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最新專利技術(shù)

用于沉積鎢薄膜或鉬薄膜的方法

本申請(qǐng)涉及用于沉積鎢薄膜或鉬薄膜的方法。本文描述用于沉積金屬薄膜或?qū)拥揭r底上的氣相沉積方法，其中所述金屬是鉬或鎢；所述方法涉及含有所述金屬及一或多種含碳配體的有機(jī)金屬前驅(qū)物化合物，并包含沉積由所述前驅(qū)物的所述金屬形成的金屬層到襯底上，隨后將...

2025-08-26
一種制備ω-硝基氧基-1-烷醇的方法

本發(fā)明涉及一種制備ω?硝基氧基?C_3?10烷烴?1?醇的方法。

2025-08-26
數(shù)碼相機(jī)以及數(shù)據(jù)播放系統(tǒng)

本發(fā)明提供一種能夠簡(jiǎn)單地生成可播放聲音的印刷品的數(shù)碼相機(jī)以及數(shù)據(jù)播放系統(tǒng)。若打印關(guān)聯(lián)對(duì)應(yīng)有聲音數(shù)據(jù)的圖像數(shù)據(jù)，則帶打印機(jī)數(shù)碼相機(jī)（10）附加固有的識(shí)別信息后將該圖像數(shù)據(jù)及聲音數(shù)據(jù)經(jīng)由上傳終端（300）上傳到數(shù)據(jù)保存服務(wù)器（200）。并且，附...

2025-08-26
指令高速緩存中的預(yù)取終止和恢復(fù)

一種系統(tǒng)，其包括CPU核心（102）、第一存儲(chǔ)器高速緩存（130）和第二存儲(chǔ)器高速緩存（155）以及存儲(chǔ)控制器子系統(tǒng)（101）。存儲(chǔ)控制器子系統(tǒng)（101）推測(cè)地確定第一存儲(chǔ)器高速緩存（130）中的虛擬地址的命中或未命中狀況，并且推測(cè)地將虛擬...

2025-08-26
預(yù)防半導(dǎo)體襯底處理中基座上的沉積

一種用于在襯底處理系統(tǒng)中的襯底支撐件的隔熱結(jié)構(gòu)包含外罩，其被構(gòu)造成環(huán)繞所述襯底支撐件的桿。所述外罩還被構(gòu)造成限定所述外罩與所述桿的上部和所述襯底支撐件的下表面之間的內(nèi)部容積以及所述外罩與所述襯底支撐件的所述桿的下部之間的豎直通道。所述外罩包...

2025-08-26
使用快速修整序列控制芯部關(guān)鍵尺寸變化的方法

芯部材料的圖案形成在晶片上，以包含具有關(guān)鍵尺寸的芯部特征。修整量指示待從芯部特征的豎直定向表面移除的平均厚度量。修整輪廓指示，從芯部特征的豎直定向表面的厚度移除的變化的多少被應(yīng)用作為晶片上的徑向位置的函數(shù)。第一組數(shù)據(jù)將修整量與一或多個(gè)等離子...

2025-08-26
使用氣隙私鑰簽署交易的系統(tǒng)和方法

本發(fā)明涉及使用氣隙私鑰簽署交易的系統(tǒng)和方法。一種用于簽署交易的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括第一模塊，該第一模塊具有：與公共網(wǎng)絡(luò)的通信接口；控制器，其被配置為處理與區(qū)塊鏈網(wǎng)絡(luò)或在所述公共網(wǎng)絡(luò)可訪問的交易服務(wù)器的交易。所述系統(tǒng)還包括第二模塊，該第二模塊具有...

2025-08-26
烤面包機(jī)

本發(fā)明涉及一種烤面包機(jī)，其包含：殼體；一對(duì)相對(duì)的食物防護(hù)件，其位于所述殼體內(nèi)并且限定用于收納待烘烤食品的烘烤腔；一對(duì)加熱元件，其位于所述殼體內(nèi)，每個(gè)加熱元件位于所述一對(duì)食物防護(hù)件的相應(yīng)側(cè)上；以及頂蓋，其形成所述殼體的上表面，所述上表面提供具...

2025-08-26
顯示面板和包括顯示面板的顯示裝置

提供了顯示面板和包括顯示面板的顯示裝置。所述顯示面板包括基底，所述基底具有開口區(qū)域和至少部分地圍繞開口區(qū)域的顯示區(qū)域。顯示元件布置在顯示區(qū)域中。顯示元件包括像素電極、對(duì)電極和置于像素電極與對(duì)電極之間的中間層。多層膜包括在基底與像素電極之間的...

2025-08-26
組合梯、梯子部件和相關(guān)方法

本發(fā)明涉及組合梯、梯子部件和相關(guān)方法。本文描述了梯子和梯子部件，包括多用途的和可調(diào)的梯子。在一個(gè)實(shí)施例中，梯子包括：第一組件，該第一組件具有梯框和梯級(jí)；第二組件，該第二組件具有梯框和梯級(jí)；以及一個(gè)或多個(gè)鉸鏈，該一個(gè)或多個(gè)鉸鏈將第一組件和第二...

