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								      本實(shí)用新型涉及真空處理技術(shù)領(lǐng)域，具體公開(kāi)了一種裝載裝置及真空處理設(shè)備，該裝載裝置包括支撐架、裝載組件、連動(dòng)組件和傳動(dòng)機(jī)構(gòu)；裝載組件設(shè)置有若干個(gè)，若干個(gè)裝載組件相互平行且沿第一方向傾斜間隔設(shè)置，任意相鄰兩個(gè)裝載組件之間通過(guò)連動(dòng)組件連動(dòng)連接；傳...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種超聲波原位輔助激光熔覆裝置及使用方法，包括激光頭和電子計(jì)算機(jī)，電子計(jì)算機(jī)控制有激光熔覆制造模塊和超聲波模塊。本發(fā)明通過(guò)同軸夾具剛性連接激光頭、超聲振動(dòng)裝置及送絲噴口，實(shí)現(xiàn)送粉/填絲熔覆模式的無(wú)縫切換，解決了現(xiàn)有技術(shù)中鎢絲獨(dú)立...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種真空鍍膜機(jī)的柱弧靶裝置，包括接電機(jī)構(gòu)、磁芯機(jī)構(gòu)和第一電機(jī)，接電機(jī)構(gòu)包括上接電組件和下接電組件，上接電組件和下接電組件交替向管靶供電；磁芯機(jī)構(gòu)包括靶芯組件、磁鐵組件，靶芯組件的外圓面具有第一安裝槽、第二安裝槽，磁鐵組件包括...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明屬于材料鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種用于提高等離子體涂層中靶材的使用效率的設(shè)備，包括：涂層爐，作為設(shè)備整體的支撐結(jié)構(gòu)：陰極體，與所述涂層爐相連；冷卻結(jié)構(gòu)，連接于所述涂層爐；放置箱，固定于所述涂層爐；銅板，連接于所述放置箱；靶材，通過(guò)所述銅...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供的一種大氣等離子噴涂陶瓷涂層、制備方法及其應(yīng)用，通過(guò)在大氣氛圍下，采用等離子焰流對(duì)金屬合金基體表面預(yù)熱后，形成預(yù)熱表面；以六鈦酸鈉為原料，采用破碎燒結(jié)或造粒燒結(jié)方式將原料制備成目標(biāo)粉末；將目標(biāo)粉末于等離子噴涂焰流中加熱熔化，形成熔...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供一種基于聯(lián)動(dòng)角度調(diào)整機(jī)制的激光入射角度調(diào)節(jié)裝置，屬于激光技術(shù)領(lǐng)域，在激光光路中，分別對(duì)聚焦透鏡和最后一級(jí)反射鏡設(shè)置可變角度安裝裝置，將聚焦透鏡的旋轉(zhuǎn)角度設(shè)定為反射鏡旋轉(zhuǎn)角度的兩倍，當(dāng)聚焦透鏡與反射鏡角度按照上述比例聯(lián)動(dòng)時(shí)，激光最終...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型涉及真空鍍膜管道技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種用于低溫管道絕緣裝置，包括安裝組件，安裝組件上可拆卸連接有活動(dòng)密封組件和固定密封組件，活動(dòng)密封組件和固定密封組件均連通有絕緣管道；絕緣管道包括不銹鋼內(nèi)管、陶瓷層和橡膠層，陶瓷層設(shè)置在不銹鋼內(nèi)管的...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種增強(qiáng)聚合物薄膜與金屬鍍層結(jié)合力的方法，包括如下步驟：(1)真空鍍金屬打底層；(2)激光熔融處理；(3)鍍金屬層。本發(fā)明利用超薄金屬熔點(diǎn)降低、表面能降低驅(qū)動(dòng)的球形化和快速高能處理聚合物薄膜表面軟化三個(gè)特點(diǎn)，通過(guò)精確控制激光能量，...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種耐等離子體刻蝕涂層的制備方法和應(yīng)用，涉及涂層技術(shù)領(lǐng)域。包括采用低壓等離子噴涂法制備氧化釔層，氧化釔層包括依次層疊的相對(duì)多孔層（孔隙率為1~3%）和致密層（孔隙率小于1%），且相對(duì)多孔層用于與基體接觸。通過(guò)采用低壓等離子噴涂，...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及玻璃酒瓶鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，且公開(kāi)了一種用于玻璃酒瓶鍍膜過(guò)程防晃放置架，包括鍍膜底座，鍍膜底座的頂部轉(zhuǎn)動(dòng)連接有旋轉(zhuǎn)齒盤(pán)，鍍膜底座的頂部固定連接有固定齒管，鍍膜底座的底部固定連接有馬達(dá)，馬達(dá)的輸出軸固定連接有齒盤(pán)，本發(fā)明在齒桿二通過(guò)推動(dòng)桿...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)了一種低電阻溫度系數(shù)的埋阻銅箔的制備方法，屬于埋阻銅箔技術(shù)領(lǐng)域，以解決現(xiàn)有技術(shù)無(wú)法制備出低電阻溫度系數(shù)和阻值波動(dòng)小、電阻率大于9×10?4的埋阻銅箔產(chǎn)品的問(wèn)題。方法包括制備生箔層、制備表面處理層、反應(yīng)濺射電阻...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種船用潛水鐘絞車(chē)絞纜管理裝置，包括轉(zhuǎn)盤(pán)和機(jī)身，所述轉(zhuǎn)盤(pán)的頂端安裝有機(jī)身，所述機(jī)身的頂端設(shè)置有橫臂，所述橫臂靠近機(jī)身的一端安裝有第一連接軸，且橫臂經(jīng)過(guò)第一連接軸與機(jī)身活動(dòng)連接，所述橫臂遠(yuǎn)離第一連接軸的一端設(shè)置有彎臂，所述彎臂...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及光學(xué)鍍膜的技術(shù)領(lǐng)域，具體公開(kāi)了一種TPU注塑件射出片的光學(xué)鍍膜加工方法。其包括以下步驟：S1、前處理：將TPU注塑件射出片置于超聲波清洗設(shè)備中進(jìn)行脫油脫脂清洗；烘干后對(duì)TPU注塑件射出片噴涂有機(jī)硅改性樹(shù)脂，固化后在TPU注塑件射出...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)一種高塑性高耐蝕鎂合金，所述鎂合金包含以下重量百分含量的成分：Sn 1～6％、Al 0.1～1％、Zr 0.1～1％、Mn 0.01～3％，余量為Mg和不可避免的雜質(zhì)。本發(fā)明通過(guò)對(duì)于鎂合金中元素成分的調(diào)控，并結(jié)合合適的擠壓工藝得到...
								
