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          攝影電影;光學設備的制造及其處理,應用技術
          • 本發明涉及一種PCB用溶劑性感光干膜丙烯酸樹脂及其制備方法,屬于感光干膜的技術領域。一種PCB用溶劑性感光干膜丙烯酸樹脂包括以下組分:改性丙烯酸樹脂、改性白炭黑、反應單體、光引發劑、抗氧化劑、消泡劑和去離子水;本發明所制備的PCB用溶劑性感...
          • 本發明提供一種串行全息編碼相位調制方法,所述方法包括:將偏振方向為45°的線偏振激光束采用第一空間光調制器在第一偏振方向上進行調制,以形成第一調制光束;將第一調制光束采用第二空間光調制器在垂直于第一偏振方向的第二偏振方向上進行調制,以形成第...
          • 公開了一種目標布置,所述目標布置包括第一目標區域和第二目標區域,所述第一目標區域至少具有第一節距且至少具有第二節距,所述第二目標區域至少具有第三節距,其中,所述第一目標區域的具有第二節距的部分與所述第二目標區域的一部分重疊。
          • 一種掩模基版及其制造方法、掩模板的制造方法,該掩模基版包括掩模襯底、掩模材料層、防散射層和電刻膠層,掩模材料層形成在掩模襯底表面上,防散射層形成在掩模材料層的表面,且防散射層由低原子序數元素形成,電刻膠層形成在防散射層的表面。本發明可以減少...
          • 本申請涉及半導體制造技術領域,具體公開了一種消除掩膜版非目標圖形散射缺陷的方法。該方法包括以下步驟:在硅片表面涂覆光刻膠,將開設有目標圖形的掩膜版置于光刻機中,設置初始曝光光束尺寸,對涂覆有光刻膠的硅片進行曝光、顯影處理,得到具有光刻圖形的...
          • 本申請涉及一種雙面曝光的背面對位方法,裝置和曝光設備,能夠實現不同規格板材的高精度雙面對準,包括如下步驟:在板材A面曝光時,獲取在A面上個標記點的正面實際坐標以及在B面上靶標的背面實際坐標;在A面曝光完成并翻板后;獲取背面對準組件采集到的標...
          • 本發明提供了含有蒽甲基季銨鹽光敏劑的感光樹脂組合物及其應用,該光敏劑的結構主體蒽環在10和/或9位上引入季銨基團取代的亞甲基,平衡陰離子采用的是酸根或鹵素;相比于市售的蒽類光敏劑,該光敏劑在保留了光漂白性前提下,通過季銨鹽的引入使其兼具優異...
          • 根據本公開實施例的攝像頭組件,包括:固定板,固定在攝像頭組件的外殼上;可移動基板,設置在固定板上方,在垂直于鏡頭的光軸的方向上相對于固定板可移動;圖像傳感器,布置在可移動基板上,用于感測從鏡頭輸出的光;第一致動器,布置在沿與鏡頭的光軸正交的...
          • 一種轉折式相機模塊及電子裝置,轉折式相機模塊包含固定載體、反射元件、第一透鏡組、第二透鏡組、電子感光元件。反射元件用于將轉折式相機模塊的成像光線由入光軸轉折至出光軸,反射元件固定于固定載體,且反射元件包含入光面以及出光面。第二透鏡組與第一透...
          • 本公開為一種感光性元件卷,其是將具有(A)支承薄膜和(B)包含感光性樹脂組合物的感光性樹脂層的感光性元件卷繞而成的感光性元件卷,前述(A)支承薄膜的平均厚度為27μm以上,前述(B)感光性樹脂層的平均厚度為150μm以上,前述感光性樹脂組合...
          • 本申請涉及一種具有LCD屏旋轉功能的投影儀,包括:機殼;LCD屏組件,轉動安裝于機殼內;所述LCD屏組件包括LCD屏、框架、壓片和擋片;所述LCD屏安裝于框架內;所述壓片安裝于框架頂部,并與框架頂部形成間隙;所述擋片安裝于框架頂部的側面;F...
          • 本發明涉及眼動跟蹤技術領域,具體涉及一種眼動跟蹤系統的光學仿真方法,該方法包括:根據系統需求對相機及紅外補光燈選型;根據選型結果,建立相機光學系統及紅外LED照明模型;根據系統需求,對相機及紅外補光燈光學布局進行初排;分別對相機成像光路與紅...
          • 本公開是關于一種光學模組、攝像頭及電子設備,光學模組包括第一鏡片組、第二鏡片組和第三鏡片組,第一鏡片組設置于物面端,第三鏡片組設置于像面端,第二鏡片組設置在第一鏡片組和第三鏡片組之間。其中,光線依次經過第一鏡片組、第二鏡片組和第三鏡片組后在...
          • 提供用于檢測倍縮光罩上的缺陷的系統及方法。一種系統經配置用于基于針對晶片上的不同行中的第一經圖案化區域產生的圖像來產生所述不同行中的所述第一經圖案化區域的多個例子的不同經堆疊差異圖像。所述系統還經配置用于基于所述不同經堆疊差異圖像執行雙重檢...
          • 本發明提供了一種芳族縮合二元聚合物或三元聚合物化合物,其具有1, 500至30, 000的重均分子量,并且是通過雜芳族化合物、環戊酮衍生物和芳族化合物在酸催化劑條件下的縮合反應形成的。還提供了一種抗反射抗蝕劑底層膜組合物,其包含:(i)所述...
          • 描述了一種量測系統。超構表面用于替換(或增強)現有多路分解器,以減少量測系統中多路分解器的體積。超構表面被配置為接收來自輻射源的衍射輻射束,并且將該束分離成較窄帶輻射子束,與入射波長范圍、振幅、脈沖頻率、脈沖時間、一個或多個偏振態、角度內容...
          • 本申請公開了一種鏡筒、攝像模組及鏡筒制造方法,鏡筒用于攝像模組,其包括:一體成型的鏡筒本體,鏡筒本體包括磁性部以及用于承載鏡片的安裝孔,磁性部具有磁性。本申請的鏡筒,通過將磁性部集成到鏡筒本體中,省去了在鏡頭上額外安裝磁石的步驟,同時避免了...
          • 根據本公開的示例實施例提供了與工藝參數有關的方法、設備和介質。該方法包括獲取測試圖案和針對所述測試圖案的參考工藝窗口。參考工藝窗口指示一個或多個工藝參數的范圍。該方法還包括基于參考工藝窗口,確定利用所述測試圖案進行光刻而形成的第一仿真圖案。...
          • 本實用新型涉及一種測試掩模板。所述測試掩模板包括第一遮光圖案、至少一個第二遮光圖案以及透光區,第一遮光圖案設置于測試掩模板的邊界且限定出測試掩模板內部,第一遮光圖案包括圍成矩形的四個第一遮光條,第二遮光圖案排布于測試掩模板的內部,第二遮光圖...
          • 公開了一種優化用于感興趣參數數據的權重的方法。該方法包括:獲得與光刻過程相關的感興趣參數數據和參考數據,優化權重使得對所述感興趣參數數據應用該權重改善了光刻過程在參考參數方面的性能;以及約束該優化以懲罰平均參考數據的變化。
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