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五金工具產(chǎn)品及配附件制造技術(shù)

一種互穿網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)碳化鉭復(fù)合涂層、制備方法及應(yīng)用

本發(fā)明公開一種互穿網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)碳化鉭復(fù)合涂層、制備方法及應(yīng)用，涉及石墨材料技術(shù)領(lǐng)域。包括如下步驟：步驟一：在石墨基底上制備互穿網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)碳化物涂層；步驟二：將互穿網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)碳化物涂層清洗、干燥后，在惰性氣氛中，以氬氣為載氣，將無(wú)機(jī)鉭鹽、烷烴和氫氣按...

2025-08-20
兼容原子層沉積和物理氣相沉積的設(shè)備

本實(shí)用新型公開了一種兼容原子層沉積和物理氣相沉積的設(shè)備，其包括：沉積室以及與沉積室配合的第一環(huán)境調(diào)節(jié)單元、第一前驅(qū)物供應(yīng)單元和第二前驅(qū)物供應(yīng)單元、原子層沉積激發(fā)單元和物理氣相沉積激發(fā)單元、第一傳送裝置，第一環(huán)境調(diào)節(jié)單元用于調(diào)節(jié)沉積室內(nèi)的溫度...

2025-08-20
高紅外反射涂層

本發(fā)明涉及涂層技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種高紅外反射涂層；包括依次向基底層上沉積的過(guò)渡層、反射輔助層、反射層以及保護(hù)層；本發(fā)明具有下述有益技術(shù)效果：提供一種反射涂層，采用無(wú)機(jī)材料沉積成復(fù)合結(jié)構(gòu)，所得涂層在近紅外和遠(yuǎn)紅外同時(shí)具備高反射率，且涂層堅(jiān)固...

2025-08-20
超滑類金剛石碳基涂層、復(fù)合涂層及其制備方法

本申請(qǐng)涉及一種超滑類金剛石碳基涂層、復(fù)合涂層及其制備方法，所述類金剛石碳基涂層包括碳、氫和摻雜元素，所述摻雜元素包括弱碳化物形成金屬元素、強(qiáng)碳化物形成金屬元素和非金屬元素；其中，所述類金剛石碳基涂層中，以碳和摻雜元素的原子總量計(jì)，碳的原子百...

2025-08-20
一種具有自修復(fù)性能的銅基氧化釔涂層的制備方法

一種具有自修復(fù)性能的銅基氧化釔涂層的制備方法，包括以下步驟：將采用脈沖直流磁控濺射方式在無(wú)氧銅基體表面濺射沉積形成氧化釔涂層；將含有氧化釔涂層的無(wú)氧銅基體傳輸至冷卻室內(nèi)，進(jìn)行靜置冷形成涂層基體；將涂層基體送入管式爐內(nèi)，并向管式爐內(nèi)通入氬氫混...

2025-08-20
基板處理裝置、基板處理方法和化學(xué)溶液

[課題]提供：可以抑制蝕刻后的金屬膜的表面粗糙的基板處理裝置、基板處理方法和化學(xué)溶液。[解決方案]基板處理裝置具備：基板旋轉(zhuǎn)部，其保持在表面形成有金屬的膜的基板并使其旋轉(zhuǎn)；第1供給部，其向前述基板供給包含螯合劑和溶劑的第1處理液；第2供給部...

2025-08-20
一種聚丙烯腈基碳纖維輥熱噴涂Cr₂O₃層的方法和應(yīng)用

本發(fā)明屬于材料熱噴涂技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種聚丙烯腈基碳纖維輥熱噴涂Cr₂O₃層的方法和應(yīng)用。該方法是先在聚丙烯腈基輥件基體表面進(jìn)行噴砂預(yù)處理；采用火焰噴涂法以乙炔為主氣，氧氣為輔氣，在輥基體的表面噴...

2025-08-20
一種耐高溫ITO導(dǎo)電玻璃及其制備方法

本發(fā)明提供了一種耐高溫ITO導(dǎo)電玻璃及其制備方法，涉及透明導(dǎo)電材料領(lǐng)域，該ITO導(dǎo)電玻璃的制備方法為：先清洗玻璃基板，將干凈的玻璃基板放入磁控濺射的制備臺(tái)上，同時(shí)將ITO陶瓷靶材、SnO₂陶瓷靶材和Si₃

2025-08-20
一種高溫耐磨自潤(rùn)滑摻硼類金剛石涂層及其制備方法與應(yīng)用

本發(fā)明公開了一種高溫耐磨自潤(rùn)滑摻硼類金剛石涂層及其制備方法與應(yīng)用，屬于涂層材料技術(shù)領(lǐng)域。該摻硼類金剛石涂層包括在基底表面沉積的Cr打底層、Cr_xB_yC_z梯度過(guò)渡層和B?DLC...

2025-08-20
一種具有高遷移率的透明導(dǎo)電薄膜及其制備方法

本發(fā)明提供一種具有高遷移率的透明導(dǎo)電薄膜及其制備方法，涉及透明導(dǎo)電薄膜的技術(shù)領(lǐng)域，透明導(dǎo)電薄膜以高純度ITO陶瓷材料作為靶材，以氬氣作為工作氣體，采用磁控濺射的方法在MgO基底上進(jìn)行薄膜沉積得到，其中高純度ITO陶瓷材料由質(zhì)量比為9:1的I...