        
							
        
							
						
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								      本實(shí)用新型公開(kāi)了一種通信濾光片加工用鍍膜治具，涉及通信濾光片加工領(lǐng)域，包括底座以及底座下端固定安裝的驅(qū)動(dòng)電機(jī)，且驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出端固定安裝有鍍膜箱，并且鍍膜箱的前后兩端轉(zhuǎn)動(dòng)安裝有轉(zhuǎn)動(dòng)桿，而且前后兩個(gè)所述轉(zhuǎn)動(dòng)桿的內(nèi)側(cè)固定安裝有鍍膜盤(pán)，所述底座的...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明屬于熱電薄膜材料技術(shù)領(lǐng)域，具體公開(kāi)了一種基于后碲化處理的高功率因子Bi2Se3薄膜的制備方法，包括以下步驟：S1、制備靶材；S2、放置基片與靶材；S3、調(diào)節(jié)真空度；S4、薄膜沉積，得到Bi<...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明公開(kāi)一種塔機(jī)突然卸載防傾覆系統(tǒng)及其控制方法，所述防傾覆系統(tǒng)包括臂架與塔身鉸接；所述可脫落平衡重設(shè)置于臂架上；平衡重脫落機(jī)構(gòu)，所述平衡重脫落機(jī)構(gòu)在鎖止?fàn)顟B(tài)下將所述可脫落平衡重鎖止于臂架上，在釋放狀態(tài)下解除對(duì)所述可脫落平衡重的鎖止，以使所...
								
        
							
        
							
						
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								      本公開(kāi)實(shí)施例提供了一種鍍膜設(shè)備，包括：第一腔室；靜電吸盤(pán)，位于所述第一腔室內(nèi)；準(zhǔn)直器，位于所述第一腔室內(nèi)，具有多個(gè)間隔分布的準(zhǔn)直通道；第二腔室，與所述第一腔室相鄰設(shè)置，其中，所述第二腔室與所述第一腔室相鄰的腔壁上具有連通通道，所述第二腔室通...
								
        
							
        
							
						
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								      提供了沉積處理設(shè)備。沉積處理設(shè)備包括裝載有襯底固定裝置的第一室、限定執(zhí)行沉積處理的沉積處理空間的第二室以及包括將襯底固定裝置從第一室傳輸?shù)降诙业膫鬏斈K的第三室。襯底固定裝置包括第一支承件和第二支承件，第一支承件支承至少一個(gè)襯底，第二支承...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及顯示裝置的制造裝置和顯示裝置的制造方法，本發(fā)明的一實(shí)施例公開(kāi)顯示裝置的制造裝置，包括：第一腔室，在所述第一腔室的內(nèi)部裝載顯示基板；第二腔室，與所述第一腔室連通，在所述第二腔室中產(chǎn)生第一等離子體；氣體供給部，用于向所述第二腔室供給第...
								
        
							
        
							
						
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