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								      本發明公開了一種真空鍍膜機用工件載架及真空鍍膜機，工件載架包括公轉軸和轉動安裝在公轉軸上的公轉架，公轉架上安裝有多根用于連接安裝工件的自轉軸，自轉軸通過擺動機構以能擺動的方式安裝在公轉架上，各自轉軸與公轉軸之間設有在公轉架轉動時驅使自轉軸同...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及一種雙腔室濺射鍍膜設備，包括機架，機架上設置有裝載腔室、鍍膜腔室，裝載腔室和鍍膜腔室之間設置有轉運裝置，鍍膜腔室上設置有A加熱裝置、載臺、清洗單元、鍍膜單元，鍍膜腔室還與A冷卻單元、A抽真空單元、A氣體單元相連接；裝載腔室內設...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請公開一種門窗玻璃鍍膜裝置，屬于門窗玻璃加工技術領域，其包括傳送箱，傳送箱的頂部固定安裝有磁控鍍膜箱，傳送箱的頂部位于磁控鍍膜箱的一側固定安裝有真空鍍膜箱，傳送箱內部位于磁控鍍膜箱的下方固定安裝有電動滑軌，電動滑軌的滑動端滑動連接有電動...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種非晶硅膜的制備方法，包括：將基體置于真空室內，并在所述真空室內的壓力為10?4Pa的條件下，對所述基體的表面進行清洗處理；對清洗后的基體進行加熱處理，并向所述真空室內通入硅烷氣體和稀薄氣體；利用高頻硅源...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種DLC膜的柔化處理方法，將待處理的DLC膜樣品放入真空腔室內，將所述真空腔室進行抽真空，通過濺射系統將濺射氣體注入所述真空腔室中，其中，濺射氣體包括氬氣，再將氦氣注入所述真空腔室內，使得氦氣分子透過DLC膜，影響其內部結構，...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及真空鍍膜設備技術領域，尤其涉及一種用于真空鍍膜的快速夾持裝置。技術問題：現有的真空鍍膜設備，通常采用基板放置工件材料在真空箱內，由于鍍膜工件的種類不同，使得基板與工件之間的不匹配，導致的鍍膜不均勻，影響鍍膜質量的問題。技術方案...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明提供一種圓形焊帶的鍍錫裝置，包括模具支架固定板和定徑模具；模具支架固定板的下方設置錫液池，模具支架固定板上從上至下依次設置有模具支架和下壓線輪，模具支架包含水平擋板，水平擋板的中部設置有第一通孔；下壓線輪靠近模具支架一側的豎向切線從第...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種真空磁控濺射薄膜鍍制設備，涉及薄膜鍍制技術領域。本實用新型包括箱體，所述箱體的正面轉動連接有箱門，所述箱體的右側開設有抽氣孔，所述箱體的右側固定連接有抽氣管，所述抽氣管與抽氣孔呈連通設置，所述箱體的頂部固定連接有電機。本...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型涉及電飯煲內膽技術領域，本實用新型公開了一種電飯煲內膽加工的氧化裝置，包括氧化槽、支腿和氧化液。本實用新型通過設置氧化槽、支腿、氧化框、攪拌機構、加熱機構、升降裝置、控制器和排料管，首先將電飯煲內膽放置氧化框內，通過控制器打開加熱...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明提供了一種復合金屬氧化物靶材及其制備方法和應用。所述的復合金屬氧化物靶材，組分包括摻雜金屬氧化物、氧化錫和氧化鈦，該靶材在降低了成本的同時，保證了穩定性，能廣泛適用于各種鍍膜技術，提升產業效率，并且提升鍍膜質量。本發明還提供了復合金屬...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及航空發動機噴涂工裝技術領域，提供一種燃燒室火焰筒大氣等離子涂層噴涂工裝，通過O型填充環封堵保護火焰筒的O型氣膜環槽，在燃燒室火焰筒大氣等離子涂層噴涂作業中，能夠使氣膜環槽間隙內無涂層和其他多余物，避免氣膜環槽間隙尺寸超差；本發明的...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種磁控鍍膜控制方法、裝置、系統及存儲介質，屬于磁控濺射鍍膜技術領域。本發明通過獲取濺射鍍膜設備的基片的膜層厚度數據，并根據膜層厚度數據確定第一均勻偏差矩陣，第一均勻偏差矩陣的每個元素對應基片上的檢測位置的勻性相對偏差值；根據第...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及掛具技術領域，具體為一種熱浸鍍鋅表面處理用吊鉤裝置，包括連接架，連接架上轉動連接有連接柱，連接柱的外壁上固定套設有連接盤，連接盤的下端面上設有用于懸掛金屬工件的吊鉤，連接架上設有用于驅動吊鉤進行轉動來提高金屬工件鍍鋅均勻度的驅動組...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了HFCVD金剛石涂層設備的鉭絲定位裝置，涉及化學氣相沉積鍍膜設備技術領域，包括工作臺和箱體，所述工作臺上安裝有箱體，所述箱體內壁兩側內壁上安裝有支撐板，所述支撐板和箱體的上箱蓋之間安裝有滾珠絲杠和導桿，本實用新型通過支撐板、...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明涉及一種熱鍍鋅板生產用設備氣刀刀唇吹氣寬度調整裝置及方法，屬于冶金專用裝備技術領域。技術方案是：驅動機構驅動封閉彈性鋼帶（21）沿縫隙（29）橫向往復移動，同時帶動三角狀封閉銅塊（19）和封閉銅塊尾接頭（20）分別沿氣刀刀唇內腔（28...
								
        
							
        
							
						
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								      本申請實施例涉及光伏技術領域，并提供一種載舟及加工設備。該載舟包括多個激勵電極板、多個接地電極板、兩個接地側板以及多個絕緣結構。多個激勵電極板用于與激勵電源連接。沿第一方向上，每個接地電極板與一個激勵電極板交替且間隔排布。每相鄰的激勵電極板...
								
        
							
        
							
						
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								      一種模塊化的原子層沉積制程設備，包括一制程載架、一傳送載架、一制程腔體、一或多個原子層沉積模塊及一搬移載具。該制程載架包括多個沿著一高度方向排列設置的第一架體及多個分別由該第一架體限定出的第一放置空間。該傳送載架包括多個第二架體及多個分別由...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明公開了一種用于真空鍍膜機的工件載架及真空鍍膜機，工件載架包括公轉軸和轉動安裝在公轉軸上的公轉架，公轉架上安裝有多根用于連接安裝工件的自轉軸，自轉軸的軸線沿公轉架徑向方向延伸，各自轉軸與公轉軸之間設有在公轉架轉動時驅使自轉軸同步轉動的聯...
								
        
							
        
							
						
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								      本實用新型公開了一種蒸鍍設備，所述蒸鍍設備包括：坩堝；主蓋板，所述主蓋板蓋覆在所述坩堝的開口處，所述主蓋板包含有若干間距設置的子蓋板，所述子蓋板沿所述第一方向可移動地設在所述主蓋板上；噴嘴，所述噴嘴設于所述子蓋板，并用于噴出蒸鍍材料，且所述...
								
        
							
        
							
						
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								      本發明屬于碳化硅領域，具體涉及一種碳化硅涂層材料氣相沉積工藝方法，以純化預處理后的石墨作為石墨基材進行沉積，所述沉積包括以下步驟：將石墨基材置于氣相沉積腔爐的爐膛內；整個氣相沉積爐依次用氬氣和氫氣沖洗；向沖洗后的氣相沉積腔爐的爐膛內充入氫氣...
								
        
							
        
							
						
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