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      • 本揭露提供一種電子裝置,包括線路基板、無(wú)機(jī)發(fā)光單元以及不透明層。線路基板包括光傳感器。無(wú)機(jī)發(fā)光單元設(shè)置在線路基板上且用以發(fā)射光束。不透明層設(shè)置在線路基板上且包括第一開(kāi)口。光束的一部分經(jīng)由第一開(kāi)口傳遞至光傳感器。
      • 本發(fā)明公開(kāi)顯示設(shè)備。本發(fā)明的顯示設(shè)備可以包括:底座;顯示器,從所述底座隔開(kāi),在正面顯示圖像;桿,一端與所述底座連接,另一端從所述底座朝所述顯示器延伸;臂,所述臂的一端與所述桿中位于所述底座的相反側(cè)的另一端結(jié)合;連接器,一端與所述臂結(jié)合,另一...
      • 本發(fā)明公開(kāi)顯示設(shè)備。本發(fā)明的顯示設(shè)備可以包括:底座;顯示器,從所述底座隔開(kāi),在正面顯示圖像;桿,一端與所述底座連接,另一端從所述底座朝所述顯示器延伸;臂,所述臂的一端與所述桿中位于所述底座的相反側(cè)的另一端結(jié)合;以及連接器,一端與所述臂結(jié)合,...
      • 本發(fā)明適用于清潔設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明公開(kāi)一種清潔滾筒毛刷及清潔工具,其中清潔滾筒毛刷包括毛刷本體和沿毛刷本體圓周方向設(shè)置至少兩組刷毛,每組刷毛沿毛刷本體長(zhǎng)度方向設(shè)置,且至少兩組刷毛的長(zhǎng)度不同。由于設(shè)置兩組不同長(zhǎng)度的刷毛,既可以在工作時(shí)將較遠(yuǎn)...
      • 本發(fā)明的名稱(chēng)是具有增加的重致膨脹和恒定的離模膨脹的過(guò)氧化物處理的吹塑聚合物。基于乙烯的聚合物一般通過(guò)以下項(xiàng)來(lái)表征:小于12g/10min的高負(fù)荷熔體指數(shù)、200,000至550,000g/mol的重均分子量、18,000至48,000g/m...
      • 本發(fā)明公開(kāi)一種電子裝置及其控制方法和存儲(chǔ)介質(zhì)。電子裝置包括:控制單元,其被配置為:基于包括通過(guò)第一光學(xué)系統(tǒng)拍攝的第一圖像和通過(guò)第二光學(xué)系統(tǒng)拍攝的相對(duì)于第一圖像具有視差的第二圖像的第三圖像,在顯示單元中顯示圖像;和接收單元,其被配置為接收用于...
      • 本發(fā)明屬于交通技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種基于復(fù)合異型翼緣軌道的內(nèi)懸掛式磁浮高速巴士公交車(chē)及系統(tǒng),尤其是一種基于H結(jié)構(gòu)基梁上下復(fù)合異型翼緣軌道和四懸臂轉(zhuǎn)向架的磁浮高速巴士公交車(chē)及系統(tǒng),磁浮高速巴士公交車(chē)包括四懸臂轉(zhuǎn)向架、懸浮系統(tǒng)、支撐機(jī)構(gòu)、動(dòng)力系統(tǒng)等...
      • 本發(fā)明提供了一種透明質(zhì)酸鋅的制備方法,包括以下步驟:將透明質(zhì)酸鈉加入到含鋅鹽的酸性含水有機(jī)介質(zhì)中,進(jìn)行一次置換,得到透明質(zhì)酸鋅沉淀;用洗滌液洗滌所述沉淀;將洗滌后的所述沉淀用脫水液進(jìn)行脫水,干燥,得到透明質(zhì)酸鋅粉末。本發(fā)明基于固體置換法,對(duì)...
      • 本公開(kāi)提供了一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置,屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域。其中,顯示基板包括:位于襯底基板上、沿第一方向延伸的第一信號(hào)線;位于所述襯底基板上、沿第二方向延伸的第二信號(hào)線,所述第二信號(hào)線與所述第一信號(hào)線異層設(shè)置,所述第二方向與所述第一...
      • 本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N血樣分析模組,包括殼體和圍墻組件,殼體內(nèi)設(shè)有腔體,且設(shè)有第一通孔、第二通孔、第三通孔;圍墻組件設(shè)置于腔體中,與腔體接觸以形成標(biāo)準(zhǔn)腔和對(duì)照腔,第一通孔、第二通孔與標(biāo)準(zhǔn)腔連通,第三通孔與對(duì)照腔連通;標(biāo)準(zhǔn)腔和對(duì)照腔的腔壁均設(shè)有電極...
