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      • 本發明提供一種能夠更加細致地控制所產生的磁場分布的超導磁體裝置。超導磁體裝置(10)具備:筒型低溫恒溫器(20),在其內側劃定有中心空腔(24);第1超導線圈組(30)及第2超導線圈組(40),在中心空腔(24)的外側配置于筒型低溫恒溫器(...
      • 本公開涉及具有空間測距校準能力的電子設備。一種電子設備可以包括雷達電路。控制電路可以使用多音調校準信號來校準該雷達電路。第一混頻器可以將該校準信號上變頻以供發射天線發射。去啁啾混頻器可以將由該第一混頻器輸出的校準信號與由接收天線或環回路徑接...
      • 本揭露提供一種電子裝置,包括線路基板、無機發光單元以及不透明層。線路基板包括光傳感器。無機發光單元設置在線路基板上且用以發射光束。不透明層設置在線路基板上且包括第一開口。光束的一部分經由第一開口傳遞至光傳感器。
      • 本發明公開顯示設備。本發明的顯示設備可以包括:底座;顯示器,從所述底座隔開,在正面顯示圖像;桿,一端與所述底座連接,另一端從所述底座朝所述顯示器延伸;臂,所述臂的一端與所述桿中位于所述底座的相反側的另一端結合;連接器,一端與所述臂結合,另一...
      • 本發明公開顯示設備。本發明的顯示設備可以包括:底座;顯示器,從所述底座隔開,在正面顯示圖像;桿,一端與所述底座連接,另一端從所述底座朝所述顯示器延伸;臂,所述臂的一端與所述桿中位于所述底座的相反側的另一端結合;以及連接器,一端與所述臂結合,...
      • 本發明適用于清潔設備技術領域。本發明公開一種清潔滾筒毛刷及清潔工具,其中清潔滾筒毛刷包括毛刷本體和沿毛刷本體圓周方向設置至少兩組刷毛,每組刷毛沿毛刷本體長度方向設置,且至少兩組刷毛的長度不同。由于設置兩組不同長度的刷毛,既可以在工作時將較遠...
      • 本發明的名稱是具有增加的重致膨脹和恒定的離模膨脹的過氧化物處理的吹塑聚合物。基于乙烯的聚合物一般通過以下項來表征:小于12g/10min的高負荷熔體指數、200,000至550,000g/mol的重均分子量、18,000至48,000g/m...
      • 本發明公開一種電子裝置及其控制方法和存儲介質。電子裝置包括:控制單元,其被配置為:基于包括通過第一光學系統拍攝的第一圖像和通過第二光學系統拍攝的相對于第一圖像具有視差的第二圖像的第三圖像,在顯示單元中顯示圖像;和接收單元,其被配置為接收用于...
      • 本發明屬于交通技術領域,涉及一種基于復合異型翼緣軌道的內懸掛式磁浮高速巴士公交車及系統,尤其是一種基于H結構基梁上下復合異型翼緣軌道和四懸臂轉向架的磁浮高速巴士公交車及系統,磁浮高速巴士公交車包括四懸臂轉向架、懸浮系統、支撐機構、動力系統等...
      • 本發明提供了一種透明質酸鋅的制備方法,包括以下步驟:將透明質酸鈉加入到含鋅鹽的酸性含水有機介質中,進行一次置換,得到透明質酸鋅沉淀;用洗滌液洗滌所述沉淀;將洗滌后的所述沉淀用脫水液進行脫水,干燥,得到透明質酸鋅粉末。本發明基于固體置換法,對...
      • 本公開提供了一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置,屬于顯示技術領域。其中,顯示基板包括:位于襯底基板上、沿第一方向延伸的第一信號線;位于所述襯底基板上、沿第二方向延伸的第二信號線,所述第二信號線與所述第一信號線異層設置,所述第二方向與所述第一...
      • 本申請提供了一種血樣分析模組,包括殼體和圍墻組件,殼體內設有腔體,且設有第一通孔、第二通孔、第三通孔;圍墻組件設置于腔體中,與腔體接觸以形成標準腔和對照腔,第一通孔、第二通孔與標準腔連通,第三通孔與對照腔連通;標準腔和對照腔的腔壁均設有電極...
      • 本發明適用于清潔設備技術領域。本發明公開一種多面接觸清潔滾筒機構及清潔器具及清潔器具,其中多面接觸清潔滾筒機構及清潔器具包括清潔滾筒和與清潔滾筒表面形成清洗面的接觸擠水條和引水條,其特征在于,所述清潔滾筒機構還包括與清潔滾筒表面接觸形成第一...
      • 本發明涉及一種管件型材的地面和空間在軌復合成型裝置。該裝置以機臺為基礎,其上設置多種機構實現扁材到管件型材的轉換。定位機構用于對扁材定位,形式多樣,如帶凹槽的定位臺等,可精準固定扁材。脹管機構包含安裝臺、脹形柱和驅動件,脹形柱在驅動件作用下...
      • 一種化合物,以下述通式(1)表示。在通式(1)中,CN為氰基,D11及D12分別獨立地為以通式(11)、通式(12)或者通式(13)表示的基團,其中,至少1個D11是以通式(...
      • 本發明公開了一種用于晶圓處理的供給通道清洗方法、裝置和系統,其中方法包括:第一清洗步驟,在所述供給通道充滿化學液之后,采用滴液的方式將化學液通入所述供給通道,以實現對所述供給通道的動態浸泡,從而溶解污染物;第二清洗步驟,所述第一清洗步驟執行...
      • 本發明公開了一種用于晶圓處理的供給通道清洗方法、裝置和系統,其中方法包括:第一清洗步驟,在所述供給通道充滿化學液之后,采用滴液的方式將化學液通入所述供給通道,以實現對所述供給通道的動態浸泡,從而溶解污染物;第二清洗步驟,所述第一清洗步驟執行...
      • 本發明公開了一種組織快速裂解的方法,包括:使聲流體器件的聲流體芯片的位置調整至正對組織塊,并使組織塊和聲流體芯片浸沒于液體中;使所述聲流體芯片產生特超聲波,所述特超聲波在液體中傳播時,會引發聲流體效應,形成向前噴射的射流及回旋形成的渦流,以...
      • 本申請涉及用于降低能力(REDCAP)用戶裝備的延長非連續接收(eDRX)。本申請涉及由RedCap UE支持eDRX。在一個示例中,UE向網絡指示該UE正在作為RedCap UE操作并且請求eDRX配置。作為響應,該網絡選擇該eDRX的一...
      • 本發明公開了一種晶圓清洗裝置,其包括:槽體;支撐組件,位于所述槽體中,其為轉動件,用于豎向支撐并帶動待清洗晶圓旋轉;清洗刷,水平設置并繞其軸線滾動;清潔件,位于所述槽體中,用于朝向轉動件噴射流體,以移除積聚于轉動件的顆粒物;所述清潔件的噴射...
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