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								      本發明屬于微波等離子體化學氣相沉積領域，具體涉及一種線性微波與線性離子源組合式化學氣相沉積裝置。包括：微波電源、矩形波導、三銷釘調配器、短路活塞、銅天線、石英管、不銹鋼沉積腔室、線性離子源、觀察測溫窗口、可水平轉動式襯底臺結構、襯底加熱系統...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及卷繞鍍膜技術領域，且公開了一種復合型多功能卷繞鍍膜機，包括固定在支撐腿底部的安裝板，所述支撐腿的頂部固定連接有濺射倉，所述濺射倉的兩側均固定連接有卷料倉，所述卷料倉的內部通過轉軸連接有卷料筒，其中一個所述卷料筒的表面設置有連接繩，...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及一種高純金屬銻的化學氣相沉積裝置及制備方法，屬于高純銻制備技術領域，所述氣相沉積裝置的封頭和反應器密封連接構成反應腔室，封頭和反應器均采用不銹鋼材質，反應器外部設有加熱器，內部設有坩堝，坩堝內壁設有耐高溫耐腐蝕涂層，該裝置強度高、...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開一種互穿網絡結構碳化鉭復合涂層、制備方法及應用，涉及石墨材料技術領域。包括如下步驟：步驟一：在石墨基底上制備互穿網絡結構碳化物涂層；步驟二：將互穿網絡結構碳化物涂層清洗、干燥后，在惰性氣氛中，以氬氣為載氣，將無機鉭鹽、烷烴和氫氣按...
								
        
							
        
							
						
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								      一種具有自修復性能的銅基氧化釔涂層的制備方法，包括以下步驟：將采用脈沖直流磁控濺射方式在無氧銅基體表面濺射沉積形成氧化釔涂層；將含有氧化釔涂層的無氧銅基體傳輸至冷卻室內，進行靜置冷形成涂層基體；將涂層基體送入管式爐內，并向管式爐內通入氬氫混...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種兼容原子層沉積和物理氣相沉積的設備，其包括：沉積室以及與沉積室配合的第一環境調節單元、第一前驅物供應單元和第二前驅物供應單元、原子層沉積激發單元和物理氣相沉積激發單元、第一傳送裝置，第一環境調節單元用于調節沉積室內的溫度...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及涂層技術領域，具體涉及一種高紅外反射涂層；包括依次向基底層上沉積的過渡層、反射輔助層、反射層以及保護層；本發明具有下述有益技術效果：提供一種反射涂層，采用無機材料沉積成復合結構，所得涂層在近紅外和遠紅外同時具備高反射率，且涂層堅固...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請涉及一種超滑類金剛石碳基涂層、復合涂層及其制備方法，所述類金剛石碳基涂層包括碳、氫和摻雜元素，所述摻雜元素包括弱碳化物形成金屬元素、強碳化物形成金屬元素和非金屬元素；其中，所述類金剛石碳基涂層中，以碳和摻雜元素的原子總量計，碳的原子百...
								
        
							
        
							
						
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								      [課題]提供：可以抑制蝕刻后的金屬膜的表面粗糙的基板處理裝置、基板處理方法和化學溶液。[解決方案]基板處理裝置具備：基板旋轉部，其保持在表面形成有金屬的膜的基板并使其旋轉；第1供給部，其向前述基板供給包含螯合劑和溶劑的第1處理液；第2供給部...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明屬于材料熱噴涂技術領域，公開了一種聚丙烯腈基碳纖維輥熱噴涂Cr2O3層的方法和應用。該方法是先在聚丙烯腈基輥件基體表面進行噴砂預處理；采用火焰噴涂法以乙炔為主氣，氧氣為輔氣，在輥基體的表面噴...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明提供了一種耐高溫ITO導電玻璃及其制備方法，涉及透明導電材料領域，該ITO導電玻璃的制備方法為：先清洗玻璃基板，將干凈的玻璃基板放入磁控濺射的制備臺上，同時將ITO陶瓷靶材、SnO2陶瓷靶材和Si3
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種高溫耐磨自潤滑摻硼類金剛石涂層及其制備方法與應用，屬于涂層材料技術領域。該摻硼類金剛石涂層包括在基底表面沉積的Cr打底層、CrxByCz梯度過渡層和B?DLC...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明提供一種具有高遷移率的透明導電薄膜及其制備方法，涉及透明導電薄膜的技術領域，透明導電薄膜以高純度ITO陶瓷材料作為靶材，以氬氣作為工作氣體，采用磁控濺射的方法在MgO基底上進行薄膜沉積得到，其中高純度ITO陶瓷材料由質量比為9:1的I...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明屬于復合涂層制備技術領域，具體涉及一種用于涂層石墨坩堝復用的涂層修復方法。本發明將等離子體噴涂后的片層結構進行激光重熔，降低涂層表面的孔隙率，激光熔覆后的涂層面再經過真空熱壓，熱壓后的涂層內部的孔隙大大減少，同時涂層與基體、涂層與涂層...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及空間原子層沉積技術領域，公開了一種傳送系統及空間原子層沉積設備，其中傳送系統包括驅動單元和載臺，驅動單元的驅動端設置有齒輪，載臺上設置有與齒輪嚙合的齒條，載臺用于在空間原子層沉積設備的反應腔室內運載待鍍工件，驅動單元用于驅使載...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請提供一種介電常數穩定型高導熱金剛石基微波衰減材料及其制備方法，涉及微波衰減材料制備技術領域。該制備方法包括：在精拋處理的石墨基片表面鍍覆合金襯底，用化學氣相沉積法在所述合金襯底上沉積摻硼金剛石膜，得到復合片；采用慢速伺服磨削技術去除所...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明為一種兼顧硬度與韌性的鉻?氧納米復合涂層及其制備方法，具體涉及防護涂層技術領域。所述復合涂層為單層納米復合結構或Cr層與氧化物層交替堆疊形成的多層結構。復合涂層結構有以下三種形式：①Cr相與Cr2O3<...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及一種在高長徑比小孔徑管道內批量鍍制非蒸散型吸氣劑薄膜的方法及裝置，包括上腔體及下腔體，所述的上腔體及下腔體之間設有連通兩者的管組件，所述的管組件沿周向至少均勻設置四組，每組所述的管組件均分別包括從上至下依次連通的上過渡波紋管、電極...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種微型比例閥梯度復合涂層及其制備方法，屬于微型比例閥表面強化制造技術領域。本發明針對微型比例閥在強腐蝕、多雜質、高壓差工況下的耐蝕耐磨需求，結合金屬基體與功能涂層的界面強化及耐腐耐磨性能優化，涵蓋金屬/陶瓷/高分子梯度材料設計...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明提供了一種具有多樣化色彩效果的顯示面板的制備方法，所述制備方法包括以下步驟：(1)圖案設計：設計顯示面板的色彩圖案；(2)仿真模擬：在麥克勞德軟件中輸入顯示面板所使用的基材及靶材的折射率數據，然后進行仿真，仿真出靶材所形成的膜層在不同...
								
        
							
        
							
						
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