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            拖動滑塊完成拼圖
        
      
        
      
    
      
    
      
        
      
        
      
    
      

      














      
    
    
      
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                  		最新專利技術(shù)
                  	
                  
      
                
      
                
      
                    
        
					
						
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								      根據(jù)實施例的電路板包括：絕緣層；設(shè)置在絕緣層上的電極部；設(shè)置在電極部上的保護層；和設(shè)置在保護層上的多個導電接合部，其中，多個導電接合部中的每一個包括穿透保護層的貫通電極，其中，保護層的上表面包括設(shè)置在多個貫通電極之間的凹面，其中，凹面與電極...
								
        
							
        
							
						
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								      本揭示提供了一種光擴散片43B，該光擴散片在第一表面S1上具有用于擴散光的不平坦形狀，并且在第二表面S2上具有由含有多個顆粒107的樹脂106構(gòu)成的涂覆層103。在設(shè)置有該涂覆層103的該第二表面S2上，算術(shù)平均粗糙度Ra為1.5μm或更大...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種用于制備包括抗感染劑的涂層組合物的方法，該涂層組合物用于控制釋放所述抗感染劑，以及涉及可通過所述方法獲得的涂層組合物或涂覆基材。這種涂層組合物在牙科領(lǐng)域特別有用，用于治療或預(yù)防炎癥過程，如粘膜炎或植入物周圍炎，優(yōu)選地植入物周圍...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及缸筒技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種異形缸筒及其加工裝置，包括有主支架、一號氣缸、上支板、定位齒條、支撐框、減程彈簧、支撐板、絲杠、十字板、定位板等；主支架上滑動連接有上支板，主支架上固定安裝有用于驅(qū)動上支板的一號氣缸，上支板上固接有定位齒...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種碳素陽極及鋼爪智能噴涂系統(tǒng)，屬于涂料噴涂技術(shù)領(lǐng)域。機器人安裝在機架上，噴槍通過快換盤組件安裝在機器人上，備用料管固定裝置安裝在機架一側(cè)，第一支撐裝置和第二支撐裝置安裝在機器人上，清理裝置和噴槍浸泡裝置均安裝在機架上；通過氣缸的...
								
        
							
        
							
						
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								      公開了用于在模塊化覆蓋增強設(shè)備(諸如，網(wǎng)絡(luò)控制中繼器(NCR))處進行陣列間相位偏移補償?shù)募夹g(shù)。該模塊化覆蓋增強設(shè)備包括多個模塊，每個模塊包括多個天線陣列。
								
        
							
        
							
						
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								      提供一種硫化物固體電解質(zhì)的制造方法，能夠制造具有目標晶體結(jié)構(gòu)的硫化物固體電解質(zhì)并能夠削減制造時投入的能量，包括一邊使硫化氫與原料含有物接觸一邊進行加熱(加熱(1))，所述加熱(1)的溫度(T1(℃))為170℃以下。
								
        
							
        
							
						
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								      系統(tǒng)使用GPU可訪問高速存儲器來存儲壓縮的或原始的視頻打印機數(shù)據(jù)。系統(tǒng)在HDMI接口的一個或多個幀上發(fā)送該視頻數(shù)據(jù)，并且電路從一個或多個HDMI幀重構(gòu)頁的視頻數(shù)據(jù)以用于傳送到打印機。
								
        
							
        
							
						
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								      一種用于將具有未定義的偏振的傳入光波轉(zhuǎn)換為具有定義的偏振的光波的無源光波轉(zhuǎn)換模塊，該定義的偏振是橫向電場TE偏振或橫向磁場TM偏振中的一個，該無源光波轉(zhuǎn)換模塊包括：光分路器，該光分路器用于分離傳入光；兩個50%輸入偏振轉(zhuǎn)換器，該兩個50%輸...
								
