應(yīng)制備中間體(R

2025-09-11
一種用于海洋大氣環(huán)境的復(fù)合涂層及其制備方法

本發(fā)明涉及一種用于海洋大氣環(huán)境的微弧氧化復(fù)合涂層及其制備方法，屬于金屬材料表面處理技術(shù)領(lǐng)域。制備方法包括處理基材，所述基材為鎂合金；將處理后的基材置于電解液中進行微弧氧化處理；最后在微弧氧化處理后的基材上進行磁控濺射；基材上制得復(fù)合涂層，依...

2025-09-11
一種適用于脈沖激光沉積系統(tǒng)的激光入射窗口防污染方法

本發(fā)明公開了一種適用于脈沖激光沉積系統(tǒng)的激光入射窗口防污染方法，屬于脈沖激光沉積技術(shù)領(lǐng)域。該方法通過延長激光入射窗口與靶材的距離至800?1200 mm，采用匹配的長焦距聚焦透鏡保持激光聚焦能力，并通過金屬延長管密封連接真空腔體。延長管內(nèi)表...

2025-09-11
一種改善舟片碎耳的隔塊

本實用新型涉及PECVD鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種改善舟片碎耳的隔塊，包括雙頭螺桿，所述雙頭螺桿兩側(cè)固定安裝有固定螺母，所述雙頭螺桿外側(cè)活動安裝有分隔筒，所述雙頭螺桿外側(cè)設(shè)置有片體機構(gòu)，所述片體機構(gòu)包括第一舟片和第二舟片，所述第一舟片前后兩端...

2025-09-11
一種噴淋裝置及薄膜沉積設(shè)備

本發(fā)明公開了一種噴淋裝置及薄膜沉積設(shè)備，包括：本體，所述本體上設(shè)有噴淋面，所述噴淋面上劃分有多個噴淋區(qū)域，每個所述噴淋區(qū)域上分布有多個噴嘴；控制模塊，包括第一控制單元，所述第一控制單元用于對每個所述噴淋區(qū)域上的所述噴淋面的局部相對高度進行獨...

2025-09-11
一種金屬涂層等離子噴涂設(shè)備

一種金屬涂層等離子噴涂設(shè)備，具體涉及等離子噴涂技術(shù)領(lǐng)域，包括工作臺、放置盤、瓶體，所述放置盤旋轉(zhuǎn)安裝在工作臺的頂部，所述工作臺的頂部一側(cè)固定連接有支架，且支架的頂部固定安裝有電動推桿，方案包括采用壓桿與活塞的負壓吸附機構(gòu)替代傳統(tǒng)撐結(jié)構(gòu)，配合...

2025-09-11
一種高精度智能芯片膜的物理氣相沉積裝置

本發(fā)明涉及芯片加工技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種高精度智能芯片膜的物理氣相沉積裝置，通過清洗機構(gòu)和烘干組件的設(shè)置，在清洗芯片時，能夠?qū)⒍鄠€芯片分別放置到若干載物框內(nèi)，并在提升桿的驅(qū)動下進入到清洗桶中，同時清洗多個芯片，從而提高了芯片的加工效率，且在清...

2025-09-11
控制脈沖直流PVD形成的材料層中應(yīng)力變化的方法及設(shè)備

本發(fā)明公開了一種控制脈沖直流物理氣相沉積(PVD)形成的材料層中應(yīng)力變化的方法及設(shè)備。該方法包以下步驟：設(shè)置一腔室，其包括形成材料層的靶和在其上能夠形成材料層的襯底；以及向腔室內(nèi)引入氣體。該方法還包括在腔室內(nèi)生成等離子體并且將第一磁場施加到...

2025-09-11
MPCVD裝置及其應(yīng)用

本發(fā)明提供了一種MPCVD裝置及其應(yīng)用，涉及微波等離子體的技術(shù)領(lǐng)域，包括同軸線、放大同軸線、第一漸變阻抗匹配器、第二漸變阻抗匹配器、等離子體反應(yīng)室、基臺，以及懸放于內(nèi)部的同軸內(nèi)導(dǎo)體；放大同軸線使同軸線中的TEM模式轉(zhuǎn)換到放大同軸線中形成穩(wěn)定...

2025-09-11
一種裝載裝置及真空處理設(shè)備

本實用新型涉及真空處理技術(shù)領(lǐng)域，具體公開了一種裝載裝置及真空處理設(shè)備，該裝載裝置包括支撐架、裝載組件、連動組件和傳動機構(gòu)；裝載組件設(shè)置有若干個，若干個裝載組件相互平行且沿第一方向傾斜間隔設(shè)置，任意相鄰兩個裝載組件之間通過連動組件連動連接；傳...