2025-08-20
一種用于涂層石墨坩堝復(fù)用的涂層修復(fù)方法

本發(fā)明屬于復(fù)合涂層制備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種用于涂層石墨坩堝復(fù)用的涂層修復(fù)方法。本發(fā)明將等離子體噴涂后的片層結(jié)構(gòu)進(jìn)行激光重熔，降低涂層表面的孔隙率，激光熔覆后的涂層面再經(jīng)過(guò)真空熱壓，熱壓后的涂層內(nèi)部的孔隙大大減少，同時(shí)涂層與基體、涂層與涂層...

2025-08-20
一種傳送系統(tǒng)及空間原子層沉積設(shè)備

本實(shí)用新型涉及空間原子層沉積技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種傳送系統(tǒng)及空間原子層沉積設(shè)備，其中傳送系統(tǒng)包括驅(qū)動(dòng)單元和載臺(tái)，驅(qū)動(dòng)單元的驅(qū)動(dòng)端設(shè)置有齒輪，載臺(tái)上設(shè)置有與齒輪嚙合的齒條，載臺(tái)用于在空間原子層沉積設(shè)備的反應(yīng)腔室內(nèi)運(yùn)載待鍍工件，驅(qū)動(dòng)單元用于驅(qū)使載...

2025-08-20
一種介電常數(shù)穩(wěn)定型高導(dǎo)熱金剛石基微波衰減材料及其制備方法

本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N介電常數(shù)穩(wěn)定型高導(dǎo)熱金剛石基微波衰減材料及其制備方法，涉及微波衰減材料制備技術(shù)領(lǐng)域。該制備方法包括：在精拋處理的石墨基片表面鍍覆合金襯底，用化學(xué)氣相沉積法在所述合金襯底上沉積摻硼金剛石膜，得到復(fù)合片；采用慢速伺服磨削技術(shù)去除所...

2025-08-20
一種兼顧硬度與韌性的鉻-氧納米復(fù)合涂層及其制備方法

本發(fā)明為一種兼顧硬度與韌性的鉻?氧納米復(fù)合涂層及其制備方法，具體涉及防護(hù)涂層技術(shù)領(lǐng)域。所述復(fù)合涂層為單層納米復(fù)合結(jié)構(gòu)或Cr層與氧化物層交替堆疊形成的多層結(jié)構(gòu)。復(fù)合涂層結(jié)構(gòu)有以下三種形式：①Cr相與Cr₂O_3<...

2025-08-20
一種在高長(zhǎng)徑比小孔徑管道內(nèi)批量鍍制非蒸散型吸氣劑薄膜的方法及裝置

本發(fā)明涉及一種在高長(zhǎng)徑比小孔徑管道內(nèi)批量鍍制非蒸散型吸氣劑薄膜的方法及裝置，包括上腔體及下腔體，所述的上腔體及下腔體之間設(shè)有連通兩者的管組件，所述的管組件沿周向至少均勻設(shè)置四組，每組所述的管組件均分別包括從上至下依次連通的上過(guò)渡波紋管、電極...

2025-08-20
一種微型比例閥梯度復(fù)合涂層及其制備方法

本發(fā)明公開了一種微型比例閥梯度復(fù)合涂層及其制備方法，屬于微型比例閥表面強(qiáng)化制造技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明針對(duì)微型比例閥在強(qiáng)腐蝕、多雜質(zhì)、高壓差工況下的耐蝕耐磨需求，結(jié)合金屬基體與功能涂層的界面強(qiáng)化及耐腐耐磨性能優(yōu)化，涵蓋金屬/陶瓷/高分子梯度材料設(shè)計(jì)...

2025-08-20
一種具有多樣化色彩效果的顯示面板的制備方法

本發(fā)明提供了一種具有多樣化色彩效果的顯示面板的制備方法，所述制備方法包括以下步驟：(1)圖案設(shè)計(jì)：設(shè)計(jì)顯示面板的色彩圖案；(2)仿真模擬：在麥克勞德軟件中輸入顯示面板所使用的基材及靶材的折射率數(shù)據(jù)，然后進(jìn)行仿真，仿真出靶材所形成的膜層在不同...

2025-08-20
一種金屬電極制備方法

本申請(qǐng)公開了一種金屬電極制備方法，可用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，該方法中，首先，提供基底；而后，利用離子束刻蝕技術(shù)將氬離子嵌入基底表面；繼而，通過(guò)電子束蒸鍍工藝，在基底表面依次生長(zhǎng)金屬過(guò)渡層和金屬種子層；最后，利用磁控濺射技術(shù)，采用與金屬種子層相同...

2025-08-20
基于硼靶材磁控濺射的等離子刻蝕方法和鍍膜方法

本發(fā)明公開基于硼靶材磁控濺射的等離子刻蝕方法和鍍膜方法，屬于薄膜材料制備技術(shù)領(lǐng)域。等離子刻蝕方法包括：在磁控濺射設(shè)備真空室中，樣品架上安裝基片，陰極上安裝硼靶材；對(duì)磁控濺射設(shè)備真空室抽真空，通入氬氣，對(duì)所述基片施加雙極脈沖偏壓，對(duì)所述硼靶材...

2025-08-20
一種基于Mn-Co-Ni-O薄膜的橋式結(jié)構(gòu)微測(cè)輻射熱計(jì)及其制備方法

本發(fā)明公開了一種基于Mn?Co?Ni?O薄膜的橋式結(jié)構(gòu)微測(cè)輻射熱計(jì)及其制備方法。本發(fā)明考慮了Mn?Co?Ni?O后高溫退火工藝，在釋放完?duì)奚鼘拥膽腋〗Y(jié)構(gòu)上進(jìn)行退火，兼容有機(jī)犧牲層材料釋放工藝，對(duì)懸浮結(jié)構(gòu)進(jìn)行退火將最小化由于襯底各層材料在高溫...

2025-08-20

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