      • 本發(fā)明適用于清潔設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明公開(kāi)一種多面接觸清潔滾筒機(jī)構(gòu)及清潔器具及清潔器具,其中多面接觸清潔滾筒機(jī)構(gòu)及清潔器具包括清潔滾筒和與清潔滾筒表面形成清洗面的接觸擠水條和引水條,其特征在于,所述清潔滾筒機(jī)構(gòu)還包括與清潔滾筒表面接觸形成第一...
      • 本發(fā)明涉及一種管件型材的地面和空間在軌復(fù)合成型裝置。該裝置以機(jī)臺(tái)為基礎(chǔ),其上設(shè)置多種機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)扁材到管件型材的轉(zhuǎn)換。定位機(jī)構(gòu)用于對(duì)扁材定位,形式多樣,如帶凹槽的定位臺(tái)等,可精準(zhǔn)固定扁材。脹管機(jī)構(gòu)包含安裝臺(tái)、脹形柱和驅(qū)動(dòng)件,脹形柱在驅(qū)動(dòng)件作用下...
      • 一種化合物,以下述通式(1)表示。在通式(1)中,CN為氰基,D11及D12分別獨(dú)立地為以通式(11)、通式(12)或者通式(13)表示的基團(tuán),其中,至少1個(gè)D11是以通式(...
      • 本發(fā)明公開(kāi)了一種用于晶圓處理的供給通道清洗方法、裝置和系統(tǒng),其中方法包括:第一清洗步驟,在所述供給通道充滿化學(xué)液之后,采用滴液的方式將化學(xué)液通入所述供給通道,以實(shí)現(xiàn)對(duì)所述供給通道的動(dòng)態(tài)浸泡,從而溶解污染物;第二清洗步驟,所述第一清洗步驟執(zhí)行...
      • 本發(fā)明公開(kāi)了一種用于晶圓處理的供給通道清洗方法、裝置和系統(tǒng),其中方法包括:第一清洗步驟,在所述供給通道充滿化學(xué)液之后,采用滴液的方式將化學(xué)液通入所述供給通道,以實(shí)現(xiàn)對(duì)所述供給通道的動(dòng)態(tài)浸泡,從而溶解污染物;第二清洗步驟,所述第一清洗步驟執(zhí)行...
      • 本發(fā)明公開(kāi)了一種組織快速裂解的方法,包括:使聲流體器件的聲流體芯片的位置調(diào)整至正對(duì)組織塊,并使組織塊和聲流體芯片浸沒(méi)于液體中;使所述聲流體芯片產(chǎn)生特超聲波,所述特超聲波在液體中傳播時(shí),會(huì)引發(fā)聲流體效應(yīng),形成向前噴射的射流及回旋形成的渦流,以...
      • 本申請(qǐng)涉及用于降低能力(REDCAP)用戶裝備的延長(zhǎng)非連續(xù)接收(eDRX)。本申請(qǐng)涉及由RedCap UE支持eDRX。在一個(gè)示例中,UE向網(wǎng)絡(luò)指示該UE正在作為RedCap UE操作并且請(qǐng)求eDRX配置。作為響應(yīng),該網(wǎng)絡(luò)選擇該eDRX的一...
      • 本發(fā)明公開(kāi)了一種晶圓清洗裝置,其包括:槽體;支撐組件,位于所述槽體中,其為轉(zhuǎn)動(dòng)件,用于豎向支撐并帶動(dòng)待清洗晶圓旋轉(zhuǎn);清洗刷,水平設(shè)置并繞其軸線滾動(dòng);清潔件,位于所述槽體中,用于朝向轉(zhuǎn)動(dòng)件噴射流體,以移除積聚于轉(zhuǎn)動(dòng)件的顆粒物;所述清潔件的噴射...
      • 本發(fā)明公開(kāi)了一種晶圓清洗方法,其包括:S1,將晶圓放置于槽體內(nèi)的滾輪組件,滾輪組件豎向支撐待清洗的晶圓;S2,槽體內(nèi)的清洗刷通水并朝向晶圓移動(dòng)至清洗位置,清洗刷滾動(dòng)以接觸的方式清洗晶圓表面;S3,完成刷洗的清洗刷遠(yuǎn)離晶圓,槽體內(nèi)的清潔件朝向...
      • 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N電子設(shè)備,用于減少揚(yáng)聲器模組和攝像頭模組在電路板上的占用空間,減小電路板在電子設(shè)備內(nèi)部的占用空間,增大電源模組在電子設(shè)備內(nèi)部的可占用空間,有助于提升電源模組的容量,提高電子設(shè)備的續(xù)航能力。電子設(shè)備包括殼體、電路板、揚(yáng)聲器模組和...
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