2025-08-26
通過鋅摻雜增強(qiáng)金屬襯里的鈍化和粘附

一種方法包括：在電介質(zhì)層上沉積阻擋層，以防止由于所述電介質(zhì)層中存在氧化物而導(dǎo)致待通過電鍍而沉積的金屬層氧化；以及在所述阻擋層上沉積摻雜的襯里層，以與待通過所述電鍍而沉積在所述襯里層上的所述金屬層結(jié)合。當(dāng)在所述電鍍之前所述襯里層的表面暴露于空...

2025-08-26
喹啉化合物及其制備和作為抗瘧疾劑的用途

公開了式(I)的化合物，以及制備此類化合物的方法：

2025-08-26
靜電卡盤濾波器箱及安裝架

使靜電卡盤RF濾波器箱與基座升降器電耦合的設(shè)備與方法。該RF濾波器箱具有接觸塊以及位于該RF濾波器箱的外配合表面上的至少一對(duì)準(zhǔn)特征。該接觸塊包含自對(duì)準(zhǔn)電連接器，以及該對(duì)準(zhǔn)特征被設(shè)置成將自對(duì)準(zhǔn)電連接器與該基座升降器的架上的對(duì)應(yīng)電連接器對(duì)準(zhǔn)，使...

2025-08-26
用于液體分配器的導(dǎo)管、其制造方法及其用途

一種用于液體分配器(1)的導(dǎo)管，其包括用于承載液體的管道(20)和用于加熱至少一段管道(20)的加熱裝置(19)。加熱裝置包括用于將加熱裝置(19)固定到管道(20)的部件(31)。部件(31)是沿著管道(20)的至少一段長(zhǎng)度在管道(20)...

2025-08-26
烹飪意式面食的方法

本發(fā)明涉及一種烹飪意式面食(2)的方法。該意式面食(2)具有相對(duì)于所述意式面食(2)的重量為至少20重量％的含水量；含水量百分比與在實(shí)施該方法之前的意式面食(2)有關(guān)；所述方法包括：水供給步驟，在所述水供給步驟期間，將給定量的液態(tài)水供給到裝...

2025-08-26
預(yù)測(cè)在熱蝕刻與原子層蝕刻中的蝕刻特性

使用機(jī)器學(xué)習(xí)模型預(yù)測(cè)熱蝕刻反應(yīng)中的蝕刻。使用量子力學(xué)模擬來識(shí)別給定熱蝕刻反應(yīng)的一或多個(gè)反應(yīng)路徑中的蝕刻工藝的化學(xué)特性和相關(guān)能量。指示蝕刻特性的標(biāo)簽可與給定熱蝕刻反應(yīng)的化學(xué)特性和相關(guān)能量相關(guān)聯(lián)。機(jī)器學(xué)習(xí)模型可使用化學(xué)特性和相關(guān)能量作為自變量以...

2025-08-26
抗趨化因子樣受體1抗體及其治療應(yīng)用

本發(fā)明涉及抗趨化因子樣受體1抗體及其治療應(yīng)用。本發(fā)明提供了對(duì)消退素E1和CMKLR1之間的相互作用具有激動(dòng)劑能力的抗CMKLR1化合物，及其在治療或預(yù)防疾病(特別是炎癥消退被延遲或破壞的疾病)中的用途。

2025-08-26
一種部署虛擬機(jī)和容器的方法及裝置

本申請(qǐng)實(shí)施例公開了一種部署虛擬機(jī)和容器的方法及裝置，用于實(shí)現(xiàn)在MEC系統(tǒng)中既可以容器部署又可以VM部署。所述方法包括：統(tǒng)一編排功能實(shí)體接收部署請(qǐng)求，根據(jù)部署請(qǐng)求，確定應(yīng)用程序的部署方式為容器部署或者VM部署；進(jìn)一步的，若應(yīng)用程序的部署方式為...

2025-08-26
碳膜的原子層沉積

使用具有鋁?碳鍵的含鋁反應(yīng)物(例如三烷基鋁)與具有碳?鹵素鍵的含碳反應(yīng)物(例如碳氟化合物，例如，CF₄或CH₂F₂)之間的反應(yīng)，通過原子層沉積將碳膜沉積在半導(dǎo)體襯底上。該方法...

2025-08-26
基板、液晶天線和高頻裝置

本發(fā)明提供一種能夠降低高頻信號(hào)的介電損耗且能夠在寬溫度區(qū)域穩(wěn)定地使用的基板。本發(fā)明涉及一種基板，20℃、10GHz下的介電損耗角正切(A)為0.1以下，20℃、35GHz下的介電損耗角正切(B)為0.1以下，并且由{?40～150℃的任意溫...

2025-08-26

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