2025-09-11
一種超聲波原位輔助激光熔覆裝置及使用方法

本發(fā)明公開了一種超聲波原位輔助激光熔覆裝置及使用方法，包括激光頭和電子計算機，電子計算機控制有激光熔覆制造模塊和超聲波模塊。本發(fā)明通過同軸夾具剛性連接激光頭、超聲振動裝置及送絲噴口，實現(xiàn)送粉/填絲熔覆模式的無縫切換，解決了現(xiàn)有技術(shù)中鎢絲獨立...

2025-09-11
一種真空鍍膜機的柱弧靶裝置

本實用新型公開了一種真空鍍膜機的柱弧靶裝置，包括接電機構(gòu)、磁芯機構(gòu)和第一電機，接電機構(gòu)包括上接電組件和下接電組件，上接電組件和下接電組件交替向管靶供電；磁芯機構(gòu)包括靶芯組件、磁鐵組件，靶芯組件的外圓面具有第一安裝槽、第二安裝槽，磁鐵組件包括...

2025-09-11
一種用于提高等離子體涂層中靶材的使用效率的設(shè)備

本發(fā)明屬于材料鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種用于提高等離子體涂層中靶材的使用效率的設(shè)備，包括：涂層爐，作為設(shè)備整體的支撐結(jié)構(gòu)：陰極體，與所述涂層爐相連；冷卻結(jié)構(gòu)，連接于所述涂層爐；放置箱，固定于所述涂層爐；銅板，連接于所述放置箱；靶材，通過所述銅...

2025-09-11
一種大氣等離子噴涂陶瓷涂層、制備方法及其應(yīng)用

本發(fā)明提供的一種大氣等離子噴涂陶瓷涂層、制備方法及其應(yīng)用，通過在大氣氛圍下，采用等離子焰流對金屬合金基體表面預(yù)熱后，形成預(yù)熱表面；以六鈦酸鈉為原料，采用破碎燒結(jié)或造粒燒結(jié)方式將原料制備成目標(biāo)粉末；將目標(biāo)粉末于等離子噴涂焰流中加熱熔化，形成熔...

2025-09-11
一種基于聯(lián)動角度調(diào)整機制的激光入射角度調(diào)節(jié)裝置

本發(fā)明提供一種基于聯(lián)動角度調(diào)整機制的激光入射角度調(diào)節(jié)裝置，屬于激光技術(shù)領(lǐng)域，在激光光路中，分別對聚焦透鏡和最后一級反射鏡設(shè)置可變角度安裝裝置，將聚焦透鏡的旋轉(zhuǎn)角度設(shè)定為反射鏡旋轉(zhuǎn)角度的兩倍，當(dāng)聚焦透鏡與反射鏡角度按照上述比例聯(lián)動時，激光最終...

2025-09-11
一種用于低溫管道絕緣裝置

本實用新型涉及真空鍍膜管道技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種用于低溫管道絕緣裝置，包括安裝組件，安裝組件上可拆卸連接有活動密封組件和固定密封組件，活動密封組件和固定密封組件均連通有絕緣管道；絕緣管道包括不銹鋼內(nèi)管、陶瓷層和橡膠層，陶瓷層設(shè)置在不銹鋼內(nèi)管的...

2025-09-11
一種增強聚合物薄膜與金屬鍍層結(jié)合力的方法

本發(fā)明涉及一種增強聚合物薄膜與金屬鍍層結(jié)合力的方法，包括如下步驟：(1)真空鍍金屬打底層；(2)激光熔融處理；(3)鍍金屬層。本發(fā)明利用超薄金屬熔點降低、表面能降低驅(qū)動的球形化和快速高能處理聚合物薄膜表面軟化三個特點，通過精確控制激光能量，...

2025-09-11
耐等離子體刻蝕涂層的制備方法和應(yīng)用

本發(fā)明公開了一種耐等離子體刻蝕涂層的制備方法和應(yīng)用，涉及涂層技術(shù)領(lǐng)域。包括采用低壓等離子噴涂法制備氧化釔層，氧化釔層包括依次層疊的相對多孔層（孔隙率為1~3%）和致密層（孔隙率小于1%），且相對多孔層用于與基體接觸。通過采用低壓等離子噴涂，...

2025-09-11

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