        
							
        
							
						
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								      液體分配裝置將來自單個入口的液體輸入流提供到內(nèi)部歧管中，并將來自歧管的輸入流分配或劃分到一組單獨的液體回路，這些回路將相應(yīng)的輸出流引導到出口，從該出口可以將受控體積的液體分配到相應(yīng)的容器中，例如多孔板的孔中。分配到一個容器中的液體體積可以與...
								
        
							
        
							
						
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								      提供具備鍍層對于基材的密合性和鍍層對于其他構(gòu)件的密合性、同時進而在與其他構(gòu)件的接合時與以往相比可縮短接合時間或降低接合溫度的鍍鎳金屬板。解決手段為鍍鎳金屬板，其特征在于，包含由金屬構(gòu)成的基材、和在上述基材上的至少一面設(shè)置的粗化鎳層，上述鍍鎳...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種用于制備羧甲基(CMC)的新方法、新型羧甲基纖維素、其制備方法和用途。
								
        
							
        
							
						
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								      本公開涉及生物學領(lǐng)域。具體而言，本公開涉及T細胞活化誘導標志物測定，所述T細胞活化誘導標志物測定可用于例如確定受試者先前是否暴露于感興趣的抗原，例如通過感染病原體而暴露于感興趣的抗原；以及與所述T細胞活化誘導標志物測定相關(guān)的試劑盒和組合物。
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種車輛(10a；10b)、尤其是轉(zhuǎn)向系統(tǒng)(12a)，其具有用于對在車輛(10a；10b)中出現(xiàn)的異常、尤其是機械的、觸覺的和/或聲學的異常進行檢測的檢測單元(14a；14b)。在此建議，所述車輛(10a；10b)包括與檢測單元(...
								
        
							
        
							
						
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								      壓鑄模具（10）具有位于固定模具（20）側(cè)的第一鑲塊（50）和位于可動模具（30）側(cè)的第二鑲塊（70），第一鑲塊（50）具有通過填充熔融的金屬材料來成型多個散熱用的針（105）的第一貫通孔（56），第二鑲塊（70）具有排出成型空間（15）內(nèi)...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種用于承載臂系統(tǒng)（100）的彈簧臂裝置（1），該承載臂系統(tǒng)用于保持醫(yī)療器械，所述彈簧臂裝置包括彈簧管（3）和彈簧桿（4），彈簧桿至少部分布置在彈簧管（3）的內(nèi)部并且可沿彈簧管（3）的縱向方向（2）相對于彈簧管（3）移動。該彈簧臂...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明涉及一種用于下肢動脈搏動檢查操作訓練的處理器及處理方法，處理器接收由第一圖像采集單元采集的操作人員檢查動脈搏動手勢的第一手勢圖像信息以及第一整體圖像信息和由第二圖像采集單元從其取像角度采集的操作人員檢查動脈搏動手勢的第二手勢圖像信息以...
								
        
							
        
							
						
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								      本發(fā)明提供一種防止或抑制在邊緣環(huán)的下部的異常放電的發(fā)生的基板處理裝置以及靜電卡盤。基板處理裝置具備：等離子體處理腔室；基座，配置在所述等離子體處理腔室內(nèi)；靜電卡盤，配置在所述基座的上部，具有基板支承面以及環(huán)支承面；和邊緣環(huán)，配置于所述環(huán)支承...
								
        
							
        
							
						
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								      提供一種能夠低價且容易地制造的激光模塊。激光模塊（1）具備：第一激光部（21），其包含能夠向+X方向射出第一射出激光（L1）的第一半導體激光元件（11）；第二激光部（22），其包含能夠向?X方向射出第二射出激光（L
							
        
							
						
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								      本發(fā)明的課題為提供一種在與實施了化學機械研磨處理的含有金屬的被處理物接觸時，金屬的防腐蝕性優(yōu)異且對有機殘渣的清洗性也優(yōu)異的半導體處理液。本發(fā)明的半導體處理液含有式(1)所表示的化合物，pH超過7.0。(1)
							
        
							
						
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