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          攝影電影;光學設備的制造及其處理,應用技術
          • 本發明涉及光刻機基座技術領域,公開了一種光刻機專用防微震基座,包括:兩個水泥基座,還包括:第一水泥殼,位于水泥基座一側;第一隔離模塊,位于第一水泥殼內;下面板,固定在第一水泥殼上方;加筋板件,固定在下面板上方,用于起到支撐的作用;上面板,固...
          • 本發明提供了一種抗靜電顯影劑及其制備方法與應用,制備方法包括:向負性顯影劑中加入易溶于有機溶劑的離子液體,并攪拌至預設時長,得到抗靜電顯影劑。本發明提供的抗靜電顯影劑及其制備方法與應用,通過向負性顯影劑中加入易溶于有機溶劑的離子液體,并攪拌...
          • 一種用于提供照明光束的照明系統。照明系統包括激發光源、熒光輪以及濾光輪。激發光源用于發出激發光束。熒光輪設置在激發光束的傳遞路徑上,用于將激發光束轉換為轉換光束,轉換光束傳遞至濾光輪。濾光輪包括三個區域,每一區域具有120度的圓心角,每一區...
          • 本實用新型涉及調制器技術領域,具體為一種鈮酸鋰薄膜電光調制器,包括調制器芯片和管殼,所述調制器芯片封裝在管殼內部,且調制器芯片是基于薄膜鈮酸鋰材料研制出的芯片,所述調制器芯片外部支撐有散熱固定座,所述管殼外部對稱裝配有RF射頻接頭一和RF射...
          • 本申請公開了一種光學引擎及投影設備,屬于投影技術領域。所述光學引擎包括:光調制器件和吸光件。光調制器件用于將激光光源提供的照明光束調整為影像光和無效光,并將影像光導向投影鏡頭,且將無效光導向吸光件。吸光件具有多個吸光腔,多個吸光腔在第一方向...
          • 本實用新型公開了一種投影儀散熱結構,包括光機殼體、光學組件和第一散熱組件。光機殼體的腔體內設置有第一隔板,第一散熱組件包括設置于光機殼體腔體內的第一風扇。其中,第一隔板設置于第一風扇風路的下游,以引導第一風扇的風吹向顯示屏;第一隔板的一側設...
          • 本申請涉及半導體技術領域,提供了一種光刻圖形化晶圓的TEM樣品制備方法。該方法包括:在光刻圖形化晶圓的待處理TEM樣品的表面上制備一層氧化層,得到第一TEM樣品;對第一TEM樣品的表面進行液態膠灌注及室溫固化處理,以在氧化層的表面上形成一層...
          • 一種流體處理系統,包括配置成將液體至少部分限制在最終元件與襯底之間的浸沒空間的流體處理結構,其中,所述流體處理結構包括:多個氣刀隔室和多個氣體供應隔室,其中,至所述氣刀隔室和所述氣體供應隔室中的每個的氣體流量可以由對應的可變流量閥單獨地控制...
          • 本申請公開了一種激光器和投影設備,屬于光電技術領域。所述激光器包括:一面具有開口的管殼,以及位于管殼的容置空間中且排布成多行多列的多個發光組件;發光組件包括發光芯片和反射棱鏡,發光芯片用于向反射棱鏡發出激光,反射棱鏡用于將激光反射至開口;該...
          • 本發明實施例公開了一種三維套刻標記和套刻誤差測量設備測校方法。三維套刻標記包括基板以及位于基板上的多個套刻標記;多個套刻標記中,任意兩個套刻標記在第一平面上的垂直投影的高度不同;第一平面垂直于基板所在平面。由于套刻標記在第一平面延伸方向的高...
          • 本發明提供一種用于光刻材料在不同設備上運輸的標準SMIF設備,包括:背板,其上設有取料口;升降模組,設置在背板的側面上;盒蓋支撐平臺,設置在背板的側面,與升降模組連接,沿背板升降設置;盒蓋支撐平臺的中部設有上料口;盒體支撐平臺,設置在上料口...
          • 本實用新型涉及攝像技術領域,尤其為一種相鄰光圈檔位可等角度調節的可變光圈,包括角度可調的可變光圈組件,所述角度可調的可變光圈組件的上側設置有驅動環,所述驅動環內側設置有軌跡槽,所述驅動環的下側設置有固定座,所述固定座的內側一周分別開設有定位...
          • 本實用新型公開了一種便于拆卸的線路板顯影機用底座,包括線路板顯影機,所述線路板顯影機下端左部和下端右部均安裝有兩個萬向輪,所述線路板顯影機上端左部安裝有操作臺,所述線路板顯影機上端中部穿插安裝有安裝裝置,所述安裝裝置上端安裝有防護裝置,所述...
          • 本文公開了一種用于光刻設備的流體處理系統,其中,所述流體處理結構被配置成將液體至少部分地限制到所述光刻設備的投影系統的最終光學元件與襯底之間的浸沒空間,所述光刻設備的投影系統被配置成將經圖案化的束投影在所述襯底上,所述流體處理結構包括:多個...
          • 本發明提供一種基于掩膜圖案密度的顯影方法及裝置,涉及半導體領域,其方法包括:獲取待顯影晶圓每層掩膜中若干預設區域的掩膜圖案密度,其中,所述預設區域至少表征每層掩膜中圖案分布最密集的區域;在任一所述預設區域的掩膜圖案密度不小于預設閾值的情況下...
          • 公開了一種方法,其包括以下步驟:以圖像方式曝光可成像膜,所述可成像膜包括載體片材和可成像層,將所述成像膜層合至可成像制品,使可成像制品暴露于固化輻射,由此形成成像制品;從所述成像制品移除所述成像膜以及顯影所述成像制品以形成浮雕圖像。所述方法...
          • 本發明涉及氣浮結構制造技術領域,特別涉及一種動態傾斜補償的雙軸氣浮平臺,包括用于放置定位玻璃基板的基板平臺,設置于基板平臺底端的微動裝置,以及用于調節氣浮機構平整度的X軸動態補償調節裝置和Y軸動態補償調節裝置,Y軸動態補償調節裝置分別與微動...
          • 本發明公開了一種船舶推進控制系統及方法,涉及船舶工程技術領域,包括采集模塊用于采集船舶推進時的模擬量信號,主控制器模塊用于接收模擬量信號,并生成推進控制指令,船舶推進控制系統的主控制器內部還集成有雙采單元、回檢單元、備切單元和自檢單元進行故...
          • 公開了一種用于處理計算機生成的全息圖(CGH)的方法和系統。用于處理CGH的系統包括CGH生成裝置和顯示裝置。所述CGH生成裝置重復地執行將對象數據從第一深度層傳播到第二深度層,將所述對象數據的振幅數據改變為第二預定振幅數據,將所述對象數據...
          • 本實用新型屬于一次性紙碗技術領域,具體為一種分隔式一次性紙碗,包括紙碗主體,還包括兩個分隔碗,對稱設置在紙碗主體內,分隔碗包括與紙碗主體內壁固連的連接板,且連接板側面兩端設有折疊板,折疊板與移動板固連,連接板、折疊板和移動板底端與折疊底板固...
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